公开(公告)号：CN107164732B

公开(公告)日：2021-10-08

申请号：CN201611076290.3

申请日：2016-11-29

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 鲁硕原 ,  金陶煐 ,  朴国喆 ,  尹振硕

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12

Abstract: 公开了沉积设备和制造显示装置的方法，制造显示装置的方法包括：提供互相面对的沉积源和衬底，沉积源包括旋转杆、与旋转杆接合并且具有用于存储沉积材料的存储单元的内部模块，以及覆盖旋转杆和内部模块并且具有与环境空气连通的出口的外壳；旋转沉积源中的旋转杆，使得与旋转杆接合的内部模块旋转；以及将通过外壳的出口排放的沉积材料施加至衬底上。

公开(公告)号：CN119530706A

公开(公告)日：2025-02-28

申请号：CN202411143197.4

申请日：2024-08-20

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 朴国喆 ,  尹日燮 ,  郑盛优

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H10K71/16

Abstract: 本申请涉及掩模框架、掩模组件和沉积设备。掩模框架包括：框架主体，支承掩模；绝缘层，阻止能量传输到框架主体；以及吸收层，吸收来自外部光的能量，其中，绝缘层设置在框架主体的第一表面和吸收层之间。

公开(公告)号：CN109321878B

公开(公告)日：2022-11-15

申请号：CN201810763398.2

申请日：2018-07-12

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 尹振硕 ,  金大容 ,  鲁硕原 ,  朴国喆 ,  曺永勳

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了用于制造显示装置的设备。用于制造显示装置的设备包括腔室、源部和掩模组件，其中，源部布置在腔室的内部，并且掩模组件布置成与源部相对，其中，源部包括坩埚、盖和喷嘴，其中，坩埚形成为其一侧被打开并且收纳沉积物质，盖与坩埚结合并且遮挡坩埚的被打开的部分，并且喷嘴与盖结合且形成有供沉积物质移动的流路，其中，喷嘴包括挡板部，挡板部布置在流路中并且形成有至少一个喷嘴贯通孔。

公开(公告)号：CN119894311A

公开(公告)日：2025-04-25

申请号：CN202411438479.7

申请日：2024-10-15

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 郑皓炼 ,  朴国喆 ,  朴信爱 ,  申世重 ,  赵世衡

IPC: H10K59/80 ,  H10K59/122

Abstract: 显示装置包括：像素电极，设置在基底上；堤层，覆盖所述像素电极的边缘并限定多个发光区域和非发光区域；发光层，设置在所述像素电极和所述堤层上；公共电极，设置在所述发光层上；盖层，设置在所述公共电极上；对基底，面对所述基底；以及光学构件，设置在所述对基底上。所述盖层包括设置在所述公共电极上的第一盖层、以及设置在所述第一盖层上并与所述多个发光区域重叠的第二盖层。

公开(公告)号：CN109321878A

公开(公告)日：2019-02-12

申请号：CN201810763398.2

申请日：2018-07-12

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 尹振硕 ,  金大容 ,  鲁硕原 ,  朴国喆 ,  曺永勳

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明公开了用于制造显示装置的设备。用于制造显示装置的设备包括腔室、源部和掩模组件，其中，源部布置在腔室的内部，并且掩模组件布置成与源部相对，其中，源部包括坩埚、盖和喷嘴，其中，坩埚形成为其一侧被打开并且收纳沉积物质，盖与坩埚结合并且遮挡坩埚的被打开的部分，并且喷嘴与盖结合且形成有供沉积物质移动的流路，其中，喷嘴包括挡板部，挡板部布置在流路中并且形成有至少一个喷嘴贯通孔。

公开(公告)号：CN107164732A

公开(公告)日：2017-09-15

申请号：CN201611076290.3

申请日：2016-11-29

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 鲁硕原 ,  金陶煐 ,  朴国喆 ,  尹振硕

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/12

CPC classification number: C23C14/243 ,  H01L51/001 ,  C23C14/24 ,  C23C14/12

Abstract: 公开了沉积设备和制造显示装置的方法，制造显示装置的方法包括：提供互相面对的沉积源和衬底，沉积源包括旋转杆、与旋转杆接合并且具有用于存储沉积材料的存储单元的内部模块，以及覆盖旋转杆和内部模块并且具有与环境空气连通的出口的外壳；旋转沉积源中的旋转杆，使得与旋转杆接合的内部模块旋转；以及将通过外壳的出口排放的沉积材料施加至衬底上。

公开(公告)号：CN106560524A

公开(公告)日：2017-04-12

申请号：CN201610246608.1

申请日：2016-04-20

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 朴国喆 ,  金陶煐 ,  鲁硕原 ,  尹振硕

IPC: C23C14/24

Abstract: 提供了沉积源及其制造方法。作为示例，沉积源包括：坩埚，配置成其上侧被开口并且将沉积物质收容在其内部；加热器，布置在所述坩埚的外侧；以及喷嘴部，配置成结合至所述坩埚的被开口的上侧，并且其内面被研磨处理。

公开(公告)号：CN112779502A

公开(公告)日：2021-05-11

申请号：CN202010558692.7

申请日：2020-06-18

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 吴守贤 ,  鲁硕原 ,  朴国喆

IPC: C23C14/24 ,  C23C14/04 ,  C23C14/12 ,  H01L51/00 ,  H01L51/56

Abstract: 本发明提供沉积源。沉积源包括：坩锅，沿一方向延伸且上侧开放；盖板，与坩埚结合且遮蔽坩埚的开放部分；及至少一个喷嘴组，包括与盖板结合且沿坩埚的延伸方向排列的多个单元喷嘴，各单元喷嘴包括：位于上侧的第一吐出口；及第一喷嘴流路，连接第一吐出口和坩埚且由单元喷嘴侧壁包围，第一喷嘴流路包括：位于下部的第一下端部；及第一上端部，与第一下端部连接且位于第一下端部的上部，第一下端部具有均匀的宽度，越靠近第一吐出口时，第一上端部的宽度会变得越宽，单元喷嘴侧壁包括：第一外侧壁，设置在第一最外围单元喷嘴的一侧；第二外侧壁，设置在第二最外围单元喷嘴的另一侧；及共用侧壁，设置在相邻的单元喷嘴之间。

公开(公告)号：CN112442656A

公开(公告)日：2021-03-05

申请号：CN202010914917.8

申请日：2020-09-03

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 朴国喆 ,  吴守贤 ,  鲁硕原

IPC: C23C14/04 ,  C23C14/24

Abstract: 沉积装置可以包括腔室、在腔室中的坩埚、覆盖坩埚的盖部件以及从盖部件突出并沿第一方向布置的2n个喷嘴(这里‘n’是正整数)。在2n个喷嘴中，第n个喷嘴和第n+1个喷嘴之间的距离可以大于第2n‑1个喷嘴和第2n个喷嘴之间的距离。

公开(公告)号：CN111834405A

公开(公告)日：2020-10-27

申请号：CN202010267677.7

申请日：2020-04-08

Applicant: 三星显示有限公司

Inventor： 吴守贤 ,  俞何岚 ,  金相烈 ,  鲁硕原 ,  朴国喆

IPC: H01L27/32

Abstract: 本申请涉及制造显示装置的方法。该制造显示装置的方法，包括：准备衬底，衬底包括显示区域和布置在显示区域中的传感器区域；在衬底上形成第一反电极，使得第一反电极在传感器区域中彼此间隔开以具有第一图案；在传感器区域中将第二反电极沉积为彼此间隔开，第二反电极具有不同于第一图案的第二图案；以及将部件布置成与传感器区域对应。