一种废弃氟橡胶的回收利用方法、氟橡胶纳米复合材料及其应用

    公开(公告)号:CN117700830A

    公开(公告)日:2024-03-15

    申请号:CN202311720034.3

    申请日:2023-12-14

    IPC分类号: C08K3/04 C01B32/05 C08L27/12

    摘要: 本发明提供一种废弃氟橡胶的回收利用方法、氟橡胶纳米复合材料及其应用,所述的废弃氟橡胶的回收利用方法适用于生产或实验过程中产生的所有废弃胶料,通过高温煅烧和研磨废弃氟橡胶得到氟橡胶衍生碳(氟碳),该氟碳材料具有纳米级颗粒尺寸,不仅可以用于氟橡胶增强,还可以应用于能源等其他领域;所述的氟橡胶纳米复合材料采用废弃氟橡胶衍生碳作为增强填料,使所制备的纳米材料各项性能明显增强,其较优产品的拉伸强度、100%定伸应力和残炭率相较未添加增强填料的氟橡胶分别增加了21.4%、105.8%和19.1%,并将氟橡胶在200℃下的使用寿命延长了1.64年,具有良好的应用前景和工业化潜力。

    用于变桨轴承激光冲击波柔性加工的夹具

    公开(公告)号:CN108581186B

    公开(公告)日:2023-12-26

    申请号:CN201810735851.9

    申请日:2018-07-06

    IPC分类号: B23K26/00 B23K26/70

    摘要: 本发明涉及用于变桨轴承激光冲击波柔性加工的夹具,包含基座、回转工作台一、轨道一、轴承外圈夹紧装置、回转工作台二、轨道二以及轴承内圈夹紧装置;回转工作台一设置在基座外圈,可在基座上转动;轨道一设置在回转工作台一上,轨道一包含至少两个结构相同的子轨道,可随着回转工作台一的转动而转动;轴承外圈夹紧装置设置于轨道一中,可在轨道一中自由滑动;回转工作台二设置在基座内圈,可在基座上转动;轨道二设置在回转工作台二上,轨道二包含至少两个结构相同的子轨道,可随着回转工作台二的转动而转动;轴承内圈夹紧装置设置于轨道二中,可在轨道二中自由滑动。实现对工件的定位和夹持,满足对变桨轴承激光冲击加工的需求。

    一种印刷设备高速刀具激光表面强化装置

    公开(公告)号:CN117265239A

    公开(公告)日:2023-12-22

    申请号:CN202311324982.5

    申请日:2023-10-12

    摘要: 本发明涉及一种印刷设备高速刀具激光表面强化装置,包括机台,机台包括用于加工高速刀具的工作区和用于等待加工的待工作区,工作区与待工作区之间设置有用于将待工作区的高速刀具移动至加工区的操作机构,操作机构包括转盘,转盘上分别设置有用于加工纵刀的第一工位和用于加工圆刀的第二工位,圆盘内对应工作区的一侧设置有加工机构,加工机构包括激光头、安装座、三轴移动组件和控制器,激光头设置于安装座上,安装座设置于三轴移动组件上,三轴移动组件和激光头与控制器电连接。通过采用上述技术方案,淬火效果更均匀、效率更高、无污染;对不同材料的淬火深度可以实现可调节,满足纵刀和圆刀的夹持要求,适用性更广。

    一种磁通门电流传感器的确定方法及系统

    公开(公告)号:CN115267295A

    公开(公告)日:2022-11-01

    申请号:CN202210920712.X

    申请日:2022-08-02

    摘要: 本发明公开了一种磁通门电流传感器的确定方法及系统,涉及传感器设计技术领域,方法包括:获取多组给定的第一磁芯参量;一组第一磁芯参量对应一个磁通门电流传感器;根据每组第一磁芯参量确定一个磁化曲线,得到多个磁化曲线;根据每个磁化曲线和初始电路拓扑构建传变特性模型,得到多个传变特性模型;对每个传变特性模型,计算线性度和探头外径;利用预设约束条件和多目标遗传算法,对所有线性度和探头外径进行优化,得到最优传变特性模型;将最优传变特性模型对应的第一磁芯参量、第一传感参量、第二传感参量赋给初始电路拓扑,得到最优拓扑电路;最优拓扑电路用于构建目标磁通门电流传感器。本发明在减小探头体积的同时提高了测量的精度。

    一种提高MOCVD外延薄膜质量的优化生长方法

    公开(公告)号:CN112760611A

    公开(公告)日:2021-05-07

    申请号:CN202011524321.3

    申请日:2020-12-22

    摘要: 本发明公开一种用预沉积形核层提高MOCVD外延薄膜质量的优化生长方法。采用的技术方案包括以下制备方法:步骤1、将衬底或薄膜A放在MOCVD设备的反应腔中,在反应腔充满载气H2的状态下,通入含元素X的化合物作为X源,将温度、反应腔压力、沉积时间均设置在该气体化合物能够分解出X原子的参数范围内,在衬底或薄膜A的表面进行预沉积X原子层,此时X原子层吸附在衬底或者薄膜A上;该X原子层可在后续流程中与其他化合物反应生成薄膜B成分,或者与薄膜A直接形成薄膜B成分。