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公开(公告)号：CN103744271B
公开(公告)日：2015-10-28
申请号：CN201410042111.9
申请日：2014-01-28
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种激光直写系统与光刻方法，包括焦距测量系统和曝光系统，所述焦距测量系统采用离线的方式测量整个待刻物体表面的三维形貌信息之后，将所述三维形貌信息转化为调焦信息并发送给所述曝光系统，所述曝光系统根据所述调焦信息，在对所述待刻物体表面进行光刻过程中，调节焦距以适合所述待刻物体表面的凹凸程度，使曝光点始终聚焦于所述光刻物体的表面。
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公开(公告)号：CN104614790A
公开(公告)日：2015-05-13
申请号：CN201510094589.0
申请日：2015-03-03
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种平面菲涅尔透镜阵列动态放大光学膜，所述光学膜包括基材层、位于基材层上方的若干菲涅尔透镜阵列层、以及位于基材层下方的若干微图形层，其中所述菲涅尔透镜阵列层由若干阵列设置的菲涅尔透镜组成，所述菲涅尔透镜阵列层与微图形层的距离为菲涅尔透镜的焦距。本发明的动态放大光学膜由菲涅尔透镜的成像作用，使得微图形层中的图形放大再现，且再现的放大像具有动态立体的效果。
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公开(公告)号：CN101937115B
公开(公告)日：2013-11-20
申请号：CN201010224529.3
申请日：2010-07-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: B32B38/06 , B29C59/04 , B32B37/203 , B32B2551/00 , B32B2590/00 , G02B6/0036 , G02B6/0065
Abstract: 一种导光膜制作装置，用于制作卷积筒状的导光膜，包括放料辊、收料辊、分离装置、压印装置和复合装置，其中该导光膜先经分离装置将保护层和基材层分离，然后通过该压印装置在该基材层的待加工面上压印出导光网点，再经过复合装置将剥离的保护层重新复合到基材层上，最后经收料辊回收形成完整的导光膜。本发明的导光膜制作装置，具有产量高、制作尺寸大以及成本低廉的特点。
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公开(公告)号：CN103317229A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310291009.8
申请日：2013-07-11
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 一种标签签注方法和签注系统，通过在原有的激光签注光路和记录材料之间增设一块会聚透镜，依赖会聚透镜对光线角度的改变，只需将会聚透镜物面侧的签注图像进行平移，就能在像面侧得到不同入射角度下的成像效果。不仅控制简单、成像效果好，而且能够利用该签注方法实现多种形式的签注，为个性化激光签注带来了新的应用。
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公开(公告)号：CN101850680B
公开(公告)日：2012-06-06
申请号：CN201010180251.4
申请日：2010-05-24
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种具有动态立体效果的安全薄膜，具有微透镜阵列层、基材层、微图文层；微图文层内包括至少6个微图文；在使用状态下，所述微图文层位于微透镜阵列的焦面附近，其特征在于：微透镜阵列层内的各微透镜的中心坐标在微透镜阵列层内随机分布，微透镜阵列层内的微透镜与微图文层内的微图文一一对应设置。本发明利用莫尔放大和微透镜技术，实现了许多独特的视觉效果，减少了工艺流程，除了紫外压印以外，还可在PET、PMMA、PC等有机薄膜材料上直接制作，具有很高的性能。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN102063951A
公开(公告)日：2011-05-18
申请号：CN201010533228.9
申请日：2010-11-05
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
CPC classification number: H05K3/1208 , H05K3/1258 , H05K3/1283 , H05K2203/0108 , H05K2203/1131
Abstract: 本发明提供一种透明导电膜，该透明导电膜包括透明基底和导电金属，其中在透明基底上利用纳米压印技术压制出用于埋设导电金属颗粒的凹槽以及用于透光的网格，通过设计凹槽的线宽和深度以及占整个透明导电膜的比重，得到了一种透光率高且导电性好的透明导电膜。同时，由于导电金属部分被镶嵌在透明基底内部，不易脱落和氧化，并且可以采用柔性材料作为透明基底，开发出能在更多场合下应用的透明导电膜。同时本发明还提供了该透明导电膜的制作方法。
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公开(公告)号：CN101846890A
公开(公告)日：2010-09-29
申请号：CN201010170978.4
申请日：2010-05-13
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种并行光刻直写系统，包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台，其特征在于：还设有聚焦伺服系统，所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置，所述光学系统由微缩系统和检测光路构成，其中的微缩系统采用双远心光学系统，检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件，检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上，反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收，控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作，实现伺服聚焦。本发明通过结合聚焦成像伺服系统，可以实现亚微米尺度微结构的精确光刻。
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公开(公告)号：CN101510053A
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200910028297.1
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州大学 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
Abstract: 本发明公开了一种用于紫外激光干涉光刻直写系统的光学镜头，其特征在于：由物方透镜组A和像方透镜组B两组透镜组成，A组透镜由A3、A2、A1三片透镜组成，B组透镜由B1、B2、B3、B4四片透镜组成；光线传播方向依次为A3、A2、A1、B1、B2、B3、B4；其中，A1、B1为弯月型凹透镜，A2、B2为双凸透镜，A3、B3、B4为弯月型凸透镜。本发明的像方透镜采用四片结构设计，因而其数值孔径大，干涉条纹的结构精细；限定物方数值孔径，可以减少透镜数量，降低实际加工的累积工艺误差，并且便于与干涉镜头物方的衍射光栅配合；可以在激光干涉直写系统上实现亚波长结构的制作。
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公开(公告)号：CN100529810C
公开(公告)日：2009-08-19
申请号：CN200710135196.5
申请日：2007-11-13
Applicant: 苏州维旺科技有限公司 , 苏州苏大维格光电科技股份有限公司
IPC: G02B6/00 , G02F1/13357
Abstract: 本发明公开了一种背光模组中的导光组件结构，包括导光基材以及导光基材表面制备形成的导光网点结构，其特征在于：包括至少两层导光基材重叠组合构成，每层所述导光基材为厚度50um～150um的导光膜；各层所述基材上的导光网点结构分布位置相互互补；其制作方法：(1)根据LED光源的厚度与导光薄膜材料厚度，确定多层组合的层数；(2)根据LED光源亮度数据及发光面积，确定初始的导光网点分布；(3)根据步骤(2)数据及布点方式进行相应调整；(4)制作相应导光模仁小样；(5)制作各层导光膜，并进行组装。本发明充分利用了LED光源能量，并有效地提高了发光均匀度，多层重叠结构获得更好的触感。
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公开(公告)号：CN101477326A
公开(公告)日：2009-07-08
申请号：CN200910028296.7
申请日：2009-02-06
Applicant: 苏州苏大维格光电科技股份有限公司 , 苏州大学
Abstract: 本发明公开了一种多视角图形输入的三维图形直写方法，包括下列步骤：(1)获得三维物体的分视角平面数字图像；(2)对每幅图像进行分色并分割成子图，在各图像中对应位置相同的子图为一组；(3)取一组子图，分别采用迭代傅里叶变换原理，计算每一子图在远场的光场分布，提取位相信息，按视角排列，编码成H1；(4)用空间光调制器显示H1，并放置于透镜的前焦面，在透镜后焦面上形成多视角图像再现，引入干涉光，通过干涉光路在记录材料上记录再现图像；(5)对应下一组子图的位置，移动记录材料的位置；(6)重复上述步骤至所有子图记录完毕，实现三维图形的记录。本发明用激光直写的方式制作三维图形，图形具有丰富的信息表达特征。
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