一种连续生长的3D打印方法及3D打印设备

    公开(公告)号:CN114147959B

    公开(公告)日:2024-07-09

    申请号:CN202010931321.9

    申请日:2020-09-07

    Abstract: 本发明公开了一种连续生长的3D打印方法,该方法包括下列步骤:建模;生成切片,将三维模型在Z轴方向进行切片;转换,将每一切片模型图转换为切片位图;初次数据上传,数据处理模块将前N*M个位图文件上传至N个子内存中;打印,控制模块控制载物台持续匀速移动,同时控制模块根据实际情况控制子内存不断刷新切片位图进行连续打印,每完成前一个子内存中的M个切片位图的打印,控制模块控制下一个子内存刷新切片位图进行打印,同时控制数据传输模块向前一个子内存上传新的M个位图,重复直至K幅切片位图完成打印。本发明还公开了一种3D打印设备,采用上述的连续生长的3D打印方法实现连续打印。通过上述方法,实现连续打印,节省了打印时间。

    图像处理方法、装置、光刻系统、存储介质和计算机设备

    公开(公告)号:CN112132948B

    公开(公告)日:2024-06-04

    申请号:CN201910490271.2

    申请日:2019-06-06

    Abstract: 本发明公开一种图像处理方法,该方法的具体步骤包括:S1:建成灰度模型图;S2:计算灰度模型图X方向的扫描线的集合;S3:计算X轴扫描线集合中每一条扫描线与灰度模型图的所有交点的坐标,并分组;S4:计算扫描线集合中相应区间的每一条扫描线的每一组交点内的所有像素点的物理高度;S5:转换各区间所有像素点的灰度值得到灰度位图。本发明还公开一种图像处理装置,设有上述图像处理方法;本发明还公开本发明还公开一种光刻系统,包括执行上述图像处理方法;本发明还公开一种计算机可读存储介质,包括储存上述图像处理方法。通过计算图像中每个像素点的灰度值,可以实现任一幅面具有立体浮雕效果的结构的图像处理。

    直写光刻系统和直写光刻方法

    公开(公告)号:CN112987501B

    公开(公告)日:2023-01-24

    申请号:CN201911303595.7

    申请日:2019-12-17

    Abstract: 一种直写光刻系统和直写光刻方法,其中直写光刻系统包括直写光源、运动机构、中央控制器、光斑图形输入装置以及投影光学装置;运动机构用于带动投影光学装置沿预设路径扫描,并用于发出参考点的位置数据;中央控制器用于根据位置数据读取光斑图形文件序列中对应的光斑图像数据;光斑图形输入装置用于根据光斑图像数据将直写光源提供的起始光束调制生成图形光;投影光学装置用于根据图形光向光刻件的表面投影出变形光斑,并在运动机构的带动下沿预设路径扫描,在扫描过程中光斑图像数据随位置数据而变化,形成预设的可控变形光斑。本发明的直写光刻系统和直写光刻方法实现了复杂表面三维形貌结构的无掩模灰度光刻,并提高了光刻精度和光刻效率。

    三维微纳结构光刻系统及其方法

    公开(公告)号:CN112799285B

    公开(公告)日:2022-04-22

    申请号:CN201911115004.3

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统,包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台,其中:数字掩模装置与空间光调制器电性连接,投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间,工作台用于固定待光刻的基片;数字掩模装置用以生成数字掩模,数字掩模包括图形曝光区,数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器,空间光调制器用以显示数字掩模,光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜,图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比;投影物镜将图形光投影在基片上,工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统,结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。

    干涉光刻系统、打印装置和干涉光刻方法

    公开(公告)号:CN110119071B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201810117030.9

    申请日:2018-02-06

    Abstract: 一种干涉光刻系统,包括位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜和锥透镜组,位相元件、第一透镜、第二透镜、第三透镜、第四透镜沿着光轴传播方向依次设置,第一透镜与第二透镜形成一组4F成像系统,第三透镜与第四透镜形成另一组4F成像系统,锥透镜组沿着光轴传播方向可移动地设置于第三透镜与第四透镜之间。本发明的干涉光刻系统结构简单,制作成本低,能够实现多角度、变周期干涉光刻。本发明还涉及一种打印装置和干涉光刻方法。

    数字光刻方法及系统
    46.
    发明授权

    公开(公告)号:CN109932869B

    公开(公告)日:2021-05-28

    申请号:CN201711375723.X

    申请日:2017-12-19

    Abstract: 本发明公开了一种数字光刻方法,包括以下步骤:包括以下步骤:S1:生成三维形貌数据;S2:沿着竖直方向将三维形貌数据分切成N层二维矢量图数据;S3:将二维矢量图数据转换成二维数字化像素图像;S4:将二维数字化像素图像分割成n条等间距的基础长条带图像数据;S5:根据分切层数N,分割的条数n,对分割后的基础长条带图像数据重组,形成新的长条带图像数据;以及S6:将新的长条带图像数据上载至成像设备进行逐条带扫描光刻。本发明的数字光刻方法能够方便地形成大尺寸微结构形貌的光学薄膜。本发明还涉及一种数字光刻系统。

    三维微纳结构光刻系统及其方法

    公开(公告)号:CN112799285A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN201911115004.3

    申请日:2019-11-14

    Abstract: 一种三维微纳结构光刻系统,包括数字掩模装置、空间光调制器、投影物镜和工作台,其中:数字掩模装置与空间光调制器电性连接,投影物镜设置于空间光调制器与工作台之间,工作台用于固定待光刻的基片;数字掩模装置用以生成数字掩模,数字掩模包括图形曝光区,数字掩模装置将数字掩模上传至空间光调制器,空间光调制器用以显示数字掩模,光经过空间光调制器上的图形曝光区后射向投影物镜,图形曝光区的高度与曝光剂量呈正比;投影物镜将图形光投影在基片上,工作台驱使基片在平面内沿设定路径移动曝光电性。本发明的三维微纳结构光刻系统,结构简单、精度高、成本低、快速高效。本发明还涉及一种三维微纳结构光刻方法。

    裸眼三维显示装置
    48.
    发明公开

    公开(公告)号:CN112799237A

    公开(公告)日:2021-05-14

    申请号:CN202110031925.2

    申请日:2021-01-11

    Abstract: 本发明提供一种裸眼三维显示装置。所述裸眼三维显示装置包括:显示部件,其包括由多个显示单元阵列排布而成的显示单元阵列;视角调控器,其包括由多个微棱镜块阵列排布而成的微棱镜块阵列。微棱镜块阵列的微棱镜块被分成多组,各个微棱镜块的第一夹角和第二夹角的角度组合被事先设置以使得:同一组微棱镜块的出射光线汇聚成同一个视点,不同组微棱镜块的出射光线汇聚成不同视点。这样,通过设置各个微棱镜块的倾斜面的角度来形成多个不同的视点,从而实现了在不同的视角下观看到不同的三维显示效果。

    光刻方法
    49.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111999984A

    公开(公告)日:2020-11-27

    申请号:CN201910448289.6

    申请日:2019-05-27

    Abstract: 本发明公开一种光刻方法,用于将待处理图形进行无掩模版的光刻,所述方法包括如下步骤:S1:将所述待处理图形进行K次拆分,形成K幅子图形;S2:预设分割宽度M,分别将K幅所述子图形按照所述预设分割宽度M切割成n条子条带;S3:将K幅所述子图形中形成的n条宽度为M的所述子条带进行重组,形成n条新条带;S4:光刻所述新条带,其中,每完成一条新条带光刻,步进一条所述子条带的宽度M,进行另一待处理的新条带光刻。通过将待处理图形拆分分割形成的n条子条带进行重组,实现子条带分辨率的增强,从而达到光刻分辨率增强的效果。

    电致变色显示面板及电子纸
    50.
    发明公开

    公开(公告)号:CN111123609A

    公开(公告)日:2020-05-08

    申请号:CN201811292771.7

    申请日:2018-11-01

    Abstract: 本发明涉及一种电致变色显示面板及电子纸,该电致变色显示面板包括依次设置的第一基板、电致变色像素阵列和第二基板,电致变色像素阵列包括若干阵列排布,独立控制的电致变色单元,电致变色单元包括黑色结构层和彩色结构层,黑色结构层包括依次设置的第一电极、黑色电致变色像素层和第二电极,彩色结构层包括若干横向水平排布的红色、绿色、蓝色滤光片,彩色结构层设置在黑色结构层一侧;第一电极具有与第二电极相对的第一相对面,第二电极具有与第一电极相对的第二相对面,第一相对面和/或第二相对面上设有若干微纳结构。该电致变色显示面板及电子纸既能显示黑色,又能显示其他颜色,且其透明电极之间电场分布均匀,具有较佳的显示效果。

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