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公开(公告)号:CN116940888A
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN202280019421.1
申请日:2022-02-25
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种液晶取向剂,其特征在于,含有聚合物(A),该聚合物(A)为选自由具有下述式(1)所示的重复单元(a1)的聚酰亚胺前体和作为该聚酰亚胺前体的酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种。(1)(式(1)中,X1表示四价有机基团。Y1为下述式(H)所示且具有三个以上苯环的二价有机基团。)(H)(式(H)中,A表示碳原子数4~10的亚烷基。Ar1和Ar1’各自独立地表示苯环、联苯结构或萘环。Ar1和Ar1’的环上的任意的氢原子任选地被一价基团取代。)#imgabs0#*—Ar1—L1—A—L1’—Ar1’—* (H)。
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公开(公告)号:CN110914309B
公开(公告)日:2023-10-24
申请号:CN201880046103.8
申请日:2018-07-09
Applicant: 国立大学法人富山大学 , 日产化学株式会社
IPC: C07K17/08 , B01J20/24 , C08F220/34 , C08F220/36 , C08F220/40 , C12M1/00 , C12M3/00 , C12N1/02 , C07K11/00 , C12M1/34
Abstract: 本发明提供在表面的至少一部分被覆有包含下述式(1a)及式(1b)表示的结构单元的聚合物(P1)的带配体的基体及其原材料、以及其制造方法。式中,R1、R2、X、Y、L、Q1、Q2、Q3、m1、m2及n如权利要求书及说明书中记载。#imgabs0#
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公开(公告)号:CN112771091B
公开(公告)日:2023-09-12
申请号:CN201980047679.0
申请日:2019-07-16
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08F297/02 , C08F212/14 , C08F220/18 , C08F222/40 , C08F230/08 , H01L21/3065
Abstract: 提供用于使包含嵌段共聚物的层的、更微细的微相分离结构相对于基板垂直诱导的自组装化膜形成用组合物。此外,提供利用了那样的组合物的嵌段共聚物的相分离图案制造方法以及半导体装置的制造方法。一种自组装化膜形成用组合物,其包含嵌段共聚物和溶剂,其用于在基板上形成嵌段共聚物层的相分离结构,上述嵌段共聚物为使不含硅聚合物与下述含硅聚合物结合而成的嵌段共聚物,所述含硅聚合物以被含硅基团取代了的苯乙烯作为结构单元,上述不含硅聚合物包含来源于下述式(1‑1)或式(1‑2)的结构,上述含硅基团包含1个硅原子。(在式(1‑1)或式(1‑2)中,R1和R2各自独立地表示氢原子、卤原子、碳原子数1~10烷基,R3~R5各自独立地表示氢原子、羟基、卤原子、碳原子数1~10烷基、碳原子数1~10烷氧基、氰基、氨基、酰胺基或羰基。)#imgabs0#
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公开(公告)号:CN114127202B
公开(公告)日:2023-09-05
申请号:CN202080051887.0
申请日:2020-06-22
Applicant: 日产化学株式会社
Abstract: 本发明的课题是提供形成具有对图案的填充性和平坦化性的覆膜的高低差基板被覆用组合物。解决该课题的手段是一种高低差基板被覆用组合物,其是包含主剂化合物(A)和溶剂的高低差基板被覆用组合物,该组合物可通过光照或加热而固化,所述化合物(A)是包含由下述式(A‑1)、式(A‑2)或式(A‑3)表示的局部结构的化合物,式(A‑1)和式(A‑2)中,虚线表示与芳香环的键接,芳香环是构成聚合物骨架的芳香环或构成单体的芳香环,n表示1或2的整数。式(A‑3)中,点划线表示与构成聚合物骨架的链状碳链、脂环式碳环或芳香环的键接,Q表示单键、或者含有醚键、酯键、氨基甲酸酯键、碳原子数1~3的亚烷基键或酰胺键的有机基团,m表示1;但是,式(A‑3)中不包含式(A‑1)。
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公开(公告)号:CN116685657A
公开(公告)日:2023-09-01
申请号:CN202280009658.1
申请日:2022-01-11
Applicant: 日产化学株式会社 , 日产化学美国株式会社
Inventor: 大堀贵广 , 北川裕丈 , 村上智 , 塞缪尔·马奎尔-波意尔 , 约翰·索思韦尔
IPC: C09K8/03
Abstract: 一种用于地下注入的化学流体包括无机物质、抗氧化剂(例如抗坏血酸、葡糖酸或其盐、或α‑乙酰基‑γ‑丁内酯、或亚硫酸氢盐或焦亚硫酸盐)和水。无机物质可以是胶体粒子或粉末。基于用于地下注入的化学流体的总质量计,无机物质可以以0.001质量%至50质量%的量存在于化学流体中。抗氧化剂可以以0.0001至2的抗氧化剂质量/无机物质质量的比率存在于化学流体中。无机物质的表面可以被硅烷化合物涂布。所述化学流体可进一步包括阴离子表面活性剂、阳离子表面活性剂、两性表面活性剂、非离子表面活性剂或其混合物。
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公开(公告)号:CN116621715A
公开(公告)日:2023-08-22
申请号:CN202310281868.2
申请日:2019-08-01
Applicant: 日产化学株式会社
Inventor: 小岛圭介
IPC: C07C211/56 , C07C211/58 , C07C211/61 , C07D209/86 , H10K85/60 , H10K85/10 , H10K50/155 , H10K50/16 , C08G73/02 , C08J5/18 , C08L79/02
Abstract: 采用在包含二亚苄基丙酮的钯0价络合物的催化剂、由下述式(L)表示的配体和碱的存在下使氟化芳族伯胺化合物与氯化、溴化或碘化芳族烃或者拟卤化芳族烃反应的氟化芳族仲胺化合物的制造方法,在没有使用特殊的催化剂的情况下使氟化芳族胺化合物与氯化、溴化或碘化芳族烃或者拟卤化芳族烃进行偶联反应,能够简便且有效率地制造在分子内具有氟芳基部位的仲胺化合物。(R1各自独立地表示碳数1~20的烷基等,R2~R5各自独立地表示氢原子或者碳数1~20的烷基等,R6~R8各自独立地表示氢原子或者碳数1~20的烷基等。)
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公开(公告)号:CN116615689A
公开(公告)日:2023-08-18
申请号:CN202180062698.8
申请日:2021-07-01
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G02F1/1337
Abstract: 本发明提供一种能得到具有高电压保持率、高透光率,此外蓄积电荷的缓和快、残影特性优异的液晶取向膜的液晶取向剂、该液晶取向膜以及液晶显示元件。一种液晶取向处理剂,其特征在于,含有聚合物(P),所述聚合物(P)选自由使用包含下述式(1)所示的二胺(1)的二胺成分而得到的聚酰亚胺前体以及作为其酰亚胺化物的聚酰亚胺构成的组中的至少一种。(R表示一价有机基团,R1、R2表示饱和或不饱和的碳原子数1~6的一价烃基、或碳原子数3~6的脂环式烃基。所述R1、R2中的烃基所具有的氢原子的一部分任选地被取代)。
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公开(公告)号:CN116601191A
公开(公告)日:2023-08-15
申请号:CN202180086620.X
申请日:2021-12-24
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: C08F220/26
Abstract: 本发明提供一种单层相位差膜的制造方法,其包括以下工序:(I)将聚合物的单层相位差膜形成用聚合物组合物涂布于基板上并干燥,形成涂膜的工序,所述聚合物在侧链上具有通过紫外线进行光反应的光反应性部位;(II)第一曝光工序,其中,对所述涂膜照射第一偏振光紫外线;及(III)第二曝光工序,其中,对照射了所述偏振光紫外线的涂膜、进一步对与照射了第一偏振光紫外线的面相同的面,照射与第一偏振光紫外线的偏振轴方向不同的第二偏振光紫外线。
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公开(公告)号:CN112384834B
公开(公告)日:2023-08-11
申请号:CN201980045973.8
申请日:2019-07-09
Applicant: 日产化学株式会社
IPC: G02B5/30 , H10K59/80 , H10K50/844 , H05B33/02 , G02F1/13363
Abstract: 本发明的课题是提供可获得对液晶可溶的各种溶剂的耐溶剂性,可以获得良好的取向性,并且即使是膜厚为3μm以上的厚膜也透明性优异,具有对良溶剂的耐性的固化膜,并提供光取向用的取向材以及使用该取向材而形成的相位差材。解决手段是具有光取向性基的固化膜、取向材、相位差材,上述具有光取向性基的固化膜是由固化膜形成用组合物的涂布物形成的干燥烧成膜,其膜厚为3μm以上且20μm以下,所述固化膜形成用组合物的特征在于,含有:(A)具有光取向性基和选自羟基、羧基和氨基中的任1种取代基的化合物;(B)具有芳香族环的聚酯多元醇;以及(C)交联剂。
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公开(公告)号:CN111788001B
公开(公告)日:2023-08-11
申请号:CN201980016499.6
申请日:2019-02-28
Applicant: 国立大学法人东京大学 , 日产化学株式会社
Abstract: 本发明的氨的分解方法为在催化剂和碱的存在下,将氨进行氧化分解而获得氮、质子和电子的方法。催化剂为具有2个第1配位体和1个第2配位体的钌配位化合物,第1配位体为可以具有取代基的吡啶或吡啶稠环式化合物,第2配位体为可以在吡啶环上具有取代基的2,2’‑联吡啶‑6,6’‑二羧酸。
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