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公开(公告)号:CN1607054B
公开(公告)日:2011-03-23
申请号:CN200410078919.9
申请日:2004-09-16
Applicant: 日本新金属株式会社
CPC classification number: C22C27/04 , B22F2998/00 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F3/15
Abstract: 高纯金属Mo粗粉与由其制得的烧结溅射靶提供一种供形成具有极少颗粒产生的高纯金属Mo薄膜的烧结溅射靶以及一种适用于作为原料粉制得这种靶的高纯金属Mo粗粉。通过烧结经由进行HIP处理的该高纯金属Mo粗粉,便得到该理论密度比率为98%或以上的烧结溅射靶,其中这种颗粒粉按质量有高达99.99%或以上的纯度和按Fischer法有5.5至7.5μm的平均颗粒直径。
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公开(公告)号:CN101714670A
公开(公告)日:2010-05-26
申请号:CN200910174504.4
申请日:2009-09-28
CPC classification number: H01M4/485 , H01M4/364 , H01M10/052
Abstract: 本发明提供一种非水电解质二次电池和非水电解质二次电池用活性物质,该非水电解质二次电池包括含有正极活性物质的正极、含有负极活性物质的负极和非水电解质,其特征在于:使用颗粒的平均纵横比(颗粒的截面积或者二维投影像的、与颗粒相当的椭圆(与观察颗粒面积相同,并且一阶以及二阶矩相等的椭圆)的长轴长与短轴长之比(长轴长/短轴长))为2以下的二氧化钼作为正极活性物质或者负极活性物质。
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公开(公告)号:CN1607054A
公开(公告)日:2005-04-20
申请号:CN200410078919.9
申请日:2004-09-16
Applicant: 日本新金属株式会社
CPC classification number: C22C27/04 , B22F2998/00 , C22C1/045 , C23C14/3414 , B22F3/15
Abstract: 提供一种供形成具有极少颗粒产生的高纯金属Mo薄膜的烧结溅射靶以及一种适用于作为原料粉制得这种靶的高纯金属Mo粗粉。通过烧结经由进行HIP处理的该高纯金属Mo粗粉,便得到该理论密度比率为98%或以上的烧结溅射靶,其中这种颗粒粉按质量有高达99.99%或以上的纯度和按Fischer法有5.5至7.5μm的平均颗粒直径。
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公开(公告)号:CN102548688B
公开(公告)日:2014-03-05
申请号:CN201080043637.9
申请日:2010-09-28
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社 , 日本新金属株式会社
CPC classification number: B22F9/22 , B22F2201/013 , C22C27/04
Abstract: 本发明涉及一种磷含量小于1重量ppm的高纯度钨粉末的制造方法,其特征在于,以按照在钨中的夹杂量换算含有1重量ppm以上的杂质磷的钨酸铵溶液作为起始原料,通过在50℃以下利用盐酸将其中和将pH调节为4以上且小于7,从而使十一水合仲钨酸铵结晶沉淀,将其进一步加热至70~90℃,在高温状态下进行过滤而得到五水合仲钨酸铵结晶,再将该五水合仲钨酸铵结晶煅烧而得到氧化钨,并将该氧化钨进行氢还原而得到高纯度钨粉末。本发明还涉及一种磷含量为0.4重量ppm以下的高纯度钨粉末的制造方法,其特征在于,将利用盐酸进行中和的工序的pH调节为4以上且6以下,并按照相同的步骤得到高纯度钨粉末。由此,可以有效地降低磷含量。
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公开(公告)号:CN102548688A
公开(公告)日:2012-07-04
申请号:CN201080043637.9
申请日:2010-09-28
Applicant: 吉坤日矿日石金属株式会社 , 日本新金属株式会社
CPC classification number: B22F9/22 , B22F2201/013 , C22C27/04
Abstract: 本发明涉及一种磷含量小于1重量ppm的高纯度钨粉末的制造方法,其特征在于,以按照在钨中的夹杂量换算含有1重量ppm以上的杂质磷的钨酸铵溶液作为起始原料,通过在50℃以下利用盐酸将其中和将pH调节为4以上且小于7,从而使十一水合仲钨酸铵结晶沉淀,将其进一步加热至70~90℃,在高温状态下进行过滤而得到五水合仲钨酸铵结晶,再将该五水合仲钨酸铵结晶煅烧而得到氧化钨,并将该氧化钨进行氢还原而得到高纯度钨粉末。本发明还涉及一种磷含量为0.4重量ppm以下的高纯度钨粉末的制造方法,其特征在于,将利用盐酸进行中和的工序的pH调节为4以上且6以下,并按照相同的步骤得到高纯度钨粉末。由此,可以有效地降低磷含量。
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