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公开(公告)号：CN117604497A
公开(公告)日：2024-02-27
申请号：CN202310332251.9
申请日：2023-03-30
Applicant: 三星电子株式会社
IPC: C23C16/455 , C23C16/44 , H01L21/67
Abstract: 可以提供一种用于处理衬底的装置，该装置包括反应腔室、工作台、喷头、第一外环和第二外环。工作台可以布置在反应腔室中以支撑衬底。喷头可以布置在反应腔室中以向衬底提供反应气体。第一外环可以被配置为围绕工作台的上表面的边缘部分。第一外环可以包括至少一个对准槽。第二外环可以被配置为围绕第一外环。第二外环可以包括被配置为插入到对准槽中的至少一个对准销。第一外环和第二外环可以在其间限定具有均匀宽度的主吹扫通道以提高反应气体的排放效率。
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