公开(公告)号：CN111715584B

公开(公告)日：2023-10-31

申请号：CN202010200041.0

申请日：2020-03-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔承勋 ,  具滋应 ,  N·U·金 ,  徐贤教 ,  严泰民 ,  尹普彦 ,  郑润澈

IPC: B08B3/02 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种衬底清洁设备和包括其的衬底处理系统。所述衬底清洁设备包括支承衬底的衬底支架、摆动体、头部、第一清洁液体供应结构和第二清洁液体供应结构。摆动体在衬底的主表面上沿着扫描线移动。头部耦接至摆动体，并且包括面对衬底支架的垫附接表面。第一清洁液体供应结构耦接至摆动体，并且将第一清洁液体喷洒至衬底的主表面上。第二清洁液体供应结构将第二清洁液体喷洒至衬底的主表面上。缓冲垫附接于垫附接表面。

公开(公告)号：CN111715584A

公开(公告)日：2020-09-29

申请号：CN202010200041.0

申请日：2020-03-20

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 崔承勋 ,  具滋应 ,  N·U·金 ,  徐贤教 ,  严泰民 ,  尹普彦 ,  郑润澈

IPC: B08B3/02 ,  B08B13/00 ,  H01L21/67

Abstract: 提供了一种衬底清洁设备和包括其的衬底处理系统。所述衬底清洁设备包括支承衬底的衬底支架、摆动体、头部、第一清洁液体供应结构和第二清洁液体供应结构。摆动体在衬底的主表面上沿着扫描线移动。头部耦接至摆动体，并且包括面对衬底支架的垫附接表面。第一清洁液体供应结构耦接至摆动体，并且将第一清洁液体喷洒至衬底的主表面上。第二清洁液体供应结构将第二清洁液体喷洒至衬底的主表面上。缓冲垫附接于垫附接表面。