公开(公告)号：CN101008780A

公开(公告)日：2007-08-01

申请号：CN200610137446.4

申请日：2006-10-25

Applicant: 三星电子株式会社

Inventor： 尹盛泽 ,  朴湧基 ,  许龙九

IPC: G03F1/14 ,  G02F1/1333 ,  G02F1/1335 ,  G03F7/20 ,  G02B5/23

CPC classification number: G02B5/223 ,  G02B5/201 ,  G03F1/36

Abstract: 本发明提供了一种适合于形成用于补偿反射区与透射区之间的色彩再现差异的滤色器的曝光掩模、使用其制备的液晶现实装置及制造液晶显示装置的方法，其中该曝光掩模包括：第一区，通过控制入射光引起一部分薄膜保持为薄膜图案；第二区，通过与所述第一区相反地控制入射光而除去薄膜的其他部分；和虚拟区，从所述第一区的边缘延伸并形成为使得所述薄膜图案基本相应于第一区。