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公开(公告)号：CN117982726A
公开(公告)日：2024-05-07
申请号：CN202410172902.7
申请日：2024-02-07
Applicant: 北京航空航天大学
Abstract: 本发明提供一种长期持续性填充的皮肤填充剂及其制备方法，由空间填充材料和刺激填充材料组成；其中空间填充材料为完全可降解且具备力学支撑性能的材料，包括透明质酸钠、胶原等；刺激填充材料采用微球形式，粒径为20‑75μm，为完全可降解且降解产物包含酸性小分子的材料，包括聚左旋乳酸‑羟基乙酸共聚物、聚左旋乳酸等；刺激填充材料由两种及以上降解周期的材料组成，包括不同种类的材料和/或不同分子量的同种材料；其中降解周期短的材料与降解周期长的材料的质量比不小于1：1。空间填充材料具有即时填充的效果，提供植入前期的皮肤填充效果；刺激填充材料通过降解产生的小分子酸和/或特定的粒径范围引起轻度的炎症反应和旁分泌作用来刺激自体胶原的产生，提供植入后期的皮肤填充效果；采用并调整两种及以上降解周期的材料比例使得空间填充材料的降解时间与微球刺激自体胶原产生的时间相衔接，实现从植入前期到植入后期的持续的皮肤填充效果。
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公开(公告)号：CN117594403A
公开(公告)日：2024-02-23
申请号：CN202311482409.7
申请日：2023-11-08
Applicant: 北京航空航天大学
IPC: H01J37/147 , B22F12/41 , B22F12/90 , H01J37/21 , H01J37/04 , H01J37/305 , B33Y30/00 , B33Y10/00
Abstract: 本发明提出一种电子束高速偏转、动态聚焦和消像散同步调节装置和方法，在实现电子束大角度偏转的同时，通过动态聚焦和动态消像散同步调节，使电子束的焦点保持始终保持在工件表面，并具有良好的束斑形貌，实现了束流品质优化。基于逐点扫描方式，采用标定和线性离散的方法获取各点的偏转扫描线圈驱动电流值、动态聚焦线圈驱动电流值，以及消像散线圈驱动电流值，方法简单有效，适合非线性电磁场作用下电子束的偏转距离标定，并且通过增加标定孔数量，可以进一步提高精度；通过标定和线性离散方法建立各扫描点的五维同步调节模型后，无需在线计算，大大节约了计算资源和时间，减少了扫描数据的解析时间，提高了偏转扫描系统的响应时间和扫描效率。
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公开(公告)号：CN113305427B
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202110580651.2
申请日：2021-05-26
Applicant: 北京航空航天大学 , 中国航空制造技术研究院
IPC: B23K26/14
Abstract: 本发明提供一种水导激光装置，该水导激光装置包括：装置主体、导向机构和喷嘴；装置主体设有注水腔和光束腔；注水腔设有导光口、进水口和出水口；光束腔设有激光入口和激光出口；导向机构可摆动地和/或可伸缩地与注水腔连接，内设第一流道，第一流道的入口端与出水口连通；喷嘴与第一流道的出口端连通。本发明提供的水导激光装置，通过在装置主体内设置注水腔和光束腔，将设有流道的导向机构与注水腔连接，并将流道的出口与喷嘴连通，使得该水导激光装置在工作时，聚焦后的激光束能够依次通过流道和喷嘴对准工件，由于导向机构可摆动地和/或可伸缩地与注水腔连接，使得该水导激光装置能够针对工件的结构进行调整，满足不同的加工需求。
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公开(公告)号：CN115194181A
公开(公告)日：2022-10-18
申请号：CN202210552624.9
申请日：2022-05-19
Applicant: 广东省科学院中乌焊接研究所 , 北京航空航天大学
IPC: B22F12/49 , B22F12/41 , B22F12/90 , B22F10/28 , B22F10/366 , B22F10/80 , B33Y10/00 , B33Y30/00 , B33Y50/00 , G01N23/203
Abstract: 本发明的实施例提供了一种工件形貌的监控系统及相关方法，涉及增材制造领域。该系统包括工控机和电子枪，工控机与电子枪电连接；工控机用于获取工件的扫描成像要求，确定各扫描点的聚焦线圈驱动电流数据和扫描偏转线圈驱动电流数据。电子枪用于基于蛇形扫描顺序，针对每个扫描点，根据该扫描点的聚焦线圈驱动电流数据和扫描偏转线圈驱动电流数据，控制电子束进行扫描；以及采集并发送背散射电子信号。其中，背散射电子信号为电子束经过工件反射回电子枪时产生的信号；工控机还用于根据背散射电子信号，生成工件的形貌图像。如此，在整个扫描过程中，精准控制电子束，以使通过采集背散射电子信号而生成的工件的形貌图像更加准确。
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公开(公告)号：CN113325570B
公开(公告)日：2022-08-26
申请号：CN202110542199.0
申请日：2021-05-18
Applicant: 北京航空航天大学 , 中国航空制造技术研究院
Abstract: 本发明提供一种光纤参数设计方法、锥形光纤及激光水束高效耦合装置。该光纤参数设计用于激光水束高效耦合装置中的锥形光纤，且包括：对多个光纤参数进行优先级排序；基于第一耦合基本条件选取安全系数k，基于加工精度和水束稳定性设计柱形光纤直径d，并预选聚焦透镜以获取入射角α和高斯激光束腰半径ω0；基于数学归纳法，选定激光在锥形光纤中发生全内反射次数n和锥形光纤的半锥角β；基于高效耦合方法，计算锥形光纤的高度h和耦合端部直径D；将多个光纤参数分别代入第一耦合基本条件和第二耦合基本条件中进行验算；以及基于验算结果，按照优先级顺序调整锥形光纤的多个光纤参数，直到满足第一耦合基本条件和第二耦合基本条件为止。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN113381636B
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202110619423.1
申请日：2021-06-03
Applicant: 北京航空航天大学
Abstract: 本发明提供一种高频脉冲电子束偏压电源，它包括：基值偏压电源、脉冲偏压电源、隔离通讯电路、隔离供电电源、高压斩波电路；本发明在偏压电源的高压端设置专门的高压斩波电路，能够有效避免高压隔离变压器等器件中的分布电感和电容影响，从而获得上升沿和下降沿快速变化的高频脉冲电子束束流；采用调制解调和高压隔离技术实现了低压端高频脉冲参数向高压端电路的安全可靠隔离串行通讯，并实现了高压端PWM控制波形的产生，使脉冲频率、占空比控制精度高且灵活方便；同时通过高压隔离技术确保了高压端电路供电，大大提高了脉冲偏压上升沿和下降沿的变化速率；本发明结构科学，工艺性好，具有广阔推广应用价值。
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公开(公告)号：CN114397935A
公开(公告)日：2022-04-26
申请号：CN202111570489.2
申请日：2021-12-21
Applicant: 北京航空航天大学
IPC: G05F1/56
Abstract: 一种高压高精度大电流压电陶瓷恒流驱动电路，它包括：DSPIC30F5013控制电路(101)、光电隔离电路Ⅰ(102)、高速高精度DA转换电路Ⅰ(103)、OPA548功率放电路Ⅰ(104)、压电陶瓷充电驱动电源+VCC(105)、MOSFET功率管T1(106)、光电隔离电路Ⅱ(107)、高速高精度DA转换电路Ⅱ(108)、OPA548功率放电路Ⅱ(109)、MOSFET功率管T2(110)、压电陶瓷放电驱动电源‑VEE(111)、电流传感器(112)、压电陶瓷(113)、压分压电阻R1(114)、取样电阻R2(115)、电流信号调理电路(116)和电压信号调理电路(117)；本发明所述的高压高精度大电流压电陶瓷恒流驱动电路，结构科学，工艺性好，具有广阔推广应用价值。
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公开(公告)号：CN108448882B
公开(公告)日：2020-01-17
申请号：CN201810189139.3
申请日：2018-03-08
Applicant: 北京航空航天大学
Abstract: 本发明公开了一种用于逆变电源的抗偏磁电路和方法，该电路包括：PWM模块，其配置为输出脉冲同步信号以及两个原始半波脉宽调制信号；比较模块，其配置判断逆变电源主变压器是否发生偏磁；PWM输出控制模块，其配置为在逆变电源主变压器发生偏磁时，基于脉冲同步信号和比较模块输出的比较结果，向PWM模块输出PWM控制信号；PWM脉宽调节模块，其配置为产生脉宽大于原始半波脉宽调制信号的脉宽的抗偏磁脉宽调制信号，并输出给逆变电源的逆变电路，来对逆变电源的偏磁状态进行控制。本发明可以抑制主变压器偏磁状态且对主功率管实现过流保护。
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公开(公告)号：CN108448882A
公开(公告)日：2018-08-24
申请号：CN201810189139.3
申请日：2018-03-08
Applicant: 北京航空航天大学
Abstract: 本发明公开了一种用于逆变电源的抗偏磁电路和方法，该电路包括：PWM模块，其配置为输出脉冲同步信号以及两个原始半波脉宽调制信号；比较模块，其配置判断逆变电源主变压器是否发生偏磁；PWM输出控制模块，其配置为在逆变电源主变压器发生偏磁时，基于脉冲同步信号和比较模块输出的比较结果，向PWM模块输出PWM控制信号；PWM脉宽调节模块，其配置为产生脉宽大于原始半波脉宽调制信号的脉宽的抗偏磁脉宽调制信号，并输出给逆变电源的逆变电路，来对逆变电源的偏磁状态进行控制。本发明可以抑制主变压器偏磁状态且对主功率管实现过流保护。
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公开(公告)号：CN107320286A
公开(公告)日：2017-11-07
申请号：CN201710676529.9
申请日：2017-08-09
Applicant: 北京航空航天大学
CPC classification number: A61H1/0237 , A61H2201/14 , A61H2201/1642 , A61H2205/10 , B25J9/0006
Abstract: 本发明公开了一种可弹性补偿轴线位移的膝关节外骨骼装置，属于外骨骼结构设计技术领域。该装置包括位移补偿机构、大腿构件、两套尺寸调整机构和两套绑缚机构，大腿构件与位移补偿机构以转动副相连，两组尺寸调整机构分别与大腿构件和位移补偿机构螺钉连接，两套绑缚机构分别与两套尺寸调整机构通过楔形块锁紧盒连接。本发明通过位移补偿机构来补偿人体膝关节轴线在矢状面内的位移，降低由于外骨骼转动副轴线与人体膝关节转动轴线不重合产生的不舒适性；通过尺寸调整机构调整绑缚机构在人体腿部的位置，并可与髋关节、踝关节模块通过调整杆相连；通过绑缚机构中的L型调整杆调整绑缚轴线在其垂直面内的位置，适应不同腿部尺寸的绑缚需求。
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