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公开(公告)号：CN100580544C
公开(公告)日：2010-01-13
申请号：CN200710039276.0
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种新型衍射投影屏，包括屏幕主体及覆盖于屏幕主体表面的防护层，其特征在于：所述屏幕主体由透明或半透明材料构成，其上分布全息像素单元，单元的点阵结构是基于散斑的像面全息。通过激光分束及毛玻璃成像，以及利用压印技术，可以获得本发明的投影屏。本发明获得的投影屏实现了全息投影，不受环境光干扰、高亮度、高清晰；并突破了传统投影光学理念，创造性地将全息光学投影引入投影屏幕制造领域。
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公开(公告)号：CN100474101C
公开(公告)日：2009-04-01
申请号：CN200710039274.1
申请日：2007-04-10
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种具有像面全息结构的投影屏，其特征在于：在投影屏幕主体上附着有像面全息信息，所述像面全息信息为在投影屏幕的竖直方向上带有延展趋势的散斑结构，定义组成散斑的微小衍射颗粒结构在竖直方向为长径L，在水平方向为短径W，则1.5W≤L≤10W。本发明同时公开了采用二步成像法制备所述投影屏的方法。本发明的投影屏具有高亮、清晰及透明的特点，对环境的要求不高，适合高端的消费场所使用；也适合追求时尚的人士做家庭影院使用。
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公开(公告)号：CN101377555A
公开(公告)日：2009-03-04
申请号：CN200810156773.3
申请日：2008-09-26
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
Abstract: 本发明公开了一种亚波长埋入式光栅结构偏振片，包括透明基底、介质光栅、第一金属层、第二金属层，所述介质光栅具有周期性间隔设置的脊部和沟槽，所述第一金属层覆盖于介质光栅的脊部，所述第二金属层覆盖于介质光栅的沟槽中，介质光栅的周期小于入射光波长，其特征在于：在所述第一金属层和第二金属层的顶部上表面覆盖有介质覆盖层，在所述透明基底和介质光栅之间设有高折射率介质层，所述高折射率介质层的折射率在1.6至2.4之间。介质覆盖层既可以对偏振片的透射效率起调制作用，又可以起到保护金属层的作用，防止金属层被氧化和在集成过程中被破坏；在整个可见光波段，该偏振片具有高透射效率、高消光比、宽广的入射角度范围。
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公开(公告)号：CN101135776A
公开(公告)日：2008-03-05
申请号：CN200710153957.X
申请日：2007-09-13
Applicant: 苏州苏大维格数码光学有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种衍射变色激光打标方法及其装置，采用大功率半导体泵浦固体激光器作为光源，激光束满足干涉要求，由分束元件产生分束光，通过光学透镜组将光点会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在材料表面位置激光功率密度超过材料损伤阈值，以形成干涉条纹刻蚀，通过扫描控制，实现衍射光变色图形的打标。所述的装置，采用由光源、光束整形器和干涉光学系统构成的干涉型光学头，形成的干涉条纹光场位于放置在所述运动平台的待打标材料表面。本发明可以避免陨石坑效应，提高图像的分辨率；获得衍射变色的激光打标图样。
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公开(公告)号：CN1821883A
公开(公告)日：2006-08-23
申请号：CN200610037797.8
申请日：2006-01-12
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格数码光学有限公司
IPC: G03F7/20 , H01L21/027
Abstract: 本发明公开了一种对光滑表面进行光刻蚀的方法，采用大功率激光器作为光源，将激光束准直成平行光，经过光阑及透镜后，由分束元件产生分束光束，再会聚到材料表面，形成均匀干涉条纹光场，在光滑表面材料上进行超过材料损伤阈值的光蚀实现图像制作，其特征在于：所述光源采用紫外光输出的大功率二极管泵浦的固态激光器的三倍频或四倍频，所述光阑为可调矩形光阑，在同一位置进行单次脉冲加工，控制激光器的功率，使得在干涉条纹的光强相长处材料发生气化，在材料表面形成条纹结构。并以此制作方法实现微米级条纹高速激光光蚀系统，从而使得激光微米级光栅图像的加工进入真正意义上的工业化应用阶段，是一种微米级结构的先进制造技术。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN118417683A
公开(公告)日：2024-08-02
申请号：CN202310080615.9
申请日：2023-02-02
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: B23K26/046 , H01L31/18 , H01L31/0224 , B23K26/064
Abstract: 本发明涉及一种光伏电池片电极及其制作方法和制作装置、以及应用。光伏电池片电极的制作装置包括激光源、准直光束产生单元和光束聚焦单元；准直光束产生单元位于激光源的出光侧，用于将激光源射出的激光束转换成准直光束并投射至光束聚焦单元；光束聚焦单元位于准直光束产生单元的出光侧，用于将准直光束聚焦至待光刻电池片上。应用本发明的制作装置制作光伏电池片电极时，不需要多组空间光调制器、投影光学系统和照明光学系统，因此装置研制成本成倍下降；不需要数据处理和多路光路重叠对准，因而提升了制作可靠性和效率；可实现较高深宽比例如3μm～20μm线宽、1μm～20μm深、深宽比为0.3～2的电极图形沟槽的光刻，从而获得较为优质的光伏电池片电极。
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公开(公告)号：CN118330993A
公开(公告)日：2024-07-12
申请号：CN202310034683.1
申请日：2023-01-10
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请提供一种多光学头并行的快速光刻系统及方法。所述系统包括：掩模版、基片及多个光学头，每个光学头包括光刻照明模组和掩模投影光学模组，光刻照明模组、掩模版、掩模投影光学模组及基片沿光路依次设置，掩模投影光学模组为反向成像模组，投影光斑为掩模版的照明光斑的放大、倒立的实像。整个系统通过多光学头并列放置的空间布局和光学投影成像尺寸的匹配，各个光学头可以并行扫描曝光，解决单个光学头视场有限的问题，原理上幅面不受限制，且本发明光路实施可行性高，可利用若干小尺寸掩模版拼接光刻实现大尺寸完整图形，易于加工实现，且降低生产应用成本。
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公开(公告)号：CN118052902A
公开(公告)日：2024-05-17
申请号：CN202211422070.7
申请日：2022-11-14
Applicant: 江苏维格新材料科技有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本申请涉及凹版印刷技术领域，具体公开一种数据处理方法、光刻处理系统及可读存储介质。方法包括对预设的立体模型进行高度方向上的数据压缩处理，得到位于二维平面的矢量线条数据；生成透光模板集T＝{T1，T2,…，TN}，获取立体模型表面在各采样点位置处的法向量，并根据各采样点的法向量与二维平面的夹角，确定各采样点的透光级；根据各采样点的透光级与各透光模板的对应关系，确定各采样点对应的透光模板；叠加矢量线条数据与各采样点对应的透光模板，得到光刻数据。由于线条之间填充有不同疏密度的透光网点，因此可以在体现3D景深的变化的同时，实现透光率的渐变效果，体现出立体模型的光影变化，立体效果的表达方式更多元，更能体现真实立体感。
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公开(公告)号：CN116190465A
公开(公告)日：2023-05-30
申请号：CN202111418131.8
申请日：2021-11-26
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: H01L31/0224 , H01L31/06 , H01L31/18
Abstract: 本发明提供一种太阳能电池及其制备方法。所述太阳能电池包括：太阳能电池模组；贴附于所述太阳能电池模组的一侧表面上的电极薄膜，所述电极薄膜包括：透明基层、透明压印层和形成于所述透明压印层内或所述透明压印层一侧表面的导电材料层，所述导电材料层与所述太阳能电池模组电性连接以形成所述太阳能电池模组的电极；其中，所述电极薄膜和所述太阳能电池模组通过层压贴合。这样得到的太阳能电池具备高透过率，光电转换效率高，同时该制备方法，可方便的进行批量生产，成本低。
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公开(公告)号：CN112269271B
公开(公告)日：2021-12-10
申请号：CN202011536267.4
申请日：2020-12-23
Applicant: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司 , 苏州大学
IPC: G02B30/27
Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置，其包括：显示部件，其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列；和，视角调控器件，其包括由多个视角调控单元阵列排布而成的视角调控单元阵列，其中每个视角调控单元与多个显示单元相对应，所述显示单元被分为多组，每组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为一个视角，不同组显示单元发出的光线通过视角调控器件被汇聚为不同视角，每组显示单元中的各个显示单元对应不同视角调控单元，每个视角调控单元对应的多个显示单元被分到不同组中。这样，可以实现在不同的视角下观看到的不同的三维显示效果，可再现全视差图像。
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