一种晶圆片视觉检测设备及检测方法

    公开(公告)号:CN118655153A

    公开(公告)日:2024-09-17

    申请号:CN202410911272.0

    申请日:2024-07-09

    发明人: 吴明 陆建力

    IPC分类号: G01N21/95 G01N21/01

    摘要: 本发明公开了一种晶圆片视觉检测设备,涉及晶圆片生产领域,包括工作台,所述工作台的上方通过升降机构连接有定位框,所述定位框内侧一端设置有视觉检测机构,且定位框内侧另一端设置有进出料机构。本发明将视觉检测机构与进出料机构设置在一个共同的定位框上,还对晶圆篮做了改动,视觉检测机构与进出料机构通过定位框共同垂直升降,然后配合进出料机构的直线运动,即可对晶圆篮内的每一层晶圆片进行视觉检测,采用垂直升降检测的方式,运动行程少,运动范围小,中间消耗时间断,进一步提高了晶圆片检测的效率,而且检测机构与进出料机构始终位于同一高度,不需要在额外调整视觉检测机构的高度。

    镜头模组的生产设备
    2.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111137659A

    公开(公告)日:2020-05-12

    申请号:CN202010061839.1

    申请日:2020-01-19

    发明人: 章利炳 李青松

    摘要: 本发明涉及镜头模组技术领域,且公开了镜头模组的生产设备,包括传输带和传输台,通过传输带的设置,通过两个传输带同步传动后在中部分离,能够使框架在传输过程中自动分离成上框体和下框体进行传输,在实现上框体和下框体同步传输功能的同时,避免框架的上框体和下框体在传输过程中混合,在框架的上框体和下框体分离后,在传输过程中通过滑台等结构自动翻转呈九十度且安装槽呈相对应的状态,使上框体和下框体呈相对立的状态,后续仅通过简单的推动机构即可将上框体和下框体相互拼接,有着有助于提高拼接效率和减少机构成本等效果,且滑台等结构的动力为传输带的运转,能够实现与传输带的同步运行,只需要注意框架的投放间距。

    一种镜片切割工艺
    3.
    发明公开

    公开(公告)号:CN107775821A

    公开(公告)日:2018-03-09

    申请号:CN201710990152.4

    申请日:2017-10-23

    发明人: 徐明阳

    IPC分类号: B28D1/22 B28D7/00

    摘要: 一种镜片切割工艺,其包括如下步骤:在工作台上装夹一块辅垫,并在该辅垫上粘合一块第一镜片;切断所述第一镜片;在所述第一镜片的切断面上贴附一块研磨过的第二镜片,并打开0度光点,并在切割机的显示器上作一0度点的标记;将90度归零镜片装夹在工作台上,打开0度光点,以使得第二镜片上的0度光点重合;打开90度光点,在显示器上作一90度标准点的标记;将所述胶合后的镜片组胶接在所述辅垫上;进行90度归零调整,使得镜片组的90度面反射的光点与90度标准点重合;开启切割机,由切割机对该胶合后的镜片组。通过第一、第二镜片进行归零调整,然后再通过90度归零镜片来校正切割机在90度方向上的调整,可以使得在切割胶合后的镜片组时,保证切割精度,同时有助于提高加工速度。

    一种利用磁控溅射镀膜机镀外缘全封闭带的工艺

    公开(公告)号:CN103114273B

    公开(公告)日:2015-01-28

    申请号:CN201310074023.2

    申请日:2013-03-08

    发明人: 赵礼 李志忠

    IPC分类号: C23C14/35 C23C14/04

    摘要: 本发明涉及一种镀外缘全封闭带的工艺,主要适用于PVD镀膜技术领域。本发明包括如下步骤:对被镀膜片进行CNC加工,轮廓度控制在0.1,通过SPC控制手段,Cpk>1.33,过止规检查符合+0.1/-0.15;将被镀膜片进行镀膜清洗;将被镀膜片放入镀膜工装,遮住被镀膜片上的非镀膜部分,使被镀膜片上的镀膜部分裸露在外;将镀膜工装放进磁控溅射镀膜机的镀膜腔体内,镀膜面设置在靶材所在的一侧;按照标准设定镀膜工艺参数;进行镀膜;得到具有外缘全封闭带的镀膜片。本发明可实现镀外缘全封闭带,镀膜精确度高,成膜位置准确,边缘清晰无阴影,成本较低。

    用于聚光光伏太阳能系统的多面锥体棱镜的加工方法

    公开(公告)号:CN102179739B

    公开(公告)日:2013-01-02

    申请号:CN201110064765.8

    申请日:2011-03-17

    发明人: 周小卫 陆跃明

    IPC分类号: B24B13/04 B24B29/00

    摘要: 本发明涉及一种用于聚光光伏太阳能系统的多面锥体棱镜的加工方法,所述的多面锥体棱镜为连续性3阶锥度棱镜,其特征在于包括以下步骤:a、将K9玻璃材料通过热压初始加工成上述形状的坯料,在每个面厚度方向上留出0.5~0.8mm的加工余量;b、将坯料的小端面粘贴在光学平板上,对大端面通过冷加工依次进行铣磨和抛光;c、将坯料的大端面粘贴在定位模具上,通过5个空间位置参数联动控制坯料在磨盘以及抛光盘上的移动和转动,分别对12个等腰梯形侧面以及小端面进行粗磨、精磨和抛光,获得成品。本发明加工时间短、加工过程容易控制,加工质量好。

    一种精密施压抛光装置
    6.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115519450A

    公开(公告)日:2022-12-27

    申请号:CN202211133870.7

    申请日:2022-09-19

    发明人: 郭宗福

    摘要: 本发明提供了一种精密施压抛光装置,包括工作台、立柱、直线导轨、回转台以及抛光装置,所述工作台的顶端一侧固定连接有立柱,所述工作台的顶端中间位置处连接有用于回转台移动的直线导轨,所述直线导轨上滑动连接有回转台,所述立柱的一侧设置有用于对加工件进行抛光的抛光装置,所述立柱的顶端上连接有用于平衡的平衡组件;本发明结构简单,操作便捷;本发明通过向储液箱输送或者抽出配重液,动态调节储液箱的重力,进而通过平衡装置调节抛光装置施加在工件表面上抛光压力,进而实现抛光压力的实时调节,提高抛光的精确度;在电磁铁通电时,电磁铁与永磁铁相互间的吸力将气浮滑块的位置固定,便于抛光装置的检修与更换配件。

    一种胶合棱镜的加工方法

    公开(公告)号:CN113534303B

    公开(公告)日:2022-07-08

    申请号:CN202110689590.3

    申请日:2021-06-22

    发明人: 吴明

    摘要: 本发明提供一种胶合棱镜的加工方法,其中的胶合棱镜包括:第一光学镜片;第二光学镜片;胶合层,所述第一光学镜片和所述第二光学镜片通过所述胶合层固定为一体;以及镀层,其设置于所述棱镜的其中一个或多个侧面,所述镀层覆盖所述胶合层侧部、第一光学镜片的侧面的至少一部分及第二光学镜片的侧面的至少一部分;所述加工方法包括以下步骤:配置所述第一光学镜片和所述第二光学镜片,并将所述第一光学镜片和所述第二光学镜片通过所述胶合层连接;对棱镜的侧面进行研磨抛光;在棱镜的侧面设置所述镀层,所述镀层的厚度为0.02um至15um;对所述镀层进行抛光,以使所述镀层的厚度控制为大于10nm。

    新型晶圆半导体生产辅助设备

    公开(公告)号:CN111229711B

    公开(公告)日:2021-11-23

    申请号:CN202010058708.8

    申请日:2020-01-19

    发明人: 吴明 俞伟

    摘要: 本发明涉及晶圆半导体技术领域,且公开了新型晶圆半导体生产辅助设备,包括清洗箱,清洗箱的内部设置有一个清洗框,清洗框的表面开设有漏水孔,清洗框的内壁上端铰接有一块矩形盖板,清洗框的上表面固定连接有把手,清洗框的底板上等距均匀固定连接有矩形挡板,该新型晶圆半导体生产辅助设备,通过电机的转动带动转轴的转动,转轴的转动带动凸轮的转动在配合弧形杆,从而可以使弧形杆进行上下移动,弧形杆的上下移动带动漂洗板的上下移动,漂洗板的上下移动的带动清洗框进行上下移动,从而对清洗框内部的晶圆进行上下抖动的清洗,通过这样漂洗的方式不仅可以使用大批量的清洗,还可以使晶圆清洗的更加干净。

    一种胶合棱镜的加工方法

    公开(公告)号:CN113534303A

    公开(公告)日:2021-10-22

    申请号:CN202110689590.3

    申请日:2021-06-22

    发明人: 吴明

    摘要: 本发明提供一种胶合棱镜的加工方法,其中的胶合棱镜包括:第一光学镜片;第二光学镜片;胶合层,所述第一光学镜片和所述第二光学镜片通过所述胶合层固定为一体;以及镀层,其设置于所述棱镜的其中一个或多个侧面,所述镀层覆盖所述胶合层侧部、第一光学镜片的侧面的至少一部分及第二光学镜片的侧面的至少一部分;所述加工方法包括以下步骤:配置所述第一光学镜片和所述第二光学镜片,并将所述第一光学镜片和所述第二光学镜片通过所述胶合层连接;对棱镜的侧面进行研磨抛光;在棱镜的侧面设置所述镀层,所述镀层的厚度为0.02um至15um;对所述镀层进行抛光,以使所述镀层的厚度控制为大于10nm。

    新型晶圆半导体生产辅助设备

    公开(公告)号:CN111229711A

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN202010058708.8

    申请日:2020-01-19

    发明人: 吴明 俞伟

    摘要: 本发明涉及晶圆半导体技术领域,且公开了新型晶圆半导体生产辅助设备,包括清洗箱,清洗箱的内部设置有一个清洗框,清洗框的表面开设有漏水孔,清洗框的内壁上端铰接有一块矩形盖板,清洗框的上表面固定连接有把手,清洗框的底板上等距均匀固定连接有矩形挡板,该新型晶圆半导体生产辅助设备,通过电机的转动带动转轴的转动,转轴的转动带动凸轮的转动在配合弧形杆,从而可以使弧形杆进行上下移动,弧形杆的上下移动带动漂洗板的上下移动,漂洗板的上下移动的带动清洗框进行上下移动,从而对清洗框内部的晶圆进行上下抖动的清洗,通过这样漂洗的方式不仅可以使用大批量的清洗,还可以使晶圆清洗的更加干净。