全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用

    公开(公告)号:CN118984596A

    公开(公告)日:2024-11-19

    申请号:CN202411065611.4

    申请日:2024-08-05

    摘要: 本发明公开了全氟酞菁铜在制备钙钛矿埋底界面修饰层或制备钙钛矿层埋底界面修饰剂中的应用。本发明的全氟酞菁铜作为埋底界面修饰剂可以改善钙钛矿层和空穴传输层之间的界面接触,高度氟化的全氟酞菁铜产生更为疏水的埋底界面,促使钙钛矿晶粒纵向生长,调节钙钛矿层的结晶生长和形貌,从而更有利于加速载流子的传输。同时,氟原子具有较强的电负性,可以有效抑制钙钛矿层和空穴传输层间有害的氧化还原反应,减少非辐射复合,实现了提高太阳能电池的光电转化效率和稳定性的目的。

    一种连续流态下好氧颗粒污泥的自培养系统及其应用

    公开(公告)号:CN118954787A

    公开(公告)日:2024-11-15

    申请号:CN202411250364.5

    申请日:2024-09-06

    IPC分类号: C02F3/30

    摘要: 本发明公开了一种连续流态下好氧颗粒污泥的自培养系统及其应用,属于水处理技术领域。所述系统包括膜生物反应器主体、进水组件、排水组件和曝气组件;其中,膜生物反应器主体包括外筒和内筒;内筒包括好氧颗粒污泥好氧反应区、膜分离区、曝气区及设置于内筒底部的储泥区,膜分离区设置有处理污水的膜组件,曝气区的内筒侧壁上设有环流口;污水从好氧颗粒污泥好氧反应区的顶部进入外筒,且从环流口进入曝气区;曝气组件,为曝气区和反应区提供气体;进水组件与外筒相连通;排水组件与膜组件相连通。所述系统在水力循环过程中无构筑物的阻拦,环流速度快;造粒速度快,且颗粒能稳定存在四个月才进入裂解期,具备优异的稳定性。