公开(公告)号：CN1532613A

公开(公告)日：2004-09-29

申请号：CN200410031748.4

申请日：2004-03-25

Applicant: 株式会社丰田自动织机 ,  大见忠弘

Inventor： 加藤祥文 ,  大见忠弘 ,  须川成利 ,  森本明大

IPC: G02F1/13357 ,  H05B33/00

CPC classification number: G02F1/133385 ,  G02F1/133603 ,  H01L23/38 ,  H01L27/14658 ,  H01L51/529 ,  H01L2924/0002 ,  H01L2924/12044 ,  H01L2924/00

Abstract: 一种液晶显示器，包含液晶板和起背光作用的有机EL器件。有机EL器件包含起衬底作用的珀耳帖元件，及形成于珀耳帖元件上的有机EL元件。有机EL元件包含有机EL层及将有机EL层夹在中间的第一和第二电极。第一电极与作为珀耳帖元件的热吸收电极的金属层共享。第二电极由传播可见光的ITO形成。有机EL元件发射出的光从第二电极射出。结果，有机EL器件很薄且具有优越的冷却效果。

公开(公告)号：CN1478296A

公开(公告)日：2004-02-25

申请号：CN02803238.1

申请日：2002-07-03

Applicant: 东京毅力科创株式会社 ,  大见忠弘

Inventor： 大见忠弘 ,  须川成利 ,  平山昌树 ,  后藤哲也

IPC: H01L21/324

CPC classification number: H01L21/67115 ,  H01L21/3003 ,  H01L21/324 ,  H01L21/67098 ,  H01L21/67109 ,  H01L27/1214 ,  H01L27/127 ,  H01L29/66757 ,  H01L29/78603

Abstract: 一种基片处理装置，它具有：处理空间，设有用于支承被处理基片的支承台；氢催化部件，与所述被处理基片正对着设置在所述处理空间中，用于将氢分子分解成氢基H*；气体供给口，设置在所述处理空间内、相对于所述氢催化部件与所述被处理基片正对的一侧，用于导入至少含有氢气的处理气体；其中，将所述氢催化部件和所述支承台上的被处理基片之间的间隔，设定在所述氢基H*能够到达的距离以内。

公开(公告)号：CN1402066A

公开(公告)日：2003-03-12

申请号：CN02142050.5

申请日：2002-08-23

Applicant: 夏普株式会社 ,  大见忠弘

Inventor： 小林和树 ,  藤野公明 ,  迫野郁夫 ,  大见忠弘 ,  须川成利 ,  森本明大

IPC: G02F1/136 ,  H01L21/3205 ,  H01L29/786

CPC classification number: G02F1/136286 ,  G02F1/136213 ,  H01L29/41733 ,  H01L29/78633

Abstract: 制造具有埋置式结构的基片的方法，包括以下步骤：制备具有主表面的玻璃基片；通过湿法蚀刻工艺在玻璃基片的主表面制成凹槽；和在玻璃基片的主表面沉积第1材料，并用其填充凹槽，制成具有与主表面基本齐平的表面的埋置式结构，制成凹槽的步骤包括：使用包含氢氟酸、氟化铵、和盐酸或草酸的蚀刻剂进行湿法蚀刻工艺。