掩模框架和沉积设备
    1.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114481019A

    公开(公告)日:2022-05-13

    申请号:CN202111218536.7

    申请日:2021-10-20

    Inventor: 李钟奫 李丞赈

    Abstract: 本公开涉及一种掩模框架和一种沉积设备。所述掩模框架包括:支撑基底,包括多个内侧表面,所述多个内侧表面限定穿过所述支撑基底的第一开口;散热板,设置在所述多个内侧表面上以及多个固定部分,设置在所述支撑基底与所述散热板之间,所述多个固定部分中的每一个包括将所述支撑基底附接到所述散热板的多个粘合部分和穿过所述固定部分限定的邻近于所述多个粘合部分的多个第二开口。

    掩模框架组件
    2.
    发明授权

    公开(公告)号:CN111244328B

    公开(公告)日:2025-04-18

    申请号:CN201911141365.5

    申请日:2019-11-20

    Inventor: 李钟奫 金宗范

    Abstract: 提供了一种掩模框架组件。所述掩模框架组件包括:平台,提供有具有顶表面的座部分;框架,位于座部分上,并具有与座部分的顶表面接触的底表面;以及掩模,位于框架上。座部分的顶表面和框架的底表面中的至少一个是不平坦的表面。

    掩模框架组件
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111244328A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201911141365.5

    申请日:2019-11-20

    Inventor: 李钟奫 金宗范

    Abstract: 提供了一种掩模框架组件。所述掩模框架组件包括:平台,提供有具有顶表面的座部分;框架,位于座部分上,并具有与座部分的顶表面接触的底表面;以及掩模,位于框架上。座部分的顶表面和框架的底表面中的至少一个是不平坦的表面。

    显示面板
    4.
    发明公开
    显示面板 审中-公开

    公开(公告)号:CN119730616A

    公开(公告)日:2025-03-28

    申请号:CN202411208839.4

    申请日:2024-08-30

    Abstract: 本发明的显示面板可以包括:基底层;像素界定膜,配置在所述基底层上,并具有发光开口部;分隔壁,配置在所述像素界定膜上,并具有与所述发光开口部重叠的分隔壁开口部;以及发光元件,包括阳极、中间层以及与所述分隔壁接触的阴极。所述分隔壁开口部可以包括:第一内侧面以及第三内侧面,沿与第一方向平行的方向延伸;第二内侧面以及第四内侧面,沿与交叉于所述第一方向的第二方向平行的方向延伸;第一边角区域;第二边角区域;第三边角区域;以及第四边角区域。

    用于制造显示装置的装置

    公开(公告)号:CN221979462U

    公开(公告)日:2024-11-08

    申请号:CN202420396838.6

    申请日:2024-03-01

    Inventor: 李钟奫 鲁硕原

    Abstract: 一种用于制造显示装置的装置包括:蒸发源,包括配置以喷射沉积材料的喷嘴;第一框架,布置在所述蒸发源上,并且所述第一框架中限定有沟槽;以及第一角度限制板,布置在所述第一框架的所述沟槽中,并且所述第一角度限制板中限定有多个狭缝,其中所述沟槽在所述第一框架的长度方向上延伸。

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