设计光掩模的布局的方法以及制造光掩模的方法

    公开(公告)号:CN109656093A

    公开(公告)日:2019-04-19

    申请号:CN201811060653.3

    申请日:2018-09-12

    Abstract: 一种设计光掩模的布局的方法和制造光掩模的方法,该设计光掩模的布局的方法包括:获得掩模图案的设计布局;对设计布局执行光学邻近校正以获得设计数据;获得在根据设计数据曝光光掩模期间出现的图案的位置误差数据;基于位置误差数据来校正图案的位置数据以校正设计数据;以及将经校正的位置数据提供给曝光设备以根据经校正的设计数据用曝光光束来曝光衬底。

    设计光掩模的布局的方法以及制造光掩模的方法

    公开(公告)号:CN109656093B

    公开(公告)日:2024-04-02

    申请号:CN201811060653.3

    申请日:2018-09-12

    Abstract: 一种设计光掩模的布局的方法和制造光掩模的方法,该设计光掩模的布局的方法包括:获得掩模图案的设计布局;对设计布局执行光学邻近校正以获得设计数据;获得在根据设计数据曝光光掩模期间出现的图案的位置误差数据;基于位置误差数据来校正图案的位置数据以校正设计数据;以及将经校正的位置数据提供给曝光设备以根据经校正的设计数据用曝光光束来曝光衬底。

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