用于光谱分析的校准
    73.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101010574B

    公开(公告)日:2010-12-22

    申请号:CN200580028717.6

    申请日:2005-08-23

    Inventor: W·伦森

    CPC classification number: G01J3/36 G01J3/04 G01J2003/047 G01J2003/1278

    Abstract: 本发明提供一种用于确定光信号的主分量的振幅的光学分析系统。该主分量表示经历光谱分析的物质的各个化合物中特殊化合物的浓度。该光信号经历波长选择加权。优选借助于空间光操纵装置与色散光学元件相结合来进行光谱加权。本发明的校准机构和方法有效地允许空间光操纵装置的精确定位。校准是基于在空间光操纵装置上的校准段与参考光源和检测器的结合。

    光学分析系统的自动校准
    74.
    发明授权

    公开(公告)号:CN101010575B

    公开(公告)日:2010-04-14

    申请号:CN200580028719.5

    申请日:2005-07-29

    Abstract: 本发明提供一种基于多元的分光镜系统的自动校准,该基于多元的分光镜系统优选被制作为基于多元的分光计。分光镜系统基于多元光学元件,该多元光学元件提供入射光学信号的光谱加权。光谱加权是基于光谱分量的空间分离以及随后利用空间光调制器进行的空间滤光来进行的。分光镜系统的校准是基于空间光调制器的专用校准段,该空间光调制器的位置对应于入射光学信号的特征的校准或参考波长。优选地,所述校准与参考波长由光源产生的激发辐射的波长给出,所述光源用于在感兴趣体积区中引发散射过程。

    一种便携式光谱仪狭缝及其制作方法

    公开(公告)号:CN107917756A

    公开(公告)日:2018-04-17

    申请号:CN201711273637.8

    申请日:2017-12-05

    CPC classification number: G01J3/04

    Abstract: 本发明涉及狭缝技术领域,一种便携式光谱仪狭缝,包括狭缝底座,狭缝底座下端与支撑环固定连接,狭缝底座上加工有工艺槽,工艺槽底端加工有两个通孔,通孔内设置有狭缝金属丝,位于狭缝底座上端的狭缝金属丝两侧分别设置有左狭缝刀片和右狭缝刀片,狭缝底座通过四根固紧螺栓与狭缝压板固定连接,狭缝底座、狭缝压板和支撑环上分别加工有狭缝透光孔;本发明通过左狭缝刀片和右狭缝刀片与金属丝的固定,在左狭缝刀片和右狭缝刀片之间形成狭缝,不需要调节,狭缝的宽度由金属丝的直径确定。

    一种双入射狭缝高分辨率成像光谱系统

    公开(公告)号:CN106706131A

    公开(公告)日:2017-05-24

    申请号:CN201710037344.3

    申请日:2017-01-19

    CPC classification number: G01J3/2823 G01J3/021 G01J3/0297 G01J3/04

    Abstract: 本发明公开了一种双缝入射高分辨率成像光谱系统,它由双入射缝、分光子系统以及探测子系统构成,其中分光子系统包含主反射镜、凸面光栅、次反射镜以及校正透镜,探测子系统包含滤光片以及面阵探测器。系统具有高分辨率、快速重访时间、较低成本以及空间系统高集成化。双缝结构使系统实现一次观测同时获得两个目标区域的光谱信息,缩短重访时间;通过主反射镜、凸面光栅、次反射镜同心的设计方法,可以减小系统像差,提高系统分辨率。

    凸轮、狭缝装置、微型拉曼散射光谱装置

    公开(公告)号:CN106644082A

    公开(公告)日:2017-05-10

    申请号:CN201611235177.5

    申请日:2016-12-28

    CPC classification number: G01J3/44 G01J3/0202 G01J3/04

    Abstract: 凸轮,具有外接触面、内腔、内接触面、旋转轴;内腔为圆形盲孔,开口于凸轮的下表面,内腔的轴线与旋转轴的轴线重合;内接触面与内腔的腔界面的柱面重合;外接触面为圆柱面,外接触面的轴线与旋转轴的轴线不重合;外接触面的轴线与旋转轴的轴线平行;外接触面的直径大于内接触面的直径;外接触面与内接触面之间为限位壁;凸轮的上表面具有刻度线,刻度线为直线,刻度线的延迟线穿过旋转轴的轴线,刻度线不穿越旋转轴的轴线;刻度线上标有限位壁的壁厚值。狭缝装置、微型拉曼散射光谱装置,具有前述的凸轮。本发明可以防止磨损,还可以防止因为轴承磨损导致轴承不均匀而出现精度变化,本发明保持精度一直不变。

Patent Agency Ranking