光学装置
    68.
    发明公开
    光学装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN118946834A

    公开(公告)日:2024-11-12

    申请号:CN202380030265.3

    申请日:2023-03-30

    Abstract: 本申请涉及光学装置,所述光学装置顺序地包括:第一外基底、液晶单元和第二外基底,其中液晶单元包括:包括第一基础层和压敏粘合剂层的上基底;包括第二基础层和间隔物的下基底;以及在上基底与下基底之间的包含液晶化合物的液晶层,并且所述光学装置还包括:在第一外基底与液晶单元之间的第一中间层;和在第二外基底与液晶单元之间的第二中间层,其中本申请的光学装置可以适当地保持液晶单元的单元间隙,在上基底与下基底之间具有优异的粘合性,并且解决了液晶单元在与外基底粘合期间的挤压和溢流现象。

    光调制装置
    69.
    发明公开
    光调制装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN115997161A

    公开(公告)日:2023-04-21

    申请号:CN202180041664.0

    申请日:2021-07-22

    Abstract: 本申请涉及光调制装置。本申请可以提供这样的光调制装置:其具有优异的光学特性例如透射率可变性和机械特性,并且控制黑色模式下在所有方向上的光泄露,并因此可以用于各种应用。所述光调制装置包括在第一基底与第二基底之间的光调制层,并且包括形成在第一基底或第二基底的表面上并且对于波长为550nm的光的面内延迟在100nm至300nm的范围内的相位延迟器膜。

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