公开(公告)号：CN1286751C

公开(公告)日：2006-11-29

申请号：CN03801622.2

申请日：2003-08-11

申请人： LG ,  电线株式会社 ,  SEOUL大学校精密机械共同设计研 ,  究所

发明人： 申亨洙 ,  崔万秀 ,  朴赞容 ,  李奉勋

IPC分类号： C03B37/018

CPC分类号： C03B37/0146 ,  C03B37/0142 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/54 ,  Y02P40/57

摘要： 本发明公开了使用外部气相沉积(OVD)法制造光纤预制棒的方法和设备，其中可以在OVD设备中连续地进行沉积和烧结处理。所述的制造设备包括垂直的机架和安装在该机架上端的烧结装置，该烧结装置用于烧结沉积在圆形靶棒上的包层。该烧结装置是氢氧焰喷灯或是采用了加热操作中不产生水或羟基(OH)的热源的加热器。所述的制造方法包括：沉积步骤，沉积喷灯在往复运动的同时在所述的圆形靶棒上沉积包层；和烧结步骤，在沉积有包层的圆形靶棒延伸穿过所述烧结装置的状况下，所述烧结装置在往复运动的同时烧结所述的包层。

公开(公告)号：CN1596226A

公开(公告)日：2005-03-16

申请号：CN03801622.2

申请日：2003-08-11

申请人： LG电线株式会社 ,  SEOUL大学校精密机械共同设计研究所

发明人： 申亨洙 ,  崔万秀 ,  朴赞容 ,  李奉勋

IPC分类号： C03B37/018

CPC分类号： C03B37/0146 ,  C03B37/0142 ,  C03B2207/06 ,  C03B2207/42 ,  C03B2207/54 ,  Y02P40/57

摘要： 本发明公开了使用外部气相沉积(OVD)法制造光纤预制棒的方法和设备，其中可以在OVD设备中连续地进行沉积和烧结处理。所述的制造设备包括垂直的机架和安装在该机架上端的烧结装置，该烧结装置用于烧结沉积在圆形靶棒上的包层。该烧结装置是氢/氧焰喷灯或是采用了加热操作中不产生水或羟基(OH)的热源的加热器。所述的制造方法包括：沉积步骤，沉积喷灯在往复运动的同时在所述的圆形靶棒上沉积包层；和烧结步骤，在沉积有包层的圆形靶棒延伸穿过所述烧结装置的状况下，所述烧结装置在往复运动的同时烧结所述的包层。