公开(公告)号：CN210925635U

公开(公告)日：2020-07-03

申请号：CN201922239112.3

申请日：2019-12-13

Applicant: 烟台首钢磁性材料股份有限公司

Inventor： 董占吉 ,  彭众杰 ,  翟晓晨 ,  丁开鸿

IPC: H01F1/057 ,  H01F41/02

Abstract: 本实用新型提供辐射取向的烧结钕铁硼磁瓦片及成型装置，所述成型装置包括非导磁的模具主体，瓦片形的模腔，上下压头，以及模腔的两侧的导磁块，并且在瓦片形模腔的外圆和导磁块之间设置有对称的均匀化导磁板。所述烧结钕铁硼磁瓦片的磁体Nd2Fe14B主相的取向度在92%以上，辐射取向的取向角度和目标值偏差△θ≤1度，烧结钕铁硼磁瓦片的磁体整体的剩磁偏差△Br≤2%。本实用新型的优点在于，辐射瓦片的磁性能一致性好，制造设备简单，且易于调整，适用于批量生产各种磁性能和形状的辐射瓦片烧结钕铁硼磁钢。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN207624534U

公开(公告)日：2018-07-17

申请号：CN201721907508.5

申请日：2017-12-30

Applicant: 烟台首钢磁性材料股份有限公司

Inventor： 彭众杰 ,  刘晓通

IPC: H01F41/02 ,  H01F1/057 ,  H01F1/08 ,  C23C4/134 ,  C23C4/08

Abstract: 本实用新型公开一种制备R-Fe-B系烧结磁体的装置，包括密闭仓（11），其特点是，所述的密闭仓（11）上设等离子喷枪（1）和开设氩气补给口（8），等离子喷枪（1）的正上方对应设金属镝或铽粉末储料斗（2）；所述的密闭仓（11）内设输送机构（4）和待镀膜的烧结磁体的扩散基体（5）；在密闭仓（11）内活动设翻面机构（6），翻面机构（6）的翻面操作端能伸缩旋转；在密闭仓（11）外一侧连接真空系统（7）和电源及控制和水冷系统（10），在密闭仓（11）外另一侧连接氩气循环系统（3）及供气系统（9），氩气循环系统（3）、供气系统（9）与真空系统（7）配合控制密闭仓（11）内压强；采用本实用新型的装置以金属镝或金属铽粉末作为镀膜沉积材料，使用等离子体喷枪在待镀膜烧结扩散基体指定表面沉积一层金属镝或金属铽薄膜；热处理后沉积区域磁体矫顽力大幅度提高。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

公开(公告)号：CN204474746U

公开(公告)日：2015-07-15

申请号：CN201520095442.9

申请日：2015-02-11

Applicant: 烟台首钢磁性材料股份有限公司

Inventor： 杨昆昆 ,  彭众杰

IPC: C23C14/22

Abstract: 本实用新型主要涉及一种用于钕铁硼磁体的镀膜设备，专用镀膜设备的基本原理为双层辉光等离子表面冶金，其主要特点是结构包括真空室，真空室中部平行等距且相互绝缘的源极和阴极，源极和阴极外的隔热栅，真空室上方的阳极，真空室下方的氩气入口以及真空室后方的真空系统，真空室外的测温系统；表面生成的金属膜层厚度均匀且金属靶材的利用率高，整个镀膜过程中温度相对偏低，对磁体的损害较小，可控性强，无污染，对人体无损害，设备结构简单，靶材限制性小。