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公开(公告)号：CN119199812A
公开(公告)日：2024-12-27
申请号：CN202411698278.0
申请日：2024-11-26
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本申请涉及一种声纳回波信号存储方法、装置和存储介质，其中，该方法包括：获取多个声纳回波信号，将每一信号划分为多个信号子域；提取各信号子域中的有效数据密度值，基于有效数据密度值，从多个信号中确定待压缩信号；将待压缩信号划分为多个信号子块；确定信号子块中的目标子块，以及信号子块中与目标子块相邻的相邻子块；根据相邻子块对目标子块所在的点位信号进行预测处理，得到预测块；基于目标子块和预测块，确定残差块数据；根据残差块数据和目标子块，生成压缩数据并进行存储。通过本申请，解决了在深海探测场景下高通量声呐回波信号数据量大、存储效率低的问题，提高了数据压缩比率和存储效率，同时保证了信号恢复质量。
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公开(公告)号：CN117950283B
公开(公告)日：2024-07-09
申请号：CN202410356480.9
申请日：2024-03-27
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法，包括：激发光、抑制光均为先通过扩束器、光束整形器进行扩束和光斑匀化，再通过反射镜反射到数字微镜阵列上；激发光和抑制光从数字微镜阵列法线出射并合束，合束后的双光束通过两个透镜组成的1：1成像系统入射微透镜阵列，使数字微镜阵列上的光场成像到微透镜阵列表面，并在微透镜阵列焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过透镜和物镜组成的成像系统，成像在位移台上样品内的物镜焦面进行刻写。本发明通过产生千束边缘光抑制直写阵列，可大幅度提升刻写通量和精度，且各边缘光抑制光斑可精准独立调谐，具有高精度调谐灰度刻写的功能。
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公开(公告)号：CN118192179A
公开(公告)日：2024-06-14
申请号：CN202410615551.2
申请日：2024-05-17
Applicant: 之江实验室
Abstract: 本发明涉及一种激光直写装置、激光直写方法及超构透镜，沿光路传播方向依次包括光源、数字微镜阵列、锥透镜以及刻写平台，所述数字微镜阵列的数量与所述锥透镜的数量相同，以使所述数字微镜阵列和所述锥透镜一一对应。本发明通过改变数字微镜阵列中处于打开状态的子微镜分布、数量，由此能够改变在锥透镜出光侧所形成焦点区域对应的焦深，以及焦点区域在x方向和y方向上对应的宽度，由此改变获得的柱体高度和半径。
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公开(公告)号：CN117950283A
公开(公告)日：2024-04-30
申请号：CN202410356480.9
申请日：2024-03-27
Applicant: 之江实验室
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于千束焦斑独立调控的超分辨灰度刻写装置及方法，包括：激发光、抑制光均为先通过扩束器、光束整形器进行扩束和光斑匀化，再通过反射镜反射到数字微镜阵列上；激发光和抑制光从数字微镜阵列法线出射并合束，合束后的双光束通过两个透镜组成的1：1成像系统入射微透镜阵列，使数字微镜阵列上的光场成像到微透镜阵列表面，并在微透镜阵列焦面产生千束边缘光抑制光斑阵列，该光斑阵列通过透镜和物镜组成的成像系统，成像在位移台上样品内的物镜焦面进行刻写。本发明通过产生千束边缘光抑制直写阵列，可大幅度提升刻写通量和精度，且各边缘光抑制光斑可精准独立调谐，具有高精度调谐灰度刻写的功能。
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公开(公告)号：CN112666804B
公开(公告)日：2023-10-03
申请号：CN202110049599.8
申请日：2021-01-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于干涉点阵和DMD的边缘光抑制阵列并行直写装置，该装置主要包含两路光：一路光通过偏振分束器产生偏振方向两两相同的四光束，四光束在物镜焦平面重叠，进行振幅和强度叠加后产生干涉点阵，点阵暗斑用作抑制涡旋光阵列；另一路光通过数字微镜器件DMD产生激发光点阵，并投影到物镜焦平面上和抑制涡旋光阵列重合，在大视场中可得到万束量级以上边缘光抑制阵列，可用于高通量超分辨的双光子直写。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116560059A
公开(公告)日：2023-08-08
申请号：CN202310017454.9
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的方法，通过在光刻胶中掺杂可以闪烁的荧光染料，利用边缘光抑制效应的双光束实现高精度激光直写，以及利用随机光重构显微方法进行超分辨成像。一种同时实现高精度激光直写与超分辨显微成像的装置包括进行高精度激光直写的两个光源和进行超分辨显微成像的另两个光源；其中，前者两个光源分别为使光刻胶产生光聚合过程的激发光光源和对光刻胶产生抑制聚合的抑制光源；后者两个光源分别为对染料进行活化的激活光和激发荧光染料发荧光的激发光。本发明通过在一个系统中集成激光直写与光学显微成像，进而同时实现超分辨刻写与成像两个功能，实现刻写结构的无损、非侵入直写光学成像，操作简便，节约成本。
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公开(公告)号：CN116500869A
公开(公告)日：2023-07-28
申请号：CN202310572492.0
申请日：2023-05-18
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光刻写方法、装置和系统。所述方法包括：获取目标结构的二维灰度图像以及激光刻写设备的刻写通道数；根据所述二维灰度图像，生成灰度刻写数据；将所述灰度刻写数据根据所述刻写通道数，拆分成对应不同刻写通道的单通道刻写数据；获取位移台的位置信息；基于所述位置信息，将对应每个所述刻写通道的所述单通道刻写数据发送至调制器阵列，以使激光刻写设备基于多个单通道刻写数据进行目标结构的刻写。采用本方法能够在大幅提升扫描速度的同时，还实现了表面粗糙度的提升，有效改善了传统3D激光直写方法刻写速度与刻写质量难以兼顾的问题。
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公开(公告)号：CN114895535B
公开(公告)日：2022-12-02
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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公开(公告)号：CN114779591B
公开(公告)日：2022-10-21
申请号：CN202210717492.0
申请日：2022-06-23
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双色双步吸收效应的超分辨光刻方法，该方法基于苯偶酰光引发剂基态与三重态的光谱吸收特性，利用一束材料基态吸收范围波长的激光束与另一束材料三重态吸收范围波长的激光束共同作用于材料中，通过控制两者的能量实现双色双步吸收效应，并且结合两者的相对位移控制，从而获得小于衍射极限的刻写线宽。本发明将提供一种亚百纳米精度刻写精度与快速刻写能力的超分辨纳米激光直写方法，使三维光刻直写技术具有高速、超分辨、复杂结构刻写能力的优点。
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公开(公告)号：CN114895535A
公开(公告)日：2022-08-12
申请号：CN202210817874.0
申请日：2022-07-13
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于双步吸收效应与STED原理的超分辨光刻方法，对于含有特殊光引发剂的光刻胶，使用两束不同波长的光源照射光刻胶，第一束激光以聚焦实心斑照射到光刻胶，利用聚焦实心斑与该光刻胶发生双步吸收作用使得光刻胶聚合固化；第二束激光为聚焦空心斑，且与第一束激光的三维中心对准，使得两束光边缘重合区域的光刻胶不发生聚合固化，通过控制两束光的相对能量，从而实现亚衍射极限2D及3D结构刻写，刻写最小精度可达亚50nm。
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