用于低成本耐用光谱仪的相关干涉测量方法、设备及系统

    公开(公告)号:CN102369421B

    公开(公告)日:2015-04-08

    申请号:CN201080013123.9

    申请日:2010-01-21

    IPC分类号: G01J3/45

    摘要: 本申请涉及用于低成本耐用光谱仪的相关干涉测量方法、设备及系统,描述了一种探测样本光谱特性的相关干涉测量光谱学设备,其包括:电磁辐射源,用于以光子激发样本;探测器,适于探测光子到达探测器的到达时间并进一步适于探测不同光子到达时间之间的延迟。该设备还可进一步包括适于分析探测器上光子到达之间延迟的自相关器。该设备也可与其他光谱探测和表征系统一起使用,例如喇曼光谱仪和衰减全反射光谱仪。此外,也提供了包含该相关干涉测量光谱学设备的方法、系统以及套件。

    近临界反射谱装置、系统和方法

    公开(公告)号:CN102460120B

    公开(公告)日:2014-07-30

    申请号:CN201080025328.9

    申请日:2010-04-07

    IPC分类号: G01N21/27 G01J3/28 G01N21/43

    摘要: 描述了针对样品临界角的光谱学设备,该设备对样品的谱特性检测,其中,该设备包括:电磁辐射源,适于用引入样品的电磁辐射以临界角或临界角附近的入射角在一位置激发样品;与电磁辐射源和样品通信的透射晶体,该透射晶体具有适于对电磁辐射进行内反射的高折射率;反射器,适于以透射晶体与样品之间的临界角或该临界角附近的入射角将电磁辐射引入样品;检测器,用于检测来自样品的电磁辐射。还提供了包含近临界反射光谱学设备的方法、系统和套件。

    用于近临界反射光谱学的方法、装置和套件

    公开(公告)号:CN101990633A

    公开(公告)日:2011-03-23

    申请号:CN200980112418.9

    申请日:2009-01-30

    IPC分类号: G01N21/25 G01N21/43 G01N21/62

    摘要: 本申请涉及用于近临界反射光谱学的方法、装置和套件。描述了面向样品的临界角的光谱设备,该设备检测样品的光谱特性,其中,设备包括:电磁辐射源,其适合于利用以处于或接近样品的临界角的入射角引入样品的电磁辐射来激发样品;适合于内反射电磁辐射的高折射率的传输晶体;反射器,其适合于将电磁辐射以处于或接近晶体与样品之间的临界角的入射角引入样品;以及检测器,其用于检测来自样品的电磁辐射。此外,这里也提供了结合近临界反射光谱设备的方法、系统和套件。

    近临界反射谱装置、系统和方法

    公开(公告)号:CN102460120A

    公开(公告)日:2012-05-16

    申请号:CN201080025328.9

    申请日:2010-04-07

    IPC分类号: G01N21/27 G01J3/28 G01N21/43

    摘要: 描述了针对样品临界角的光谱学设备,该设备对样品的谱特性检测,其中,该设备包括:电磁辐射源,适于用引入样品的电磁辐射以临界角或临界角附近的入射角在一位置激发样品;与电磁辐射源和样品通信的透射晶体,该透射晶体具有适于对电磁辐射进行内反射的高折射率;反射器,适于以透射晶体与样品之间的临界角或该临界角附近的入射角将电磁辐射引入样品;检测器,用于检测来自样品的电磁辐射。还提供了包含近临界反射光谱学设备的方法、系统和套件。

    用于低成本耐用光谱仪的相关干涉测量方法、设备及系统

    公开(公告)号:CN102369421A

    公开(公告)日:2012-03-07

    申请号:CN201080013123.9

    申请日:2010-01-21

    IPC分类号: G01J3/45

    摘要: 本申请涉及用于低成本耐用光谱仪的相关干涉测量方法、设备及系统,描述了一种探测样本光谱特性的相关干涉测量光谱学设备,其包括:电磁辐射源,用于以光子激发样本;探测器,适于探测光子到达探测器的到达时间并进一步适于探测不同光子到达时间之间的延迟。该设备还可进一步包括适于分析探测器上光子到达之间延迟的自相关器。该设备也可与其他光谱探测和表征系统一起使用,例如喇曼光谱仪和衰减全反射光谱仪。此外,也提供了包含该相关干涉测量光谱学设备的方法、系统以及套件。