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公开(公告)号：CN107462167B
公开(公告)日：2019-11-05
申请号：CN201710734790.X
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种长行程、高精度测量的光栅位移测量方法，包括如下步骤：双频激光器发出正交偏振的双频激光被分束棱镜和90°折转镜分为两束光，并分别入射到两偏振分光棱镜被两偏振分光棱镜分束为P光及S光；所述P光及S光经过四个四分之一波片后变为右旋圆偏振光及左旋圆偏振光；右旋和左旋圆偏振光分别经过两平面反射镜反射后，以利特罗角入射到测量光栅上；测量光栅移动，携带位移信息的衍射光按原路返回，分别经过四分之一波片后，分别变为S光及P光，经两偏振分光棱镜透射，重合在两偏振分光棱镜的出射面，经两个接收器接收。本发明可以实现精密位移测量，读数头结构紧凑、体积小、系统对环境敏感性低，大大降低了对测量环境的控制成本。
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公开(公告)号：CN109520428A
公开(公告)日：2019-03-26
申请号：CN201811329268.4
申请日：2018-11-09
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种位移测量光学系统，该光学系统包括：光源，偏振分光棱镜，直角反射棱镜，第一菲涅尔棱体，第二菲涅尔棱体，参考反射镜，测量反射镜组和光电探测器；所述直角反射棱镜设置在偏振分光棱镜的反射光路上；所述第一菲涅尔棱体设置在直角反射棱镜的反射光路上；所述参考反射镜设置在第一菲涅尔棱体的透射光路上；所述第二菲涅尔棱体设置在偏振分光棱镜的透射光路上；所述测量反射镜组设置在第二菲涅尔棱体的透射光路上；所述光电探测器将经过所述偏振分光棱镜耦合后出射的光束进行探测，并计算得到所述线偏振光的光程位移量。该位移测量光学系统可减少环境因素对测量结果的影响。
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公开(公告)号：CN107607045A
公开(公告)日：2018-01-19
申请号：CN201710735440.5
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种基于衍射光栅的长行程、高精度位移测量系统，包括双频激光器(1)、读数头(2)、测量光栅(3)、接收器(4)和(5)、信号处理系统(6)，双频激光器(1)发出的激光入射到读数头(2)中，经过读数头(2)中的光学元件，入射激光会形成两组测量光束，每组测量光束以满足光栅方程的利特罗角入射到测量光栅(3)上，当测量光栅(3)沿光栅矢量方向运动时，携带测量信息的衍射光会按原路返回，经过读数头(2)中的光学元件形成两路测量信号，分别被接收器(4)和接收器(5)接收，并进入信号处理系统。本发明是一种不需要多个读数头排列结构紧凑，体积小，对环境敏感性低，可以降低环境控制成本，提升系统性能。
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公开(公告)号：CN107462167A
公开(公告)日：2017-12-12
申请号：CN201710734790.X
申请日：2017-08-24
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G01B11/02
Abstract: 本发明公开了一种长行程、高精度测量的光栅位移测量方法，包括如下步骤：双频激光器发出正交偏振的双频激光被分束棱镜和90°折转镜分为两束光，并分别入射到两偏振分光棱镜被两偏振分光棱镜分束为P光及S光；所述P光及S光经过四个四分之一波片后变为右旋圆偏振光及左旋圆偏振光；右旋和左旋圆偏振光分别经过两平面反射镜反射后，以利特罗角入射到测量光栅上；测量光栅移动，携带位移信息的衍射光按原路返回，分别经过四分之一波片后，分别变为S光及P光，经两偏振分光棱镜透射，重合在两偏振分光棱镜的出射面，经两个接收器接收。本发明可以实现精密位移测量，读数头结构紧凑、体积小、系统对环境敏感性低，大大降低了对测量环境的控制成本。
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公开(公告)号：CN103698836B
公开(公告)日：2015-12-02
申请号：CN201310693376.0
申请日：2013-12-17
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 一种在扫描曝光光路中精确调整干涉条纹方向的方法，涉及光谱技术领域，要解决的技术问题是提供一种高精度调整干涉条纹方向的方法，解决技术问题的技术方案为：将基准光栅置于二维运动工作台上；配备一套扫描曝光光路；调节反射镜使曝光光束均满足Littrow条件；沿扫描方向移动工作台，根据CCD上观察到的干涉图样变化情况调节基准光栅方向；调节平面反射镜，使两光束在位置PSD和角度PSD上重合。采用本发明所述的方法能精确调节干涉条纹方向，为扫描干涉场曝光系统在扫描过程中的对比度提供了保证，对扫描曝光全息光栅的制作具有较大的实际意义。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN109782384B
公开(公告)日：2020-07-03
申请号：CN201811597429.8
申请日：2018-12-26
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本发明公开了一种临界角透射光栅制作方法，包括以下步骤：S1、在单晶硅基底双面沉积氮化硅层，然后在氮化硅层表面镀铬，再双面旋涂光刻胶，经紫外曝光、显影后，湿法刻蚀铬，得到基准光栅；S2、在基准光栅双面旋涂光刻胶，经扫描干涉场曝光系统曝光、显影后得到光栅掩膜；S3、然后干法刻蚀光栅掩膜的氮化硅层，湿法刻蚀单晶硅，最后去除氮化硅层，即得透射光栅。本发明的临界角透射光栅制作方法，其通过双面镀铬、双面旋涂光刻胶、双面曝光等工艺制作单晶硅光栅掩膜。然后双向同时利用碱性刻蚀液对单晶硅进行湿法刻蚀，即可降低光栅展宽面积，实现光栅开口率的提升。
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公开(公告)号：CN107782279B
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201710828490.8
申请日：2017-09-14
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明实施例公开一种基于多元线性回归模型反演计算光电经纬仪在外场时的调制传递函数(MTF)的方法，该方法通过在实验室测试目标模拟源获取建立多元线性回归模型的因变量和自变量，再采用最小二乘法计算获得多元线性回归模型中的回归系数及常量；在外场环境中，将光电经纬仪所获取图像的图像特征清晰度向量作为多元线性回归模型中的自变量，代入多元线性回归模型中即可计算得到此时外场环境下的调制传递函数。本发明实施例解决了外场环境下无法测试光电经纬仪的调制传递函数的问题，将该方法获取的调制传递函数反馈至光电经纬仪的补偿机构，可有效地提高成像质量。
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公开(公告)号：CN110007384A
公开(公告)日：2019-07-12
申请号：CN201910225892.8
申请日：2019-03-25
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G02B5/18
Abstract: 本申请涉及全息光栅制作的技术领域，具体公开一种二维平面全息光栅曝光方法，包括步骤一，配备分振幅型小口径二维平面全息光栅曝光装置；步骤二，配备具有激光干涉仪的二维运动工作台；步骤三，配备外差式二维干涉图样相位锁定装置；步骤四，在光栅基底预设位放置光栅基底，移动二维运动工作台，使光栅基底需要曝光的位置运动到二维干涉图样的下方进行曝光。该方法可在光栅基底任意位置进行不小于干涉图样口径的一维或二维形貌扫描曝光，且所制作的光栅面积仅与工作台行程相关，无需大口径光学元件，特别适于大面积二维平面全息光栅的曝光。
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公开(公告)号：CN109632010A
公开(公告)日：2019-04-16
申请号：CN201910063278.6
申请日：2019-01-23
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
Abstract: 本发明公开了一种位移与角度同步测量方法，包括步骤：激光器发出正交偏振的双频激光；双频激光经由所述分束器分为第一双频激光和第二双频激光；将第一双频激光和第二双频激光经偏振分束后经过反射以利特罗角入射至所述测量光栅上，然后携带相位信息的衍射光按原路返回，再在所述读数头内经偏振分束后在所述读数头内重合，并出射至所述接收器；S4，所述接收器将光信号转换为电信号，并输送给所述信号处理系统进行信号处理。本发明公开的位移与角度同步测量方法能实现位移与角度的同步、精确测量。
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公开(公告)号：CN109584361A
公开(公告)日：2019-04-05
申请号：CN201811498609.0
申请日：2018-12-08
Applicant: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
IPC: G06T17/00 , G06F3/0346 , G06F3/01
Abstract: 本发明涉及增强现实技术应用领域，具体涉及一种装备电缆虚拟预装和轨迹测量方法及系统，该方法及系统首先建立预装电缆模型库，在待装配电缆的装备上放置标识，再捕获标识并根据装备的真实场景建立三维坐标模型，获取装备的真实场景信息和虚拟坐标信息，在三维坐标模型中的遥控区域选择虚拟图像中的图标进行遥控操作，而后移动遥控轨迹按照电缆设计方案进行电缆的虚拟预装和轨迹测量。该方法及系统引入增强现实技术进行虚拟电缆预装，采用双目立体视觉技术进行三维测量和建模，实时测量轨迹目标的坐标信息和电缆轨迹信息，为装备联合仿真提供数据信息，对于装备电缆的预装配设计和联合仿真等都具有重要意义。
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