公开(公告)号：CN116149128A

公开(公告)日：2023-05-23

申请号：CN202310185486.X

申请日：2015-08-03

申请人： 三星显示有限公司 ,  延世大学校产学协力团

发明人： 孙龙 ,  姜珉 ,  金奉演 ,  李贤珠 ,  孔香植 ,  周振豪 ,  金敬植 ,  白承化

IPC分类号： G03F1/26 ,  G03F1/32 ,  G03F1/56

摘要： 提供用于光刻的掩模、制造其的方法和利用其制造基底的方法。用于光刻的掩模包括：透明基底；相移图案，位于透明基底上并被构造为改变光的相位；介电层，位于透明基底上；以及负折射率超材料层，位于介电层上。

公开(公告)号：CN105319833A

公开(公告)日：2016-02-10

申请号：CN201510479333.1

申请日：2015-08-03

申请人： 三星显示有限公司 ,  延世大学校产学协力团

发明人： 孙龙 ,  姜珉 ,  金奉演 ,  李贤珠 ,  孔香植 ,  周振豪 ,  金敬植 ,  白承化

IPC分类号： G03F1/26 ,  G03F1/56

CPC分类号： G03F1/26 ,  G03F1/32 ,  G03F1/50

摘要： 提供用于光刻的掩模、制造其的方法和利用其制造基底的方法。用于光刻的掩模包括：透明基底；相移图案，位于透明基底上并被构造为改变光的相位；介电层，位于透明基底上；以及负折射率超材料层，位于介电层上。