Patent search ap:("三井金属矿业株式会社") AND inv:"林俊庭" Page 1

1.

发明公开
分割溅射靶无效

公开(公告)号：CN110431252A

公开(公告)日：2019-11-08

申请号：CN201780088428.8

申请日：2017-10-27

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 三轮昌宏 , 佐佐木宏卫 , 林俊庭 , 吴信辉

IPC: C23C14/34

Abstract: 实施方式的一个方案的分割溅射靶(1)为将多个靶材(10)接合于基材(20)而形成的分割溅射靶(1)，其中，在通过将多个靶材(10)留有间隔地配置而形成的分割部(40)之中的至少一部分分割部(40)处所配置的一对靶材(10)的侧面(11)的至少一部分上分别形成有平坦面(12)，就在分割部(40)处相向的平坦面(12)彼此之间的间隔而言，最远离基材(20)的部分的间隔(Lt)比最接近基材(20)的部分的间隔(Lb)大，平坦面(12)的表面粗糙度Ra为0.3μm以下。

Patent Agency Ranking