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公开(公告)号：CN113453750A
公开(公告)日：2021-09-28
申请号：CN201980092419.5
申请日：2019-02-19
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: A61N5/06
Abstract: 本发明是一种确定光动力疗法的条件参数的方法，所述光动力疗法在对被检体给药5－氨基乙酰丙酸类之后，对在细胞内积蓄的原卟啉IX照射光，所述方法包括以下步骤：在实验阶段，计算出表示细胞生存率(Y)、细胞内原卟啉IX蓄积量(X)以及光照射能量密度(P)这三个条件参数之间的相关关系的回归曲线的步骤；以及在治疗开始前，预先选择细胞生存率(Y)、细胞内原卟啉IX蓄积量(X)以及光照射能量密度(P)中的两个条件参数，利用所述回归曲线确定剩下的条件参数的步骤。通过这样的方法，能谋求光动力疗法的最优化。
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公开(公告)号：CN106990052B
公开(公告)日：2021-07-27
申请号：CN201611160666.9
申请日：2016-12-15
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 提供一种能够实现小型化且提高了通用性的光学特性测定装置以及光学系统。光学特性测定装置包含：第一光学元件，其将来自被测定物的测定光变换为平行光；反射型透镜，其通过反射来自第一光学元件的平行光来将该平行光变换为会聚光；受光部，其接收来自反射型透镜的会聚光；以及驱动机构，其使第一光学元件相对于被测定物的相对位置变化。
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公开(公告)号：CN112710393A
公开(公告)日：2021-04-27
申请号：CN202011149855.2
申请日：2020-10-23
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: G01J3/28
Abstract: 本发明通过一种光学测定装置、波长校正方法以及标准试样。光学测定装置包括以下单元：理论干涉谱获取单元，其获取基于标准试样的已知的厚度、折射率以及消光系数进行数学计算得出的、关于该标准试样的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为理论干涉谱；实测干涉谱获取单元，其获取利用受光器经由衍射光栅接收对标准试样照射测定光而产生的反射光或透过光所生成的反射率干涉谱或透过率干涉谱来作为实测干涉谱；关联信息获取单元，其获取用于决定理论干涉谱与实测干涉谱的关于波长的关联的关联信息；以及波长校正单元，其参照关联信息将用于规定多个受光元件的波长值的波长校正式决定为使对实测干涉谱应用波长校正式所得到的结果与理论干涉谱一致。
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公开(公告)号：CN110500963A
公开(公告)日：2019-11-26
申请号：CN201910414005.1
申请日：2019-05-17
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: G01B11/06
Abstract: 本公开涉及一种光学测定装置以及光学测定方法，其要解决的问题在于，在对试样中的一方的表面照射光的光学测定装置中，测定探头与试样之间的距离和试样的膜厚。本公开的厚度测定装置包括：探头，包括具有参照面的透射光学构件，经由所述参照面将光照射至试样，接受来自所述参照面的第一反射光、来自所述试样的表面的第二反射光以及来自所述试样的背面的第三反射光；以及运算部，使用由所述第一反射光和所述第二反射光产生的第一反射干渉光，计算出从所述参照面到所述试样的表面的第一距离，使用由所述第二反射光和所述第三反射光产生的第二反射干渉光，计算出所述试样的厚度。
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公开(公告)号：CN103969230B
公开(公告)日：2018-06-26
申请号：CN201410040012.7
申请日：2014-01-27
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: G01N21/64
Abstract: 提供一种能够在更短时间内测量荧光体的光学性能的测量装置以及测量方法。测量装置(1)具备：光源(52)，其用于对荧光体照射激励光；受光部(10)，其用于接收激励光中的透过了荧光体的光以及通过激励光而由荧光体产生的荧光；以及检测部(200)，其用于检测由受光部接收到的光。受光部包括：壳体(12)，其在激励光的照射方向上具有规定长度；光漫射部(14)，其被配置在壳体的荧光体一侧；以及窗(18)，其被配置在壳体的与光漫射部相反一侧，用于将所入射的荧光引导到检测部。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN106918308A
公开(公告)日：2017-07-04
申请号：CN201611166680.X
申请日：2016-12-16
Applicant: 大塚电子株式会社
Abstract: 本发明提供能抑制误差的预倾角测定装置及预倾角测定方法。预倾角测定装置(1)具备：透射测定投光部(2)，其向液晶基板(LC)的测定位置(M)照射偏振的测定光；透射测定受光部(3)，其接收测定光的透射光，获取透射光的偏振状态；倾斜测定投光部(41)，其向液晶基板(LC)的测定位置(M)照射倾斜检测用光(L1)；倾斜测定受光部(43)，其接收倾斜检测用光(L1)的反射光(L2)，获取反射光(L2)的受光位置；和控制部(10)，其根据反射光(L2)的受光位置，算出液晶基板(LC)的测定位置(M)的倾角，根据测定光的照射角度、液晶基板(LC)的测定位置(M)的倾角和透射光的偏振状态，算出液晶基板(LC)中所含的液晶分子的预倾角。
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公开(公告)号：CN103575508B
公开(公告)日：2017-05-24
申请号：CN201310030361.6
申请日：2013-01-25
Applicant: 大塚电子株式会社
CPC classification number: G02B17/00 , G01J1/0214 , G01J1/04 , G01J1/0407 , G01J1/0425 , G01J3/0218 , G01J3/0254 , G01J3/0262 , G01J3/505 , G01J2001/0481 , G01J2001/4252 , G02B5/08
Abstract: 本发明提供一种光学特性测量装置，包括内壁具有反射面的半球部以及平面部，该平面部被配置成堵塞半球部的开口，在半球部的内壁侧具有反射面。平面部包括第一窗，该第一窗用于在包含半球部的实质的曲率中心的范围内安装光源。半球部和平面部中的至少一方包括多个第二窗，该多个第二窗以具有规定的规则性的方式进行配置，用于从半球部的内部取出光。
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公开(公告)号：CN104246456A
公开(公告)日：2014-12-24
申请号：CN201280072460.4
申请日：2012-07-30
Applicant: 大塚电子株式会社
IPC: G01J1/00
CPC classification number: G01J1/06 , G01J1/0223 , G01J1/0403 , G01J1/0488 , G01J1/4257 , G01J2001/4247
Abstract: 本发明提供一种光学测量装置(1)，包括：中空的圆筒状构件(2)，其在一个平面上具有第一开口(10)，并且在另一平面上具有第二开口(18)；旋转机构(52、54)，其用于使圆筒状构件绕圆筒状构件的中心轴即第一轴线旋转；支承部(20、22)，其用于将光源(30)配置于测量位置，该测量位置在第一轴线上，且该测量位置为所照射的光穿过第一开口而入射到圆筒状构件的内部的位置；第一反射部(12)，其配置在圆筒状构件的内部，用于反射从光源穿过第一开口而入射的光；第二反射部(14)，其用于反射圆筒状构件的内部的光，使该光穿过第二开口而沿第一轴线向圆筒状构件的外部传播；以及至少一个的第三反射部(16)，其用于使第一反射部的反射光入射到第二反射部。
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公开(公告)号：CN102192832B
公开(公告)日：2014-12-17
申请号：CN201110043621.4
申请日：2011-02-23
Applicant: 大塚电子株式会社
CPC classification number: G01J3/0254 , G01J1/58 , G01J2001/0481 , G01J2001/4247
Abstract: 本发明提供一种光学测量装置(100、200、300)，其包括：内壁上具有漫反射层(1a)的半球部(1)；通过半球部的实际的曲率中心，且配置为封闭半球部的开口部的、在半球部的内表面侧具有反射层的平面部(10)。平面部包括：用于将要在形成于半球部与平面部之间的积分空间内均匀化的光导入该积分空间内的窗(2、4、17)和用于抽出在积分空间内被均匀化了的光的窗(6、18)中的至少一种窗；自平面部与半球部的内壁相接触的最外周起至少占有规定宽度的区域的、由主要产生正反射的第1材质构成的外周部(12)；由与第1材质相比至少在紫外波长区域具有更高的反射率且主要产生漫反射的第2材质构成的、占有外周部的内侧的区域的内周部(14)。
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公开(公告)号：CN102680097A
公开(公告)日：2012-09-19
申请号：CN201210063704.4
申请日：2012-03-12
Applicant: 大塚电子株式会社
CPC classification number: G01J3/0291 , G01J3/0218 , G01J3/0232 , G01J3/0262 , G01J3/027 , G01J3/18 , G01J3/2803
Abstract: 提供一种分光特性测量方法以及分光特性测量装置，用于更高精度地测量被测量光的分光特性。分光特性测量方法包括以下步骤：使波长范围为第二波长范围的光入射到在第一波长范围具有检测灵敏度的分光测量器，第二波长范围为上述第一波长范围的一部分；从与由分光测量器检测出的第一光谱中的第二波长范围以外的范围相对应的部分中获取表示杂散光成分的特性信息；以及对特性信息进行外插处理直至第一波长范围中的第二波长范围为止，来获取表示产生于上述分光测量器的杂散光成分的图案。
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