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发明公开
靶材、靶材的制造方法及平板状靶无效

公开(公告)号：CN106460163A

公开(公告)日：2017-02-22

申请号：CN201580032190.8

申请日：2015-05-25

Applicant: 三井金属矿业株式会社

Inventor： 世良佳弘 , 石田新太郎 , 矢野智泰

IPC: C23C14/34 , B24B27/06 , B28D1/22

CPC classification number: B24B27/06 , B28D1/22 , C23C14/34

Abstract: 实施方式的靶材是平板状的陶瓷。该靶材供溅镀的溅镀面的表面粗糙度Ra为0.5μm以上1.5μm以下，且形成于溅镀面的微裂隙的最大深度为15μm以下。

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