大口径KDP晶体最佳相位匹配角测量系统及其测量方法

    公开(公告)号:CN114413794B

    公开(公告)日:2023-09-22

    申请号:CN202210109674.X

    申请日:2022-01-29

    Abstract: 本发明公开了一种大口径KDP晶体最佳相位匹配角测量系统及其测量方法,包括依次设置的激光器、整形器、标准镜、凹透镜和CCD相机,激光器出射激光经整形器整形后垂直入射到凹透镜,从而产生从多个角度入射到待测KDP晶体表面的激光,CCD相机用于接收并记录由待测KDP晶体出射的激光;所述测量系统还包括激光自准直仪、晶体自准直仪和图像处理模块,激光自准直仪用于对标准镜及激光器出射激光进行准直,晶体自准直仪用于准直待测KDP晶体,图像处理模块能够读取CCD相机获取的图像并计算出对应的相位匹配角。本发明能够实现KDP晶体相位匹配角度的精确测量,具有自动化程度高,操作方便,测量准确等优点。

    高精度旋转台光轴装调方法

    公开(公告)号:CN114326138B

    公开(公告)日:2023-06-13

    申请号:CN202210003712.3

    申请日:2022-01-05

    Abstract: 本发明公开了一种高精度旋转台光轴装调方法,先使调焦物镜焦点位于第一小孔镜的中心孔处,再使分划板的十字叉丝和第一小孔镜的小孔重合;再使调焦物镜的焦点调至第二小孔镜的中心孔处,然后调整第二小孔镜的位置,使得第二小孔镜与分划板的十字叉丝重合;再使调焦物镜的焦点调至第一反射镜上,并确保人眼观察到第一反射镜上的十字叉丝,再转动旋转台,并调整第二反射镜和第三反射镜的角度,直至十字叉丝不随着旋转台的转动而变化。然后利用分光镜取代调焦物镜,光源取代目镜,使光源发出的平行光穿过第一小孔镜和第二小孔镜,再整体转动旋转台,并调整第二反射镜和第三反射镜的角度,监测CCD相机,直至十字叉丝不随着旋转台的转动而变化。

    一种吸附夹持组件及搬运系统
    74.
    发明公开

    公开(公告)号:CN115648262A

    公开(公告)日:2023-01-31

    申请号:CN202211312570.5

    申请日:2022-10-25

    Abstract: 本发明公开了一种吸附夹持组件及搬运系统,其中吸附夹持组件包括吸盘模块,该吸盘模块包括吸盘和设置在该吸盘工作面边缘的可变形的洁净密封圈,吸盘的工作面为内凹面,沿着该内凹面的边缘固定设置有向前凸出的所述密封圈,所述密封圈的前侧面上成型有吸附凹槽;所述内凹面的凹腔连接有第一气道,所述吸附凹槽的槽腔连接有第二气道,第一气道连接有真空发生器和进气阀组件,第二气道也连接有进气阀组件;吸盘的边缘外还设置有限位板,该限位板一边向所述工作面前方伸出。本吸附装置在与工件接触时能够形成两个吸附腔,在吸附和释放阶段以柔性操作方式作业,防止对工件造成损伤,并避免污染工件表面,特别适用于大型精密元件如光学元件的搬运和装配。

    自密封式真空检测系统及抽真空检漏方法

    公开(公告)号:CN112629782B

    公开(公告)日:2022-09-06

    申请号:CN202011602181.7

    申请日:2020-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种自密封式真空检测系统及抽真空检漏方法,系统包括箱体和罩盖,罩盖底部设置有可上下移动的压板,罩盖顶部固定安装有密封环,罩盖上设有避让孔,该避让孔内设有柔性变形部件,柔性变形部件下端连接在压板上,上端与密封环连接。方法包括步骤一:将待检模块装至箱体的敞口处;步骤二:盖上罩盖,使压板周向边缘与待检模块接触;步骤三:利用真空泵对箱体和罩盖抽真空,在压差的作用下柔性变形部件伸长并带动压板向下挤压待检模块,使待模块与箱体之间密封;步骤四:向罩盖内充入氦气至预设值;步骤五:利用检漏仪测量是否有氦气渗透至箱体内。有益效果是:待检模块能够在真空密封腔内快速自动密封,并完成密封性能检测。

    透镜自动装配工装
    76.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114850823A

    公开(公告)日:2022-08-05

    申请号:CN202210687349.1

    申请日:2022-06-16

    Abstract: 本发明公开了一种透镜自动装配工装,设备基体上设置有镜框定位机构、透镜举升机构、用于携带透镜的工具框以及用于夹持工具框的工具框夹持机构;其中,镜框定位机构水平布置在设备基体上,用于定位安装镜框;透镜举升机构包括位于镜框定位机构中间区域的托板、驱动托板上下升降运动的第一升降模组,以及安装在托板上侧的水平夹持组件,水平夹持组件用于从水平方向夹紧透镜;工具框夹持机构位于镜框定位机构的一侧,工具框夹持机构与设备基体之间设有翻转机构,工具框固定在工具框夹持机构上后,在翻转机构的驱动作用下,工具框及其携带的透镜能够翻转至透镜举升机构的正上方。本发明的有益效果是:能够将透镜自动装配至镜框内。

    离轴非球面扩束组件装调方法
    77.
    发明公开

    公开(公告)号:CN114326068A

    公开(公告)日:2022-04-12

    申请号:CN202210003717.6

    申请日:2022-01-05

    Abstract: 本发明公开了一种离轴非球面扩束组件装调方法,S1:使光源发出的光经非球面镜组和标准镜反射回来仍与发出的光重合;S2:将光源替换成自准直仪,观察自准直仪上的叉丝成像,并同步调整第二非球面镜,使自准直仪返回的叉丝重合;S3:将自准直仪替换成干涉仪,干涉仪对光路进行干涉测量,根据干涉仪测量得到的泽尼克多项式参数来调整第二非球面镜的姿态,直到干涉仪测量得到的波前最小;S4:使调焦电机直线运动,此时分析干涉仪测量得到的泽尼克多项式,若多项式中仅有和离焦有关的参数发生变化,而其他参数不变,则表示调整到位。本发明的有益效果是:能够实现非球面镜光轴的高精度调节。

    光学元件表面清洗系统及其清洗方法

    公开(公告)号:CN114011757A

    公开(公告)日:2022-02-08

    申请号:CN202111287733.4

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明公开了一种光学元件表面清洗系统,包括机架;安装在机架上的电控旋转台,电控旋转台设有用于固定光学元件的夹持机构;通过三维移动机构安装在电控旋转台一侧的清洗座,该清洗座上设有风刀和清洗头接口,并配置有等离子清洗头和液体擦拭清洗头;安装在清洗座上的位置传感器,用于检测与光学元件的距离,并将距离信号输出;以及控制器,能够根据所述距离信号控制三维移动机构、电控旋转台运动,以调整清洗座与光学元件的相对位置,并控制清洗座按预设清洗轨迹对光学元件进行清洗。本发明能够实现光学元件表面的自动清洗,相比人工擦拭清洗,极大提高了清洗效率,保证清洗工艺的稳定性,提高清洗效果。本发明还公开了上述清洗系统的清洗方法。

    光学元件重力形变抑制装置及抑制方法

    公开(公告)号:CN114002805A

    公开(公告)日:2022-02-01

    申请号:CN202111287753.1

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 本发明公开了一种光学元件重力形变抑制装置及抑制方法,包括元件夹持框,所述元件夹持框内部安装有气浮板,所述气浮板上分布有第一气孔和第二气孔,其中,所述第一气孔沿气浮板的周向分布,第二气孔分布在各个所述第一气孔围成的区域内,所述第一气孔连接有压缩空气气源,第二气孔连接有压缩空气气源或真空发生器;所述元件夹持框远离气浮板的一侧具有安装敞口,用于装配光学元件,所述安装敞口的周向侧壁上设有螺纹定位部件。本发明的有益效果是:能够以非接触的方式达到抑制光学元件重力形变的目的,适用于工作反射面朝上水平放置、朝上倾斜放置、朝下水平放置或朝下倾斜放置的任一光学元件,通用性好。

    面形补偿系统
    80.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112731619A

    公开(公告)日:2021-04-30

    申请号:CN202011605385.6

    申请日:2020-12-30

    Abstract: 本发明公开了一种面形补偿系统,包括支撑板,所述支撑板上安装有沿径向分布的内密封圈和外密封圈,内密封圈和外密封圈均凸出于支撑板的表面,支撑板在对应内密封圈限定的区域内设有内气孔,在对应内密封圈与外密封圈限定的区域内设有外气孔,所述内气孔通过第一气管连接有第一真空发生器或进气阀门,支撑板在对应内密封圈限定的区域内连接有真空计,所述外气孔通过第二管道连接有第二真空发生器。本发明的有益效果是:通过利用内外气压压差,以内密封圈为支点形成弯矩,实现了元件因重力或其它外力导致的面形形变的补偿。

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