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公开(公告)号：CN119916266A
公开(公告)日：2025-05-02
申请号：CN202510086637.5
申请日：2025-01-20
Applicant: 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种屏蔽板材的剩磁检测方法及剩磁检测装置，该屏蔽板材的剩磁检测方法包括：一种屏蔽板材的剩磁检测方法，包括：针对待测屏蔽板材的表面的N个预设点位，检测每个预设点位处的实际磁场强度矢量值，N为大于或者等于2的整数；计算每个预设点位处的实际磁场强度矢量值与理想磁场强度矢量值的差值，并将差值作为预设点位处的目标磁场强度矢量值；理想磁场强度矢量值为预设点位处无剩磁和漏磁时的磁场强度矢量值；基于屏蔽板材的表面的N个预设点位处的目标磁场强度矢量值，判断屏蔽板材是否可用。该剩磁检测方法能够在一般环境或者低成本磁屏蔽环境下实现对屏蔽板材剩磁或者漏磁性能的检测。
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公开(公告)号：CN119755448A
公开(公告)日：2025-04-04
申请号：CN202510029846.6
申请日：2025-01-08
Applicant: 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明公开了一种半导体用液体的冬季输送管路及方法、半导体供液系统，属于化学液体输送技术领域，用以解决现有技术中冬季化学液体在输送管路中的温度下降幅度过大的问题。本发明的冬季输送管路，包括隔温管、设于隔温管内的一条液体管和多条供热管以及为供热管供应高温流体的流体供应单元；隔温管套设于液体管的外壁且两者具有间隙，隔温管与液体管的间隙作为供热管的容置空间，供热管设于容置空间中且围绕液体管，液体管的侧壁与供热管的侧壁直接接触，供热管与隔温管之间具有空隙。本发明可用于半导体用液体的冬季输送。
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公开(公告)号：CN118929988A
公开(公告)日：2024-11-12
申请号：CN202411345718.4
申请日：2024-09-26
Applicant: 世源科技工程有限公司 , 中国电子工程设计院股份有限公司
Abstract: 本发明涉及超纯水抛光技术领域，公开一种超纯水抛光系统，超纯水抛光系统包括：水箱、供水管路和回流管路，回流管路串联有回流比例背压阀和回流纯水箱自动阀，回流管路的出口与水箱的入水口连接，供水管路的入口与水箱的出水口连接；供水管路上设有用于调节超纯水参数的超纯水工艺处理设备，回流纯水箱自动阀与水箱的入水口之间设有回流滤器，突破不在回流管路设置超纯水工艺处理设备的思维定势和固有做法，克服了技术偏见，在回流纯水箱自动阀与水箱的入水口之间设有回流滤器，用于滤除回流管路中回流水的污染物，与供水管路的超纯水工艺处理设备一起形成处理工艺流程的全闭环，缓解回流管路中回流水容易出现污染物的技术问题。
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公开(公告)号：CN110469160B
公开(公告)日：2024-08-27
申请号：CN201910740337.9
申请日：2019-08-12
Applicant: 中国电子工程设计院有限公司 , 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明涉及洁净生产厂房技术领域，公开了一种具有二次加湿系统的洁净室布置结构及洁净生产厂房，该具有二次加湿系统的洁净室布置结构包括：至少一组二次加湿系统，每一组二次加湿系统包括：加湿装置，设于洁净室的上技术夹层、下技术夹层、回风夹道或洁净生产区内；相对湿度传感器；与相对湿度传感器和加湿装置连接的湿度控制器，湿度控制器用于接收相对湿度传感器的湿度信号以根据湿度信号控制加湿装置工作。该具有二次加湿系统的洁净室布置结构中，在洁净室内设置有二次加湿系统，有效对室内空气进行二次加湿，增加洁净生产区的环境相对湿度，使产品的生产环境的相对湿度达到最佳值，有利于保证良好的生产工序制造环境，提高产品良率。
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公开(公告)号：CN112642211B
公开(公告)日：2024-07-23
申请号：CN202011436906.X
申请日：2020-12-10
Applicant: 世源科技工程有限公司
Abstract: 本发明提供一种脱除光刻胶剥离液中非游离态树脂的系统和方法。所述系统包括过滤装置，所述过滤装置包括至少一个过滤器，用于过滤待处理的废剥离液中的非游离态树脂，所述过滤器中从上至下设置有一级滤芯和二级滤芯，所述二级滤芯中设有电加热单元，所述电加热单元为可通电发热的电阻丝，用于对流经所述二级滤芯的所述废剥离液加热，使所述废剥离液中的非游离态树脂析出在所述二级滤芯上。所述系统能够实现在线连续运行，工艺参数可控、装置稳定性高，低成本、易操作，且脱除后的剥离液中杂质含量显著降低，有利于后续剥离液精馏再生提纯工序的正常运行。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN117592854B
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202311592852.X
申请日：2023-11-27
Applicant: 中国电子工程设计院股份有限公司 , 世源科技工程有限公司
IPC: G06Q10/0639 , G06Q50/04
Abstract: 本发明公开了半导体生产线布局中环境要素评价方法及装置，方法具体包括如下步骤：采集半导体的生产工艺流程以及半导体生产线的布局信息；给出各个生产设备的位置信息；获取影响半导体生产线布局的各个环境要素；基于距离指标，给出各个环境要素的影响度区域；结合每个生产设备对各个环境要素的抗干扰度及每个生产设备的位置信息，得到每个生产设备的环境要素评价体系，实现半导体生产线布局的各个生产设备的环境要素评价。本发明针对环境要素，结合距离、影响权重及抗干扰度等指标，以生产设备为单位，给出半导体生产线布局中环境评价结果，既能确保半导体产品的高品质和高良品率，也能指导半导体生产线布局的优化。
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公开(公告)号：CN117772369A
公开(公告)日：2024-03-29
申请号：CN202311807175.9
申请日：2023-12-26
Applicant: 世源科技工程有限公司
IPC: B02C19/06
Abstract: 本发明提供一种气磨机喷嘴，包括：本体；本体具有相背的进气端面和出气端面，在本体内部设置有流通通道，流通通道包括轴线重合并依次连接的进气段、收缩段、扩张段和出气段，进气段在进气端面形成进气口，出气段在出气端面形成出气口；进气段和出气段的形状均为圆柱形，收缩段和扩张段的形状均为圆台形，收缩段的大圆端直径与进气段的直径相等并通过该大圆端与进气段连接，扩张段的小圆端直径与收缩段的小圆端直径相等，并且扩张段的小圆端连接在收缩段的小圆端上，出气段的直径与扩张段的大圆端直径相等，并连接在扩张段的大圆端。其能够对气体进行加速，使气体能够以较高的流速喷出，进而使粉碎效果得到保证。
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公开(公告)号：CN117726047A
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202410173230.1
申请日：2024-02-07
Applicant: 中国电子工程设计院股份有限公司 , 世源科技工程有限公司
IPC: G06Q10/04 , G06Q10/0631 , G06Q50/04
Abstract: 本发明公开了一种基于自适应的半导体AMHS轨道布局方法及装置，获取用于半导体生产的设备布局信息，得到半导体生产的布局类型；确定划分的洁净区域和通道，给出对应洁净区域和通道的设备属性信息列表，形成针对半导体生产的搬运需求列表；基于设备属性信息列表及搬运需求列表，通过第一自适应规则确定目标轨道的层级及各层级对应的轨数，并确定各级目标轨道的位置；根据设备属性信息列表，通过第二自适应规则，确定过渡轨道的轨数和位置；基于各级目标轨道以及过渡轨道的轨数和位置，完成半导体AMHS轨道的布局。通过自适应、分层级的设置，实现AMHS轨道的快速高效布局，又根据生产搬运需求优化、调整，提升半导体生产中物流搬运效率。
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公开(公告)号：CN117592854A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311592852.X
申请日：2023-11-27
Applicant: 中国电子工程设计院股份有限公司 , 世源科技工程有限公司
IPC: G06Q10/0639 , G06Q50/04
Abstract: 本发明公开了半导体生产线布局中环境要素评价方法及装置，方法具体包括如下步骤：采集半导体的生产工艺流程以及半导体生产线的布局信息；给出各个生产设备的位置信息；获取影响半导体生产线布局的各个环境要素；基于距离指标，给出各个环境要素的影响度区域；结合每个生产设备对各个环境要素的抗干扰度及每个生产设备的位置信息，得到每个生产设备的环境要素评价体系，实现半导体生产线布局的各个生产设备的环境要素评价。本发明针对环境要素，结合距离、影响权重及抗干扰度等指标，以生产设备为单位，给出半导体生产线布局中环境评价结果，既能确保半导体产品的高品质和高良品率，也能指导半导体生产线布局的优化。
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公开(公告)号：CN117314263A
公开(公告)日：2023-12-29
申请号：CN202311593620.6
申请日：2023-11-27
Applicant: 中国电子工程设计院股份有限公司 , 世源科技工程有限公司
IPC: G06Q10/0639 , G06Q50/04
Abstract: 本发明公开了一种电子工厂生产线布局的评价方法及装置，方法具体包括如下步骤：采集电子产品的生产工艺信息以及电子工厂生产线的布局信息；解析布局信息，获取布局中的建筑信息及电子工厂生产线中的各个生产设备信息；基于布局中的建筑信息，给出电子工厂生产线的生产区域信息；结合生产区域信息，匹配对应的各个生产设备；根据各个生产设备信息，结合电子产品的生产工艺信息，重构每个生产设备的工艺数据，得到每个生产设备的评价指标；对各个生产设备的每个评价指标进行分析，获取电子工厂生产线布局的评价结果。本发明针对电子工厂生产线布局的评价，结合物理布局、逻辑布局及工艺布局，实现对布局质量的准确、快速评估。
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