形成光学邻近校正模型的方法和制造半导体装置的方法

    公开(公告)号:CN115933319A

    公开(公告)日:2023-04-07

    申请号:CN202210805477.1

    申请日:2022-07-08

    Abstract: 公开了一种形成光学邻近校正(OPC)模型的方法和/或一种使用该OPC模型制造半导体装置的方法。形成OPC模型的方法可包括:获得扫描电子显微镜(SEM)图像和图形数据系统(GDS)图像,SEM图像是使用一个或多个扫描电子显微镜拍摄的多个图像的平均图像,GDS图像是通过对设计的布局成像获得的;将SEM图像和GDS图像对齐;对SEM图像执行图像滤波处理;从SEM图像提取轮廓;以及对轮廓进行验证。可使用遗传算法来执行轮廓的验证。遗传算法中的变量可包括与图像对齐处理有关的第一参数、与图像滤波处理有关的第二参数和与临界尺寸(CD)测量处理有关的第三参数。

    通信设备、包括其的电子设备以及电子设备的操作方法

    公开(公告)号:CN115378469A

    公开(公告)日:2022-11-22

    申请号:CN202210546315.0

    申请日:2022-05-18

    Abstract: 提供了一种通信设备。该通信设备包括:天线;与天线连接的匹配电路;发送器,被配置为生成发送通信信号并通过匹配电路向天线提供发送通信信号;连接在匹配电路和天线之间的滤波器;以及接收器,被配置为通过滤波器从天线接收衰减信号。滤波器被配置为通过天线信号的对应于通带的频率并衰减天线信号的对应于阻带的频率,并且发送通信信号的中心频率对应于滤波器的阻带。

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