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公开(公告)号：CN1208687C
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN01804830.7
申请日：2001-12-11
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
Inventor： 高桥修一
IPC: G03F7/023 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/091
Abstract: 用于i-线曝光的感光性树脂组合物，包括碱溶性树脂和含有醌二叠氮化物基团的光敏剂，其中碱溶性树脂为酚醛清漆树脂和选自下述一个或更多树脂的混合物，(i)聚丙烯酸酯、(ii)聚异丁烯酸酯、(iii)聚苯乙烯衍生物和(iv)包括两个或更多选自丙烯酸酯、异丁烯酸酯和苯乙烯衍生物单体的共聚物。将光敏树脂组合物应用到如平板显示器的基底上，用i-线照射，优选的曝光能量为50到500mJ/cm2，将曝光后的膜进行显影，得到高分辨率的、没有拖尾等现象的较好的图案。
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公开(公告)号：CN1208686C
公开(公告)日：2005-06-29
申请号：CN00802166.X
申请日：2000-10-04
Applicant: AZ电子材料(日本)株式会社
Inventor： 高桥修一
IPC: G03F7/023 , C08L33/06 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0233
Abstract: 一种用作光致抗蚀剂的光敏组合物，其包含一种树脂组合物和一种光敏物质，其中，树脂组合物为两种或多种树脂的混合物，这些树脂的折射率差值至少为0.03，或者为一种作为基础树脂的碱溶性树脂与作为树脂添加剂的一种用作光敏组合物的溶解抑制剂的树脂的混合物，如丙烯酸聚合物、甲基丙烯酸聚合物或苯乙烯聚合物。光敏组合物优选为一种在2.38wt%的四甲基氢氧化铵水溶液中的溶解速度为5000/分钟或更小的组合物。树脂组合物可有效地在所采用的醌二叠氮化物光敏剂用量减少下使用，并且获得的光敏组合物具有满意的高敏感度和高膜厚度保持性。
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公开(公告)号：CN1187654C
公开(公告)日：2005-02-02
申请号：CN99802048.6
申请日：1999-11-01
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司
IPC: G03F7/023 , G03F7/038 , G03F7/039 , H01L21/027 , C08L61/34 , C08G14/073
CPC classification number: G03F7/0236 , G03F7/0045 , G03F7/0233 , G03F7/038
Abstract: 本发明公开了一种包含碱溶性树脂的辐射敏感性树脂组合物，例如酚醛清漆-醌二叠氮化物正型辐射敏感性树脂组合物和化学增强的负型树脂组合物，其中，碱溶性树脂包含至少一种碱溶性树脂，该碱溶性树脂是通过使通式(I)表示的化合物与苯酚以及必要时与醛进行缩聚获得的。其中，R代表羟基或1～4个碳原子的烷基，n为0或1～3的整数，当n为2或3时，每一个R基团可相同或不同。
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公开(公告)号：CN1170205C
公开(公告)日：2004-10-06
申请号：CN00804857.6
申请日：2000-03-01
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司
Inventor： 山元研二
IPC: G03F7/004 , C08L101/00
CPC classification number: G03F7/16 , G03F7/0048
Abstract: 本发明公开了一种用于辊涂的光敏树脂组合物，其包含一种碱溶性树脂，一种光敏剂和一种非离子氟化学或硅氧烷表面活性剂。非离子氟化学表面活性剂的实例包括：全氟烷基磺酰胺的聚亚烷基氧化物加合物、全氟烷基乙醇的聚亚烷基氧化物加合物以及(a)一种丙烯酸全氟烷基酯/甲基丙烯酸甲酯的共聚物和(b)一种聚亚烷基氧化物的混合物。非离子硅氧烷表面活性剂的实例为聚硅氧烷衍生物的聚亚烷基氧化物加合物。
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公开(公告)号：CN1169021C
公开(公告)日：2004-09-29
申请号：CN00801036.6
申请日：2000-06-05
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司
Inventor： 高桥修一
IPC: G03F7/004 , G03F7/023 , G03F7/40 , H01L21/027
CPC classification number: G03F7/0233 , G03F7/0226 , G03F7/0236 , G10L2015/223
Abstract: 一个能够显著改进敏射线树脂组合物的防干性蚀刻性能的方法，其中能形成优良的图案，同时保持高敏感性和高清晰度，以及一个由此制得的敏射线树脂组合物。该敏射线树脂组合物包含有碱溶性树脂，敏射线物质以及荧光材料，该荧光材料的加入量是相对于每100重量份的敏射线物质为0.0001-1.0重量份，其中该碱溶性树脂的重均分子量比较与上述敏射线树脂组合物具有相同敏感性的，但不含有感光增强剂的敏射线树脂组合物中的碱溶性物质的重均分子量至少高5%。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN1145194C
公开(公告)日：2004-04-07
申请号：CN99802141.5
申请日：1999-11-17
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司
IPC: H01L21/027 , G03F7/11 , G03F7/38
CPC classification number: G03F7/16 , G03F7/0045 , G03F7/091
Abstract: 在据照相平版法(光刻)的集成电路元件的制备方法中，一个可降低在形成抗蚀图形过程中由于基片的性质或基片表面的酸度所导致的不利影响的方法，其中用一个化学增强性抗蚀剂作为光致抗蚀剂，以及一个用于该方法的基片处理剂组合物。该基片处理剂组合物包含一个含有由至少一个如伯、仲、叔胺和含氮的杂环化合物的碱性化合物与一个如磺酸或羧酸的有机酸所形成的盐的溶液，把该组合物涂敷在一个具有底部抗反射涂层，如SioN层的基片表面上，接着将其烘烤，如需要还可清洗之，然后在上述处理过的基片上涂敷化学增强性抗蚀剂，接着进行曝光和显影，由此在该基片上可形成一个光致抗蚀图形。
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公开(公告)号：CN1111548C
公开(公告)日：2003-06-18
申请号：CN98812234.0
申请日：1998-12-01
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
Abstract: 一种制备去离子树脂的方法，它包括：最少具有一个活性羟基和一个活性螯合部位的有机化合物与最少有一个活生羟基或氨基的有机高分子基体反应；产生螯合的聚合物配合物；用水洗涤此聚合物配合物，再用无机酸溶液洗；再用水洗，以此减小钠、铁和铬离子在聚合物配合物中的含量，使之均低于100ppb。
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公开(公告)号：CN1108327C
公开(公告)日：2003-05-14
申请号：CN97181411.2
申请日：1997-12-16
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
CPC classification number: C08G8/08 , C08G16/0293 , G03F7/0236
Abstract: 本发明提供了一种通过在非高温蒸馏条件下分离出酚醛清漆树脂级分，制备具有一致分子量和在抗光蚀剂组合物中优异性能的可成膜的、分级酚醛清漆树脂的方法。还提供了一种由该分级酚醛清漆树脂制备抗光蚀剂组合物的方法、以及一种使用该抗光蚀剂组合物制造半导体设备的方法。
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公开(公告)号：CN1108326C
公开(公告)日：2003-05-14
申请号：CN97181409.0
申请日：1997-12-16
Applicant: 克拉里安特国际有限公司
CPC classification number: G03F7/0236 , C08G8/08 , C08G8/12
Abstract: 本发明提供了一种通过在非高温蒸馏条件下分离出酚醛清漆树脂级分，制备具有一致分子量和在抗光蚀剂组合物中优异性能的可成膜的、分级酚醛清漆树脂的方法。还提供了一种由该分级酚醛清漆树脂制备抗光蚀剂组合物的方法、以及一种使用该抗光蚀剂组合物制造半导体设备的方法。
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公开(公告)号：CN1386072A
公开(公告)日：2002-12-18
申请号：CN01802177.8
申请日：2001-07-30
Applicant: 克拉瑞特金融(BVI)有限公司
CPC classification number: B05D5/00
Abstract: 本发明提供了一种形成保护膜的方法,包括将含有聚合物和溶剂的组合物涂到底物上形成涂层膜,然后加热并且在惰性气氛下进行固化,在底物上形成了保护膜。这样形成的保护膜具有卓越的透明度。另外本发明提供了一种制品,它含有通过本方法形成的保护膜。
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