-
公开(公告)号：CN103620340A
公开(公告)日：2014-03-05
申请号：CN201280028199.8
申请日：2012-05-31
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： O·埃亚尔
CPC classification number: G01B11/14 , G01B2210/50 , G02B21/0064
Abstract: 一种用于测量到基板的距离的系统，其包括第一光源，所述第一光源通过透镜发射第一波长在所述基板的区域上。第二光源通过透镜发射第二波长在所述基板的区域上。第一和第二检测器配置为检测从所述基板反射回的第一和第二波长光。处理器被配置为计算第一响应函数，其中所述第一响应函数将从所述第一光源发射的反射光强度表示为成像设备和所述基板之间的距离的函数。第二响应函数将从所述第二光源发射的反射光强度表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数。比率响应函数将所述第一响应函数和所述第二响应函数的比率表示为所述成像设备和所述基板之间的距离的函数。
-
公开(公告)号：CN103430098A
公开(公告)日：2013-12-04
申请号：CN201280014086.2
申请日：2012-02-16
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： 宫本靖
CPC classification number: B41C1/1016 , B41C1/1008 , B41C2210/02 , B41C2210/06 , B41C2210/262
Abstract: 本发明提供即使在烤版后也具有良好的图像反差的CTP正型平版印刷版原版。该正型平版印刷版原版是在基板上具有含有水不溶性且碱可溶性树脂及光热转换材料的图像形成层而成的正型平版印刷版原版，其特征在于，所述图像形成层含有酸性染料作为着色剂。
-
公开(公告)号：CN102159478B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN200980136333.4
申请日：2009-09-03
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： Y·德罗尔
CPC classification number: B65H7/14 , B65H9/20 , B65H2301/42256 , B65H2511/20 , B65H2511/242 , B65H2511/413 , B65H2553/42 , B65H2553/46 , B65H2557/51 , B65H2701/1928 , B65H2220/02 , B65H2220/03 , B65H2220/01
Abstract: 一种用于探测放置于版托盘上方的顶版的对准的系统。相对于系统的预定的坐标而探测该对准，该系统通常包括以下部件：照明源，其设置成将光照亮在顶版的至少一个边缘上；扫描仪，其用于获取顶版边缘的扫描结果。通过分析部件来分析扫描结果，从而在将顶版装载入CTP成像装置内之前正确对准顶版。
-
公开(公告)号：CN102483588B
公开(公告)日：2013-09-11
申请号：CN201080039504.4
申请日：2010-09-02
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: G03F7/3057 , B41C1/1008 , B41C1/1016 , B41C2201/02 , B41C2201/14 , B41C2210/02 , B41C2210/04 , B41C2210/06 , B41C2210/14 , B41C2210/22 , B41C2210/24 , B41C2210/26 , B41C2210/262 , G03F7/322 , G03F7/40
Abstract: 本发明描述一种用于产生成像的平版印版的方法和装置，其中所述方法包括单步冲洗和从至少版的印刷面进行干燥，其中所述干燥步骤是在挤压经冲洗版之后立即进行。
-
公开(公告)号：CN102046386B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200980119855.3
申请日：2009-05-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： O·奥德
IPC: B41J2/165
CPC classification number: B41J2/16588 , B41J2/16547
Abstract: 提供了一种用于喷墨打印头的维护站设备。所述打印头包括并排设置在一行并且相对于打印介质运动的方向倾斜的多个喷射模块，该多个喷射模块中的每个都包括喷嘴面，每个喷嘴面都包括被构造成喷射第一液体的第一喷嘴阵列和被构造成喷射第二液体的第二喷嘴阵列。所述维护站设备包括擦拭单元，以及包括与所述多个喷射模块相对应的多个盖帽对的盖帽单元，其中，所述擦拭单元包括第一擦拭器、第二擦拭器、和擦拭器移动机构，所述第一擦拭器与每个喷射模块的第一喷嘴阵列相关联，所述第二擦拭器与每个喷射模块的第二喷嘴阵列相关联，每个盖帽对中的一个盖帽与相对应的喷射模块的第一喷嘴阵列相关联，所述盖帽对中的另一个盖帽与相对应的喷射模块的第二喷嘴阵列相关联。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101472742B
公开(公告)日：2013-08-21
申请号：CN200780023145.1
申请日：2007-06-04
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41C1/05 , B23K26/0608 , B23K26/0617 , B23K26/0648
Abstract: 一种用于直接雕刻柔性印刷板的光学成像头，包括：发射一个或多个波长的辐射的至少两个激光二极管(10，12)；以及用于将该一个或多个波长的辐射成像在相对于该板的表面的不同深度的装置。
-
公开(公告)号：CN101578391B
公开(公告)日：2013-07-24
申请号：CN200780049535.6
申请日：2007-12-26
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： D·H·莱维
IPC: C23C16/455 , C23C16/54
CPC classification number: C23C16/45563 , C23C16/403 , C23C16/4408 , C23C16/45519 , C23C16/45525 , C23C16/45527 , C23C16/45551 , C23C16/45553 , C23C16/45574 , C23C16/545 , H01L21/02164 , H01L21/02178 , H01L21/02181 , H01L21/02183 , H01L21/02186 , H01L21/02189 , H01L21/02192 , H01L21/0228 , H01L21/02557 , H01L21/0262
Abstract: 本发明公开一种在基片上沉积薄膜物质的方法，所述方法包括从薄膜沉积系统的输送头的输出面朝向基片的表面同时引导一系列气流，其中所述系列的气流包括至少第一气态反应物质、惰性吹扫气体和第二气态反应物质，其中第一气态反应物质能够与用第二气态反应物质处理的基片表面反应，其中一个或多个气流提供至少有助于使基片表面从输送头的面分离的压力。本发明还公开一种能够实施此方法的系统。
-
公开(公告)号：CN103079827A
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN201180041838.X
申请日：2011-08-29
Applicant: 伊斯曼柯达公司
CPC classification number: B41J2/02 , B41J2/03 , B41J2/17563 , B41J2002/031 , B41J2002/033 , B41J2002/14403
Abstract: 一种打印头，其包括液体歧管。过滤器与液体歧管流体连通。喷嘴板包括长度和沿喷嘴板长度延伸的喷嘴阵列。液体室被布置在喷嘴板与过滤器之间。液体室与喷嘴阵列和过滤器流体连通，并且包括基本垂直于喷嘴板长度的宽度。液体室包括与喷嘴板隔开并且与过滤器隔开的结构。该结构跨越液体室的宽度。液体源在足以从喷嘴阵列喷射各液体流的压力下提供经过歧管、过滤器、液体室的液体。
-
公开(公告)号：CN101809192B
公开(公告)日：2013-05-01
申请号：CN200880109091.5
申请日：2008-09-24
Applicant: 伊斯曼柯达公司
IPC: C23C16/455
CPC classification number: B05B1/005 , C23C16/45551 , C23C16/45574 , Y10T29/494 , Y10T29/49432 , Y10T29/49826 , Y10T137/0318 , Y10T137/87249
Abstract: 用于薄膜材料沉积的输送装置至少具有分别接收第一、第二和第三气态材料的公共供给源的第一、第二和第三进入口。该第一、第二和第三伸长输出通道中的每一个允许与相应的第一、第二和第三入口之一气体连通。该输送装置可以由孔板形成，所述孔板叠置而界定将供应室和导向通道互连的网络，以便将气态材料中的每一种从其相应的入口传递到相应的多个伸长输出通道。该输送装置包括由护面板之间的浮雕图案形成的扩散通道。还公开了薄膜沉积的方法。最后，一般地说，公开了流动扩散器和相应的流动扩散方法。
-
公开(公告)号：CN101981468B
公开(公告)日：2013-03-27
申请号：CN200980111359.3
申请日：2009-03-17
Applicant: 伊斯曼柯达公司
Inventor： V·博卡托夫斯基
Abstract: 一种测量物体(256)和光源(230)之间的距离并且感测所述物体的取向的方法，所述方法包括：将来自多个光源(230、240或810)的光施加在所述物体上；检测来自物体的反射能量(270)水平；测量来自所述物体的所述反射能量水平；计算距离校准函数；确定在所述距离校准函数内由最小值(302)和最大值(304)指示的至少一个测量范围(301)；计算指示在调制函数的周期内在预定时隙处采样的能量水平关系的角度校准函数；以及用所述调制函数(435、445)调制所述多个光源中的每一个，使得在所述光发射的时间期间从所述多个光源施加在所述物体上的总能量由光发射预定函数表示。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
1676
records
(took 0.046 seconds)
