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公开(公告)号：CN113419404B
公开(公告)日：2023-04-18
申请号：CN202110731453.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种光刻胶组合物，属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。
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公开(公告)号：CN115616860A
公开(公告)日：2023-01-17
申请号：CN202211258412.6
申请日：2022-10-14
Applicant: 北京科华微电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本发明涉及光刻胶技术领域，尤其是涉及一种深紫外化学放大正型光刻胶组合物和图案形成方法。深紫外化学放大正型光刻胶组合物，包括如下组分：聚合物、含有苯基的化合物、光致产酸剂、含氮化合物、表面活性剂和溶剂；聚合物包括聚合物A，聚合物A具有如式(I)所示的结构：式中，R1选自甲基、乙基、丙基、异丙基、正丁基、异丁基、环戊基和环己基中的任一种；R2选自氢、甲基和乙基中的任一种；结构单元x与结构单元y的摩尔百分比为65～80mol％：20～35mol％。该光刻胶具有光刻工艺窗口大、曝光宽容度大和焦深大的特点，在无抗反射底层保护的高反射基底上光刻可获得无驻波、CD波动小和侧壁角呈直角的光刻胶图案。
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公开(公告)号：CN113716874B
公开(公告)日：2022-09-23
申请号：CN202111207984.7
申请日：2021-10-18
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 北旭(湖北)电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种玻璃材料、玻璃粉、玻璃粉的制备方法及其应用，属于封接材料技术领域。玻璃材料包括玻璃成分和陶瓷类填料，陶瓷类填料的质量百分比为0％～20％。玻璃成分按质量百分比计包括：30～55％P2O5、10～30％V2O5、3～15％CaF2、5～10％Bi2O3、1～10％Al2O3、1～9％ZnO及1～5％La2O3。玻璃粉的原料包括该玻璃材料，膨胀系数CTE为(30～79)×10‑7/℃；玻璃化转变温度Tg为280℃～390℃；压制成轴向高度15mm的圆柱状烧结1h后轴向高度≤14mm。该玻璃不含铅镉，Bi2O3添加少，玻璃化转变温度低、膨胀系数低、化学稳定性良好且烧结流动性良好。
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公开(公告)号：CN114047670A
公开(公告)日：2022-02-15
申请号：CN202111460811.6
申请日：2021-12-02
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供了一种正型光刻胶组合物，其包含酚醛树脂、感光化合物以及混合溶剂，其中，混合溶剂包含第一溶剂和第二溶剂，第一溶剂选自乳酸乙酯、3‑乙氧基丙酸乙酯、4‑甲基‑2‑戊酮和2‑庚酮中的至少一种；第二溶剂选自乙二醇单甲醚、丙二醇单甲醚、二乙二醇单甲醚、二乙二醇二甲醚、丙二醇甲醚乙酸酯、乙酸乙酯和乙酸正丁酯中的至少一种。本申请提供的光刻胶组合物，其稳定性优于使用单一溶剂的光刻胶组合物，可以更好的应用于有机电致发光显示器中。
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公开(公告)号：CN113946099A
公开(公告)日：2022-01-18
申请号：CN202111145605.6
申请日：2021-09-28
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 北旭(湖北)电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供了一种正性光刻胶组合物，基于所述正性光刻胶组合物的总重量，所述正性光刻胶组合物包括：酚醛树脂10‑20wt％，感光化合物4‑6wt％，交联剂5‑10wt％，流平剂0.05‑0.10wt％，粘附性促进剂0.05‑0.10wt％，溶剂65‑80wt％；其中，所述酚醛树脂为线性酚醛树脂，结构式如式I所示，其中，n1为自然数，85≤n1≤170。本申请提供的正性光刻胶组合物，具有高耐热的特性，耐热温度可达到230‑250℃，可用于具有高温工艺的生产流程，在曝光工艺中能够形成良好的图形形貌，同时具有良好的均一性，用于外围电路时，能够有效减少磨边时崩坏不良的发生。
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公开(公告)号：CN113735446A
公开(公告)日：2021-12-03
申请号：CN202111157607.7
申请日：2021-09-30
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 北旭(湖北)电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供了一种玻璃粉及其制备方法，所述玻璃粉包括基质玻璃粉和填料；基于基质玻璃粉的总重量，所述基质玻璃粉包括：Bi2O3 55‑65wt％，B2O3 25‑30wt％，ZnO 5‑15wt％，SiO2 2‑6wt％，Al2O3 3‑5wt％和调节料0‑3wt％；所述基质玻璃粉与所述填料的重量比为(60‑90)：(10‑40)。本申请提供的玻璃粉及其制备方法，采用本申请的基质玻璃粉和填料，通过本申请的制备方法，获得对环境无污染、耐温性好、强度高、不易吸水、理化性能稳定、热膨胀系数与阀片相匹配的玻璃粉。
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公开(公告)号：CN113651529A
公开(公告)日：2021-11-16
申请号：CN202111115841.3
申请日：2021-09-23
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 北旭(湖北)电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种玻璃组合物、玻璃粉、玻璃油墨及玻璃油墨的应用，属于玻璃油墨技术领域。玻璃组合物及玻璃粉按质量百分比计，包括：35～45％的SiO2、25～35％的Bi2O3、5～15％的B2O3、4～8％的ZnO、2～8％的Na2O、2～5％的K2O、0.5～2.5％的Li2O、1～4％的TiO2、0.5～5％的Al2O3，以及1～3％的ZrO2。该玻璃粉在不含有铅、汞、镉、六价铬和氟等有害成分的情况下，具有较低的玻璃化温度和较好的耐酸碱腐蚀性。玻璃油墨包括该玻璃粉，该玻璃油墨在制备基材表面的玻璃膜的应用中，能够有效降低玻璃油墨的烧结温度并提高烧结得到的玻璃膜材料的耐酸碱腐蚀性。
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公开(公告)号：CN113419404A
公开(公告)日：2021-09-21
申请号：CN202110731453.1
申请日：2021-06-29
Applicant: 北京科华微电子材料有限公司 , 北京科华丰园微电子科技有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种光刻胶组合物，属于光刻技术领域。光刻胶组合物包括：100重量份化学放大正性光刻胶基体树脂、0.2～30重量份光致产酸剂和0.01～5重量份碱性添加剂。光致产酸剂包括三嗪类化合物，碱性添加剂包括含有氧原子的胺类化合物。本申请将三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合，能够使得化学放大正性光刻胶的加工窗口DOF显著提升。同时，三嗪类光致产酸剂与含有氧原子的胺类化合物配合还能够改善光刻胶的顶部形貌，降低顶部损失，降低粗糙度。
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公开(公告)号：CN113341651A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110716154.0
申请日：2021-06-25
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种光刻胶及图案化方法，属于光刻技术领域。光刻胶包括酚醛树脂和感光剂，感光剂包括第一感光物质和第二感光物质，第一感光物质为多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或多环芳烃与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物，第二感光物质为酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑5‑磺酰氯和/或酚醛树脂四聚体与2‑叠氮‑1‑萘酚‑4‑磺酰氯取代反应的产物。该酚醛树脂型光刻胶能够兼具较好的分辨率以及抗干刻性能。
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公开(公告)号：CN113341650A
公开(公告)日：2021-09-03
申请号：CN202110707464.6
申请日：2021-06-24
Applicant: 北京北旭电子材料有限公司 , 上海彤程电子材料有限公司 , 彤程新材料集团股份有限公司
Abstract: 本申请提供一种光刻胶及图案化方法，属于光刻技术领域。光刻胶包括树脂材料和感光剂，树脂材料发生去保护反应时能够产生羧酸和/或酚羟基。感光剂包括第一感光化合物和第二感光化合物，第一感光化合物的结构如式I所示，第二感光化合物如式II所示。图案化方法包括：采用光刻胶形成光刻胶层，并采用包括G线、H线和I线的混合光源通过掩模板对光刻胶层进行曝光，然后显影去除光刻胶层的曝光部分形成光刻胶图案。光刻胶在具有较好的光敏性和固化后透过率的情况下，能够兼具较好的曝光后环境稳定性。
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