-
公开(公告)号:CN1777565A
公开(公告)日:2006-05-24
申请号:CN200480010847.2
申请日:2004-06-25
Applicant: 日本西卡株式会社 , 东邦化学工业株式会社
CPC classification number: C04B24/2694 , C04B24/2658 , C04B28/02 , C04B40/0039 , C04B2103/408 , C08G73/028 , C08L33/24 , C08L79/02 , C09J133/24 , C04B2103/304 , C04B2103/50
Abstract: 提供作为含有带不饱和基团的聚酰胺多胺环氧烷烃加成物、两种以上聚烷撑二醇酯的水溶性两性共聚物的,且在混炼时可使混凝土组合物的分散性随时间提高、具有优异的混凝土粘度降低性的水泥分散剂及含有该分散剂的混凝土组合物。其中的水泥分散剂以由(A)带有不饱和基团的聚酰胺多胺环氧烷烃加成物、(B)(甲基)丙烯酸或其碱金属盐、铵或链烷醇胺盐、(C)甲基丙烯酸的聚烷撑二醇酯、(C)丙烯酸的聚烷撑二醇酯进行共聚而形成的水溶性两性共聚物或其中和盐为必需成分。
-
公开(公告)号:CN1253963A
公开(公告)日:2000-05-24
申请号:CN99124888.0
申请日:1999-11-17
Applicant: 不二见株式会社 , 东邦化学工业株式会社
CPC classification number: C09G1/02 , C09K3/1463
Abstract: 一种包含(a)水,(b)至少一种选自聚苯乙烯磺酸及其盐的化合物,(c)选自除组分(b)的无机酸、有机酸及它们的盐类的化合物,(d)至少一种选自氧化铝、二氧化硅、氧化铈、氧化锆、氧化钛、氮化硅及二氧化锰的研磨材料,在对用于存储器硬盘的基片进行抛光时研磨速度更快、消泡性更好、并可防止微细凹痕、微小突起及其他表面缺陷产生的研磨用组合物;1种包含以上(a)~(c)组分,在对基片进行抛光的前处理及(或)后处理时消泡性更好,并可充分除去基片表面附着物和研磨粉等的漂洗用组合物。
-
公开(公告)号:CN86104549A
公开(公告)日:1987-02-11
申请号:CN86104549
申请日:1986-07-22
Applicant: 富士石油株式会社 , 东邦化学工业株式会社
IPC: C10L1/32
CPC classification number: C10L1/326 , Y10S516/03
Abstract: 一种用表面活性剂作分散剂生产高浓度煤-水泥浆的方法,其中表面活性剂是通过磺化和氧化一种烃,这种烃至少包括蒸馏石油、石油沥青、沥青、蒸馏煤油、煤沥青和煤中的一种物质,然后用碱中和所得到的产品制备的。
-
-