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公开(公告)号：CN209364367U
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201822188638.9
申请日：2018-12-25
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B41/00
Abstract: 本实用新型提供一种基于双面抛光机的分体式抛光布修整环，包括行星轮框架以及修整环主体，修整环主体呈环状一体成型结构，修整环主体表面固结有金刚石颗粒层，修整环主体的圆周方向上设有若干条形槽以及半圆形凹槽，行星轮框架的周缘上设有半圆形凸起部，当修整环主体放置在所述行星轮框架上时，行星轮框架上的半圆形凸起部卡入修整环主体上的半圆形凹槽内，以使修整环主体固定在行星轮框架上。本实用新型将修整环主体制备为一体成型的环形结构，不会出现组装后的修整环的修整面呈现高低不同的现象，保证了修整环的平面度和厚度的一致性，使得抛光布的修整精度能够得到保证。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209158046U
公开(公告)日：2019-07-26
申请号：CN201821740687.2
申请日：2018-10-26
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种工作环工位自动切换单面研磨机，包括工作台、以及设置在所述工作台上的工作环组件，所述工作环组件包括旋转盘、设置在所述旋转盘上的若干工作环、以及用于定位工作环的外导轮；所述旋转盘安装在工作台的中间位置，在旋转盘下方的工作台内安装有电机，电机的输出端与旋转盘连接固定，且可驱动旋转盘以旋转盘的中心为原点转动；在所述工作台的外边沿位置设有若干外导轮，所述外导轮包括基座、转向杆和导向轮，基座固定安装在工作台上，转向杆的一端与设置在基座的轴承连接，所述导向轮安装在转向杆的另一端。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN208084151U
公开(公告)日：2018-11-13
申请号：CN201820338408.3
申请日：2018-03-13
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24B55/02
Abstract: 一种用于研磨抛光机的冷却结构，用于研磨工件的研磨盘位于研磨盘基座上，研磨盘与研磨盘基座贴合。研磨盘基座上设置有用于冷却水流动的沟槽，沟槽的开口是向下开的。紧贴研磨盘基座下端面的是冷却盘盖板，冷却盘盖板封盖住了研磨盘基座上的沟槽。与沟槽相连的进出水管向上与进出水口连通。沟槽的回路形状呈现为盘香形状。本实用新型将冷却水沟槽直接设计在研磨盘基座上，省去了冷却盘，简化了研磨抛光机的冷却结构，方便的安装和维修工作。
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公开(公告)号：CN217860510U
公开(公告)日：2022-11-22
申请号：CN202220634697.8
申请日：2022-03-22
Applicant: 中核苏阀科技实业股份有限公司 , 上海致领半导体科技发展有限公司
IPC: B24B15/04 , B24B41/06 , B24B37/00 , B24B37/34 , B24B37/27 , B24B57/02 , B24B51/00 , B24B45/00 , B24B55/00
Abstract: 本新型属于阀门研磨技术领域，具体是涉及一种自动化大口径阀体密封面研磨装置。一种自动化大口径阀体密封面研磨装置，其中，包括行走部件、立柱部件、零度阀体工装部件、登高部件、主轴部件、换盘部件、5度阀体可调工装部件、盘库部件。本新型的显著效果是：覆盖产品广，最大阀体研磨口径可达42寸；具有自动找准磨盘中心功能，确保主轴与磨盘快速装入定位；具有自动控制主轴的启动、停止以及转速、转向调节功能；具有自动设定或调整工件研磨的时间和压力功能；具有自转和公转两路运动，自转轴和公转轴距离可进行0‑20mm调整；设置独立供液单元，研磨液流量可调；采用0°、5°角度调整装置，确保密封面研磨的可靠性。
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公开(公告)号：CN217019976U
公开(公告)日：2022-07-22
申请号：CN202220518217.1
申请日：2022-03-09
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种具有超声波清洁功能的抛光液供应系统，其结构包括管路、容器、定位座、电机、超声波振子，管路插入于容器的侧方下端部位，本实用新型由容器所进一步改进后，其可在容器进行养护时先向容器内部注入相应的纯水，再者利用超声波振子的超声波功能，达到两者相互搭配使其能够利用超声波与纯水的加持下能够将内部结晶进行快速剥落，同时腔体下端两侧辅助块可使结晶剥落后进行集中在中心点当中，进而能够防止结晶掉落处于零碎分散状态，并且根据所新增的清刷架构能在超声波振子运作过程不断在外壳内壁当中进行上下循环运动，使其能进一步的将内壁进行清刷，加快结晶的掉落速度以及进一步的提升腔体内的洁净程度，减少养护时长。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN213532155U
公开(公告)日：2021-06-25
申请号：CN202021717070.6
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种方形工作台平面研磨机，包括底板、第一电机、研磨盘、控制面板、电源线和位移装置，底板上端后部与第一电机通过螺栓锁紧，第一电机输出轴与研磨盘相连接，底板上端左侧嵌入有控制面板，控制面板左侧由电源线紧密伸入，该方形工作台平面研磨机通过设置了位移装置，对于较长以及容易滑动的物件，可放入转动盘上端，之后电动推杆通过推杆将压板下压将打磨件压紧，同时第二电机带动丝杆转动，物件进行移动打磨，解决了现有研磨机使用时，对于部分长条形物件打磨不方便，需要使用较大的打磨夹具进行固定，占用空间较大的问题。
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公开(公告)号：CN212886984U
公开(公告)日：2021-04-06
申请号：CN202021717383.1
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种多功能平面研磨机，包括座体、支撑柱、第一传动组件、滑动架、第二传动组件、研磨盘、第三传动组件、转动盘、夹紧装置、控制面板和电源线，该多功能平面研磨机通过设置了夹紧装置，使用外部传动杆伸入传动口中，使第一锥形齿轮和第二锥形齿轮传动带动转动杆转动，使得齿盘转动通过齿块带动三个夹块相互靠近将加工件夹紧，以便于更好的研磨，解决了现有研磨机使用时，不便于对具有下凹面的零件、具有凸起面的零件进行研磨，研磨效率较低的问题。
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公开(公告)号：CN212311559U
公开(公告)日：2021-01-08
申请号：CN202021708541.7
申请日：2020-08-15
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种电磁研磨盘基座，包括零件、研磨盘、螺丝、凹口座、电磁吸盘、连接盘、主轴、调节口、防导插杆和安装机构，零件紧固安装于研磨盘上，研磨盘上螺纹安装有螺丝，本实用新型通过优化设置了电磁吸盘和安装机构，隔绝座上电磁圈采用电磁力与零件吸引配合，配合提升研磨精度，加工效率高；将防导插杆嵌入安装机构，安装机构内设有侧卡板限制防导插杆底端结构向上位移，在解除后，防导插杆底端第二弹簧将其托起，组合安装时灵活拆卸，使用效果好。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209364414U
公开(公告)日：2019-09-10
申请号：CN201822189998.0
申请日：2018-12-25
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
IPC: B24D7/06
Abstract: 本实用新型提供一种组合式铸铁研磨盘，包括研磨盘安装座、若干研磨盘块以及若干螺丝，若干研磨盘块安装在研磨盘安装座上，研磨盘安装座呈圆盘状结构，研磨盘安装座上分布有若干通孔，研磨盘块每块呈扇形结构，若干块研磨盘块紧密环绕围绕成圆环体结构，研磨盘块的下表面设有若干固定孔，螺丝穿过研磨盘安装座上的通孔与研磨盘块上的固定孔固定连接。本实用新型摒弃传统的一体式研磨盘，研发一种新型组合式研磨盘，将若干研磨盘块固定在研磨盘安装座上，形成组合式铸铁研磨盘，减少铸件尺寸，使得铸造难度大幅降低，同时在生产过程中，如发现有缺陷的研磨盘块，只需更换有缺陷的研磨盘块，无需更换整个研磨盘，便于后期维护，降低维护成本。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利
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公开(公告)号：CN209256646U
公开(公告)日：2019-08-16
申请号：CN201821740709.5
申请日：2018-10-26
Applicant: 上海致领半导体科技发展有限公司
Inventor： 王永成
Abstract: 本实用新型公开了一种内平面研磨机，包括安装座、以及设置在所述安装座上的安装板，在所述安装板上设有驱动电机，所述驱动电机的输出端通过减速机与研磨主轴的一端连接，在所述研磨主轴的另一端设有用于研磨内平面的研磨盘，且所述研磨主轴和研磨盘可在驱动电机的带动下做自转运动；在所述安装座的中心开设有研磨主轴偏心量调节槽，安装座通过皮带或齿轮传动的方式被驱动旋转，形成研磨主轴整体部件的公转。本实用新型可在研磨时同时实现研磨主轴的自转和公转，研磨轨迹的重叠性大幅降低，从而能有效维持研磨盘的平面度，进而保证工件的平面度。
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