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公开(公告)号：CN217019960U
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202220519187.6
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
IPC: B24B53/017
Abstract: 本实用新型公开了一种具有超声波功能的抛光布修整盘，其结构包括超声波振子和减震组件，通过设置了超声波振子在不锈钢基座内侧，通过超声波振子在修整的过程中对抛光布起到清洁作用，减少抛光布上的结晶现象，有利于提高对修正盘对抛光布的清洗效果的同时提高抛光布的抛光效果，通过设置了固定机构在定位盘内部，通过双向螺纹柱对金刚石片和金刚石柱两者进行固定，并通过永磁体对金刚石片进行吸附动作，通过设置了减震组件在不锈钢基座内侧，通过限位板和减震弹簧对超声波振子进行安装限位和减震动作，避免出现超声波振子工作时因抛光液流动而带动整体修整盘振动。
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公开(公告)号：CN215357942U
公开(公告)日：2021-12-31
申请号：CN202122011822.8
申请日：2021-08-25
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种具有多通路的真空吸盘，包括真空吸盘、吸附区域、负压通路以及其他一路或多路通路。本实用新型设置的多个通路可以作为抛光液的供应通路，其优点是抛光液从压力盘中心供应，解决了常规抛光液供应集中在压力盘外周难以进入压力盘中心而导致的晶片TTV恶化的问题，并且设置的多个通路也可以作为冷却液的供应通路，冷却液从压力盘中心流出，可以获得更好的冷却和排屑效果，同时设置的多个通路还可以作为第二路真空，用于吸附其他尺寸晶片的真空转接吸盘，这样可以使得通过转接吸盘的使用而使设备具有较强的兼容性，同一种吸盘可以加工不同尺寸的晶片。
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公开(公告)号：CN213004603U
公开(公告)日：2021-04-20
申请号：CN202021708573.7
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种可控制工件平行度的单面研磨机，其结构包括固定架、卡爪装置、连接线、滑动驱动装置、滑轨、滑块、转动驱动装置、上主轴和控制平行度装置，本实用新型通过将控制平行度装置设置于上主轴外侧底端，便可通过上主轴带动压力盘进行转动，再通过下主轴带动连接轴上的研磨盘在直线轴承上进行固定转动，并且通过通过直线轴承与工作环，使得压力盘能够与研磨盘完成平行，研磨的过程中，必然是多个零件中高度最高的零件先被高平行度地研磨，最终所有零件都能够被研磨成平行度很好的研磨面，通过将工作环由两个以上的圆柱形陶瓷柱体组成，并且圆柱形陶瓷柱体沿着均压垫底端面呈环形状分布，保证工作环的平整度。
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公开(公告)号：CN211133670U
公开(公告)日：2020-07-31
申请号：CN201921721882.5
申请日：2019-10-11
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种集成超声波分散功能的抛光液搅拌装置，其结构包括罐体、顶盖、电机、搅拌桨、进料管、超声波发生器、导线、第一密封圈、超声波发射杆、导管、抽取软管、输送泵和输出软管，本实用新型通过在搅拌罐的外壳安装了一个超声波发生器，且在搅拌罐内壁上安装了一个超声波发射杆，超声波发生器通过导线贯穿搅拌罐连接至超声波发射杆，通过超声波发生器控制对超声波发射杆进行控制，使超声波发射杆发射超声波，且超声波发射杆安装与距离搅拌罐内部底端三厘米，便于对搅拌罐内部的抛光液产生超声波，通过超声波发射杆对抛光液产生超声波增加抛光液内细微颗粒的分散效果，进而增加抛光液的搅拌效果。
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公开(公告)号：CN208084105U
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201820338310.8
申请日：2018-03-13
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 一种用于研磨抛光机的修整环，修整环的内壁具有至少一个垂直凹槽，与修整环对应使用的工装具有一个凹口，垂直凹槽与凹口的位置相对，一个L形挡片被置于垂直凹槽与凹口形成的空间内，挡片的垂直部被置于所述垂直凹槽内，挡片的底部被置于凹口内。通过在修整环的内壁设计一个垂直凹槽，与所述修整环对应使用的工装设计一个凹口，利用挡片固定修整环和工装的相对位置，解决了研磨过程中修整环与工装发生相对位移的棘手问题。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN206925702U
公开(公告)日：2018-01-26
申请号：CN201720825765.8
申请日：2017-07-08
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 一种用于半导体晶片抛光的无蜡抛光模板，无蜡抛光模板由无蜡抛光模板框架和吸附垫组成，通过无蜡抛光模板背面的背胶粘贴到陶瓷盘上使用，无蜡抛光模板框架表面加工有抛光液流动槽。用于固定晶片的吸附晶片区域圆的边缘凸出部分也加工有抛光液流动槽。本实用新型的无蜡抛光模板的框架表面加工了用于抛光液流动槽，增强了晶片抛光过程中抛光液在抛光布上的流动性和分布，使得抛光效率和精度得以提升。
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公开(公告)号：CN222114723U
公开(公告)日：2024-12-06
申请号：CN202420096599.2
申请日：2024-01-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Abstract: 本实用新型涉及晶片刷洗机技术领域，且公开了一种使用行星式毛刷结构的晶片刷洗机，包括有：底座，所述底座四端的上方均固定安装有支撑杆，所述支撑杆的上方固定安装有顶盖，所述底座的下方固定安装有电机一，所述电机一的上方转动安装有转盘，所述转盘的上方均匀固定安装有放置盘；调节机构，所述调节机构设置于顶盖的内部，包括有连接轴。本实用新型刷洗机构由多个抛光盘组成，抛光盘固定在圆筒下方，刷洗时，圆筒旋转，同时副齿轮带动抛光盘自转，从而实现行星运动，与传统的晶片刷洗机相比，该款使用行星式毛刷结构的晶片刷洗机的好处是，抛光盘能在刷洗的区域内实现等量刷洗，刷洗时不会产生死角，清洗效果更好。
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公开(公告)号：CN220613512U
公开(公告)日：2024-03-19
申请号：CN202322291587.3
申请日：2023-08-24
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型涉及半导体设备配件加工技术领域，且公开了一种半导体设备配件用多功能抛光机，包括有：主机；所述主机的顶端固定安装有固定板一，所述固定板一的表面活动套装有移动盒；抛光机构，其设置于主机的顶端；夹持机构，其设置于移动盒的顶部；所述夹持机构包括有固定盒，所述固定盒的内部活动连接有移动板，所述移动板的内部活动连接有齿轮。本实用新型通过把工件放入载盘的顶端，接着转动转动杆，使转动杆带动齿轮旋转，接着齿轮会带动移动板移动，使移动板带动夹具向工件的表面移动，使夹具与工件接触，从而对工件进行固定，避免使用胶或胶膜固定工件，从而方便操作人员投放和收集工件，增加了装置抛光的效率。
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公开(公告)号：CN217019959U
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202220513479.9
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
IPC: B24B53/017
Abstract: 本实用新型公开了一种具有超声波功能的抛光布刷盘，包括抛光布刷盘、安装孔、清理刷毛、超声波振子，通过设置了超声波振子增加了超声波功能，在刷洗机运行时超声波振子上的超声波震动传导头会提高刷洗机产生的振幅，超声波震动传导头提高后的振幅会通过超声波扩散底座传导到抛光布刷盘上带动抛光布刷盘振动，抛光布刷盘振动会带动清理刷毛振动，通过超声波产生的高频振动，使得清理刷毛在刷洗时候产生高频振动，提高了对抛光垫的刷洗和修整效果，从而提高了抛光材料的抛光效率。
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公开(公告)号：CN217019893U
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202220518216.7
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种使用双面抛光机实现单面抛光的抛光装置，包括上抛光板、上抛光垫、行星轮结构和从动下盘结构，通过设置了从动下盘结构，从动下盘结构的底盘外侧设置有第二外驱动轮，从动下盘结构的第二外驱动轮和行星轮的第一外驱动轮的外径一直，且从动下盘结构的第二外驱动轮和行星轮的第一外驱动轮的卡齿数量大小一致，使外部驱动齿轮可同时驱动第二外驱动轮和第一外驱动轮进行转动，且在底盘内部设置了陶瓷支撑盘，通过陶瓷支撑盘对抛光物件底部进行支撑，且陶瓷支撑盘跟随抛光物件进行转动，保持了双面抛光的精度，且对物体进行单面抛光，使双面抛光设备在需要对物体进行单面抛光时，只需将下抛光盘更换为从动下盘结构。
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