一种微透镜准直结构及微型发光二极管

    公开(公告)号:CN118962873B

    公开(公告)日:2024-12-27

    申请号:CN202411443834.X

    申请日:2024-10-16

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本申请属于Micro‑LED微纳光学光场调控技术领域,涉及一种微透镜准直结构及微型发光二极管。该微透镜准直结构包括:套设在显示芯片外围的第一光阑、层叠设置在第一光阑远离Micro‑LED背板侧的第一微透镜、基底层和第二微透镜;其中,第一微透镜为平凹透镜,其靠近第一光阑一侧表面为凹面高次非球面,第二微透镜为平凸透镜,其远离基底层一侧表面为凸面高次非球面,第一光阑的通光孔、第一微透镜和第二微透镜的子镜中心均与显示芯片中心对准。本申请利用第一光阑消除杂散光,利用第一微透镜上的凹面高次非球面和第二微透镜上的凸面高次非球面对光束聚焦,实现光束准直,既避免了相邻显示芯片之间的光束串扰,还减小了光束发散角。

    一种DBR和Micro-LED的结构设计方法及电子设备

    公开(公告)号:CN119167879A

    公开(公告)日:2024-12-20

    申请号:CN202411412788.7

    申请日:2024-10-11

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种DBR和Micro‑LED的结构设计方法及电子设备,DBR结构设计方法包括:步骤1:获取当前取值范围;步骤2:确定n的最优值;步骤3:确定第一折射层与第二折射层的厚度的最优值;步骤4:确定当前最优DBR结构并获取其透射率与入射角度的关系曲线图,记作第一关系曲线图;步骤5:对第一关系曲线图所对应的当前最优DBR结构的准直效果进行评估,得到第一评估结果,若第一评估结果满足预设条件,将第一关系曲线图对应的当前最优DBR结构的参数作为最优设计参数;若第一评估结果不满足预设条件,则返回步骤1重新获取当前取值范围,直至第一评估结果满足预设条件。本发明的结构设计方法,保证设计的DBR结构能够使Micro‑LED具有良好的出光效果和准直度。

    一种基于衍射光学元件的激光车灯照明投影系统

    公开(公告)号:CN118242593A

    公开(公告)日:2024-06-25

    申请号:CN202410502589.9

    申请日:2024-04-25

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明提供了一种基于衍射光学元件的激光车灯照明投影系统,涉及车灯投影和光学系统设计技术领域。该车灯系统采用激光白光光源,衍射光学元件;激光白光光源用于发出白色光束,该激光白色光源具有能量高,光强呈高斯状分布的特点;激光白光光源发出的白色光束经过准直后进入单个衍射光学元件进行光束整形匀光,其中利用单个衍射光学元件实现对整个白光波段400nm‑760nm的宽波段光束进行整形和匀光,该衍射光学元件具有体积小、重量轻、能量利用效率高、整形匀光能力强等优点,从而替代扩散片、光棒、复眼等传统光学元件,并减少中继系统的使用,使系统更加轻量便捷。本发明系统结构简单、轻便、成本低、效率高。

    一种自聚焦透镜折射率分布检测系统及方法

    公开(公告)号:CN116008231A

    公开(公告)日:2023-04-25

    申请号:CN202211606819.3

    申请日:2022-12-14

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明涉及一种自聚焦透镜折射率分布检测系统及方法,属于光学测量领域。该系统包括:激光器、匀光系统、会聚透镜、光束准直系统、分束器、自聚焦透镜、标准样片、CCD相机以及图像处理装置;该图像处理装置通过获取在同一曝光条件下采集的自聚焦透镜反射光斑图像和标准样片反射光斑图像并分别对其进行掩膜,提取出自聚焦透镜反射光斑图像和标准样片反射光斑图像中的目标检测区域,从而根据自聚焦透镜反射光斑图像和标准样片反射光斑图像中目标检测区域的光强分布计算出自聚焦透镜折射率分布。本发明方法无需对自聚焦透镜进行切片,检测速度快且检测精度高;并且检测系统体积小,可应用于实际生产中以提高生产效率,具有广泛的应用前景。

    一种基于计算波前编码的偏振无关消色差超透镜

    公开(公告)号:CN113640905B

    公开(公告)日:2022-08-23

    申请号:CN202110902111.1

    申请日:2021-08-06

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于计算波前编码的偏振无关消色差超透镜,包括衬底和旋转对称排布在衬底上的单元纳米柱阵列;阵列中的单元纳米柱被单独编码,以拓展出不同波长光波的聚焦焦深,在消色差带宽两端波长处的焦斑在设计的焦平面上重叠,实现消色差聚焦或成像,从而消除了现有技术中特定线性相位色散的限制,不需要现有技术中通过复杂的纳米结构获得线性相位色散补偿。

    一种基于计算波前编码的偏振无关消色差超透镜

    公开(公告)号:CN113640905A

    公开(公告)日:2021-11-12

    申请号:CN202110902111.1

    申请日:2021-08-06

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种基于计算波前编码的偏振无关消色差超透镜,包括衬底和旋转对称排布在衬底上的单元纳米柱阵列;阵列中的单元纳米柱被单独编码,以拓展出不同波长光波的聚焦焦深,在消色差带宽两端波长处的焦斑在设计的焦平面上重叠,实现消色差聚焦或成像,从而消除了现有技术中特定线性相位色散的限制,不需要现有技术中通过复杂的纳米结构获得线性相位色散补偿。

    基于联合优化多波长光束整形算法的DOE元件设计方法

    公开(公告)号:CN113406793A

    公开(公告)日:2021-09-17

    申请号:CN202110666002.4

    申请日:2021-06-16

    Applicant: 苏州大学

    Inventor: 许峰 王霖 陈昱杰

    Abstract: 本申请提供基于联合优化多波长光束整形算法的DOE元件设计方法,该方法包括:确定待设计的DOE元件的多个中心波长,基于GS算法计算出每个中心波长对应的DOE相位,并将计算的DOE相位分别转化为高度;对不同波长的DOE元件中每个像素点进行高度叠加,每次叠加为对应设计波长的2π相位延迟高度;基于PSO算法计算出能量利用率和照明均匀性的加权平均值为最大时的DOE面形高度。利用该方法设计的DOE元件可以对经过LED准直后的不同波长的平面波实现光束整形,整形后的能量利用率可以达70%以上,平均照度均匀性可以达90%以上。

    一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法

    公开(公告)号:CN110686871B

    公开(公告)日:2021-08-27

    申请号:CN201910944508.X

    申请日:2019-09-30

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明涉及自聚焦透镜领域,具体涉及一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法。一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置,包括相机、显微物镜、自聚焦透镜和导光单元,以及带动导光单元平移的平移台,以及与相机连接的处理单元,所述导光单元上设有条形图。本发明的有益效果在于,与现有技术相比,本发明通过提供一种操作简单、测试快速、自动计算、结果准确客观的自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法,基于计算机处理器对图像数据的处理,实现了高精度的自聚焦透镜数值孔径测量。

    一种自聚焦透镜后截距的测量方法

    公开(公告)号:CN109596321B

    公开(公告)日:2020-06-05

    申请号:CN201811452923.5

    申请日:2018-11-30

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明公开了一种自聚焦透镜后截距的测量方法:使用CCD相机采集一组自聚焦透镜不同位置处的图像,光栅尺采集CCD相机采集图像时自聚焦透镜所在位置,并以自聚焦透镜位置信息为文件名保存到指定图库中;切割图像,提取图像中感兴趣区域包括:会聚点区域和自聚焦透镜边缘区域;利用亮度、面积和集中度来确定焦点位置;利用SFR算法来估计不同图像的锐利度,对锐利度进行插值处理,得到自聚焦透镜表面位置;自聚焦透镜表面与焦点位置的差值即为后截距;此方法利用插值算法,提高了后截距测量的精度及测量速度。

    一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法

    公开(公告)号:CN110686871A

    公开(公告)日:2020-01-14

    申请号:CN201910944508.X

    申请日:2019-09-30

    Applicant: 苏州大学

    Abstract: 本发明涉及自聚焦透镜领域,具体涉及一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法。一种自聚焦透镜的数值孔径测量装置,包括相机、显微物镜、自聚焦透镜和导光单元,以及带动导光单元平移的平移台,以及与相机连接的处理单元,所述导光单元上设有条形图。本发明的有益效果在于,与现有技术相比,本发明通过提供一种操作简单、测试快速、自动计算、结果准确客观的自聚焦透镜的数值孔径测量装置及方法,基于计算机处理器对图像数据的处理,实现了高精度的自聚焦透镜数值孔径测量。

Patent Agency Ranking