-
公开(公告)号：CN114415481B
公开(公告)日：2022-07-12
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
-
公开(公告)号：CN114415481A
公开(公告)日：2022-04-29
申请号：CN202210324231.2
申请日：2022-03-30
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于转镜的激光直写系统的刻写方法及装置，该方法包括：构建光功率和声光调制器的输入电压之间的拟合关系；获取转镜扫描有效区域内的光功率分布情况；根据预定刻写光功率和所述光功率分布情况，确定单次刻写视场范围；根据所述单次刻写视场范围，对待刻写文件进行分割，得到至少一个子文件；对所述子文件进行灰度补偿矫正，得到刻写数据文件；根据刻写方向的偏转角度，对每个刻写数据文件的行初始位置坐标进行坐标变换；根据变换后的行初始位置坐标和所述拟合关系，利用基于转镜的激光直写系统进行刻写。本方法可以使刻写的效果更加均匀、刻写的准确率更高。
-
公开(公告)号：CN117055297A
公开(公告)日：2023-11-14
申请号：CN202310820298.X
申请日：2023-07-05
Abstract: 本发明公开了一种基于光学/化学三维暗斑的超分辨激光直写方法和装置。本发明使用三束激光，分别以实心斑和空心斑聚焦照射光刻胶，三束光在三维空间中心对准，利用光引发剂的STED特性以及抑制剂对自由基扩散的限制，从而在光刻胶中获得最小达到亚50nm线宽，最小周期可到亚100nm。相比于已有的技术，本发明通过抑制边缘聚合，抑制剂阻止自由基扩散，进一步减小线宽，提高刻写精度、分辨率，本发明有望在传感器件、超材料、掩膜版制备等方面获得应用。
-
公开(公告)号：CN115996515B
公开(公告)日：2023-07-11
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
-
公开(公告)号：CN116382043A
公开(公告)日：2023-07-04
申请号：CN202310399542.X
申请日：2023-04-14
IPC: G03F7/20
Abstract: 本申请涉及一种激光直写系统刻写方法、装置及计算机设备。所述激光直写系统包括图像传感模块、振镜、位移台，所述方法包括：确定所述位移台移动的第一距离与所述图像传感模块像素点对应移动的第二距离之间的第一关系；基于所述第一关系和预设系数确定振镜电压与刻写长度的第二关系；基于所述第二关系对待刻写文件进行刻写。本申请通过确定振镜电压与刻写长度的第二关系，可以在刻写前直接确定当前刻写环境中的最佳系统参数，根据需要刻写的长度精确控制振镜电压，有效提高实际刻写长度的精确度，解决了多视场刻写可能存在的拼接错位问题，无论是在单视场范围内刻写还是大面积刻写的应用场景都能够有效提高刻写准确率，进而提高刻写成功率。
-
Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN116300310B
公开(公告)日：2024-04-16
申请号：CN202310020668.1
申请日：2023-01-06
Abstract: 一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的方法，通过在光刻胶单体中加入的光引发剂7‑二乙基氨‑3‑(2‑噻吩基)香豆素(DETC)，利用边缘光抑制效应(PPI)，可以实现高精度激光直写；同时，利用其本身的荧光发光特性，及其存在的本征受激辐射效应，还可以实现超分辨受激辐射损耗显微成像(STED)。本发明利用DETC这些特性，在同一个装置中同时构建激光直写系统和显微成像系统，同时实现高精度刻写与超分辨成像。相比于掺杂荧光染料的方式，简化了光刻胶的成分，在一个系统中同时实现高精度刻写与超分辨成像，将刻写系统中的抑制光光路复用于成像系统中的损耗光路，有效简化了系统。本发明还包括一种利用光引发剂实现超分辨激光直写与成像的装置。
-
公开(公告)号：CN116233606A
公开(公告)日：2023-06-06
申请号：CN202310513844.5
申请日：2023-05-09
Abstract: 本申请提供一种光斑自动跟焦装置及其方法。该光斑自动跟焦装置包括光源、光学系统、物镜、物镜压电位移器、四象限光电探测器及控制系统，光源发出的入射光束经由光学系统和物镜通过入射光路入射到样品表面，其中，四象限光电探测器用于接收经样品表面反射并经由物镜和光学系统通过反射光路出射的反射光束，并将反射光束的光信号转换为四路电信号；控制系统用于基于四路电信号来确定入射到样品表面的入射光斑的离焦量，并基于入射光斑的离焦量来生成补偿控制信号给物镜压电位移器；物镜压电位移器用于基于补偿控制信号来控制物镜沿轴向移动以使入射光斑能够始终聚焦于样品表面。本申请能够自动控制物镜轴向运动以达到自动跟焦目标。
-
公开(公告)号：CN115996515A
公开(公告)日：2023-04-21
申请号：CN202310277812.X
申请日：2023-03-21
Abstract: 本申请涉及一种电路板和转接器。电路板包括基板、接口组和连接器。基板包括堆叠设置的布线层、第一接地层和第二接地层；所述布线层包括上布线层和下布线层；所述第一接地层和所述第二接地层设置于所述上布线层和所述下布线层之间；所述第一接地层靠近所述上布线层设置；所述第二接地层靠近所述下布线层设置；所述第一接地层与所述第二接地层共用接地端；接口组设置于所述上布线层，用于与输入设备和输出设备连接；所述接口组包括多个与所述布线层电连接的信号接口；连接器设置于所述下布线层，用于与处理器连接；所述连接器与所述布线层电连接；所述信号接口通过所述布线层与所述连接器电连接。
-
公开(公告)号：CN115808855A
公开(公告)日：2023-03-17
申请号：CN202310082103.6
申请日：2023-02-08
IPC: G03F7/20
Abstract: 本发明公开了一种基于特种光纤的边缘抑制并行激光直写装置和方法，包括抑制光路、激发光路和光路单元；所述激发光路和抑制光路通过光路单元中的二向色镜合束形成激发‑抑制组合光斑，通过激发光的双光子效应引发负性光刻胶的光聚合，同时引入抑制光束阻止激发光的焦斑边缘位置的光刻胶聚合，从而使得直写式光刻的最小特征尺寸突破光学衍射极限限制，刻写精度达到亚50nm精度级别。本发明提供一种使用特种光纤直接产生涡旋光方案替代空间光调制单元，可以极大简化系统结构和降低系统成本；同时提供一种通过多通道分光单元和光纤阵列组件产生光纤阵列并行直写方案，可以极大的提升系统刻写速度。
-
公开(公告)号：CN114486892A
公开(公告)日：2022-05-13
申请号：CN202210063094.1
申请日：2022-01-20
Abstract: 本发明公开了一种基于声光偏转扫描的结构光照明显微成像装置及方法，该装置将激发光通过偏振分光器分成两个对称的光路，每个光路各过一个声光偏转模块进行光束的扫描，两光束再通过合束器进行合束，在样品面上进行干涉产生照明条纹。每个光路中的声光偏转模块由两个互相垂直放置的两个声光偏转器以及两个透镜所构成的4f系统组成，通过控制加载在两个声光偏转模块中的各自的两个声光偏转器的载波频率，可以改变每个声光偏转器对光束的在xy平面上的扫描位置，进而得到不同方向的干涉条纹。利用声光偏转器对光束进行扫描，相比于振镜扫描可以获得更快的扫描速度；此外，相对于振镜，声光偏转器具有更高的扫描稳定性，可以实现更稳定的照明条纹。
-
-
-
-
-
-
-
-
-
Search Results
15
records
(took 0.026 seconds)
