基板处理装置以及利用其的基板处理方法

    公开(公告)号:CN114121588A

    公开(公告)日:2022-03-01

    申请号:CN202110964632.X

    申请日:2021-08-20

    Abstract: 公开一种基板处理装置及利用其的基板处理方法。基板处理装置包括:真空腔体;支承部,配置在所述真空腔体的内部,并支承被安装的基板;导流部,控制所述真空腔体内的气流;引导配管,与所述真空腔体连接而向外部引导所述真空腔体的内部的包括工序副产物和气体的异物质;泵,配置于所述引导配管而向外部排出所述异物质;以及异物反射部件,配置在所述导流部与所述引导配管的流入口之间,将所述气体和所述工序副产物因所述泵的螺旋桨被溅射的溅射异物反射到所述引导配管的流入口。由此,可以通过在导流部与引导配管的流入口之间配置异物反射部件,阻断因涡轮分子泵的螺旋桨引起的溅射异物从所述引导配管的流入口再次流入真空腔体的内部。

    清洁基板的设备
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104646337A

    公开(公告)日:2015-05-27

    申请号:CN201410652798.8

    申请日:2014-11-17

    CPC classification number: B08B3/022

    Abstract: 本发明提供一种清洁基板的基板清洁设备。该基板清洁设备包括清洁腔、第一清洁喷嘴、盖构件、气流产生单元以及排气单元。主清洁腔具有清洁空间并包括侧壁,基板在清洁空间中被清洁,第一排气孔限定在侧壁中。第一清洁喷嘴设置在主清洁腔中以喷射第一清洁液。盖构件覆盖主清洁腔并具有其中限定第二排气孔的一侧。气流产生单元通过第一排气孔将空气供给到清洁空间中。排气单元被联接到盖构件的该一侧以通过第二排气孔抽吸并排放供给到清洁空间的空气。

    制造装置和使用该制造装置的制造方法

    公开(公告)号:CN113257710A

    公开(公告)日:2021-08-13

    申请号:CN202110155132.1

    申请日:2021-02-04

    Abstract: 提供一种制造装置和制造方法。制造装置包括腔室和设置在腔室中的平台。平台包括:上表面,在该上表面上设置目标基板;与上表面相对的下表面;第一侧表面,在上表面与下表面之间在第一方向上延伸;以及第二侧表面,在上表面与下表面之间在垂直于第一方向的第二方向上延伸。第一侧表面形成为圆形,并且第一侧表面的至少一部分朝向平台的外侧凸出。

    涂覆装置
    5.
    发明授权

    公开(公告)号:CN104043566B

    公开(公告)日:2018-06-08

    申请号:CN201310681276.6

    申请日:2013-12-12

    CPC classification number: C23C16/00 B05D1/60

    Abstract: 本发明提供一种涂覆装置。该涂覆装置包括蒸发部、热分解部、沉积室、真空泵和排气管。沉积室包括上部分、面对上部分的下部分以及将下部分和上部分彼此连接的侧壁部分,该侧壁部分包括入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。排气管包括连接到第一出口和第二出口的第一辅助管、连接到第三出口和第四出口的第二辅助管、连接到第一辅助管和第二辅助管的中间管、以及连接到中间管的主管。真空泵被配置为通过排气管从沉积室排出沉积材料的单体中的没有被沉积的部分。

    显示装置
    7.
    发明公开
    显示装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115224074A

    公开(公告)日:2022-10-21

    申请号:CN202210006733.0

    申请日:2022-01-05

    Abstract: 显示装置包括:基板;第一电极,配置于基板上;以及像素界定膜,包括:第一区域,在基板上使第一电极暴露地配置,并具有第一高度;以及第二区域,与第一区域连接,并具有比第一高度高的第二高度。

    涂覆装置
    8.
    发明公开

    公开(公告)号:CN104043566A

    公开(公告)日:2014-09-17

    申请号:CN201310681276.6

    申请日:2013-12-12

    CPC classification number: C23C16/00 B05D1/60

    Abstract: 本发明提供一种涂覆装置。该涂覆装置包括蒸发部、热分解部、沉积室、真空泵和排气管。沉积室包括上部分、面对上部分的下部分以及将下部分和上部分彼此连接的侧壁部分,该侧壁部分包括入口、第一出口、第二出口、第三出口和第四出口。排气管包括连接到第一出口和第二出口的第一辅助管、连接到第三出口和第四出口的第二辅助管、连接到第一辅助管和第二辅助管的中间管、以及连接到中间管的主管。真空泵被配置为通过排气管从沉积室排出沉积材料的单体中的没有被沉积的部分。

Patent Agency Ranking