一种用于极间多孔介质填充型掩膜电解加工的引液装置

    公开(公告)号:CN104785872A

    公开(公告)日:2015-07-22

    申请号:CN201510205346.X

    申请日:2015-04-28

    CPC classification number: B23H3/00 B23H3/10

    Abstract: 本发明公开了一种用于极间多孔介质填充型掩膜电解加工的引液装置,包括顶盖、密封垫、阴极、非金属柔性多孔介质、掩膜和工件阳极;阴极的正面平整,其背面含有均匀分布的凹槽和两相邻凹槽之间形成的凸台;凹槽包括位于阴极中心的圆形的汇液槽、位于除汇液槽外其他区域的呈风车状分布的弧状的引流槽以及安设于两相邻引流槽之间的出液槽;引流槽与出液槽不贯通;汇液槽和引流槽内开设有进液孔;出液槽内开设有出液孔;顶盖、密封垫、阴极、多孔介质和掩膜自上而下依次紧密贴合于工件阳极之上从而形成核心加工单元。本发明直接通过改造阴极的形状就能使电解产物排出更容易,工件阳极表面流场分布更均匀,进而提高电解加工质量。

    一种电解加工微坑阵列的方法

    公开(公告)号:CN104096931A

    公开(公告)日:2014-10-15

    申请号:CN201410303580.1

    申请日:2014-06-30

    Abstract: 一种电解加工微坑阵列的方法,属于化学加工技术领域。主要包括下列步骤:(a)用电绝缘多孔布(3)包裹微颗粒(6)制备掩膜(4);(b)将掩膜(4)贴合在被加工工件(8)表面上;(c)把工具阴极(2)压在掩膜(4)的另一面上,并使掩膜(4)的厚度分布均匀;(d)在由工具阴极(2)与被加工工件(8)之间形成的并填充有掩膜(4)的极间间隙(5)内通入电解液(1);(e)被加工工件(8)接电源(9)正极、工具阴极(2)接电源(9)负极后,通电进行电解加工;(f)达到加工要求后,关断电源(9),关停电解液(1),去掉掩膜(4),取出被加工工件(8),完成加工。本发明的方法具有掩膜制造简单、应用范围广、工艺成本低等特点,适用于平面或曲面金属零件上加工微坑阵列结构。

    一种电解磨削加工用磨头
    44.
    实用新型

    公开(公告)号:CN206455253U

    公开(公告)日:2017-09-01

    申请号:CN201621313906.X

    申请日:2016-12-02

    Abstract: 本实用新型公开了一种电解磨削加工用磨头,包括内含空腔状圆柱体状的磨头体、磨削条、顶销、左端盖、右端盖和装夹柄;所述的磨头体的圆柱面上设有卡槽和出液孔;所述的卡槽为呈螺旋型走向的方型凹槽,等间隔地设置于磨头体的圆柱面上;所述的磨削条与卡槽配合安装,为可拆卸式;所述的出液孔等间隔地设置于两卡槽之间。磨头体工作时,通过磨头体内部直接向加工间隙提供电解液,供液充分及时,产物不易积累,减少了供液不畅或产物排离不及时而导致的短路烧伤现象。由于此装置采用的磨削条可更换,适应性更好,应用成本更低。

    一种用于电沉积平面件的装置

    公开(公告)号:CN205474068U

    公开(公告)日:2016-08-17

    申请号:CN201620229999.1

    申请日:2016-03-24

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于电沉积平面件的装置,包括外槽、放置于外槽内的电沉积槽、阴极基底、阳极、稳流板和搅拌板;所述的电沉积槽由稳流板分隔为阴极槽区和阳极槽区,所述的搅拌板连接于外驱动源上,并设置于阴极基底与稳流板之间,且与阴极基底平行。此装置工作时,搅拌板在外驱动源的作用下作平动运动,通过稳流板和搅拌板的双重作用,使得阴极基底表面电场分布和流场分布更加均匀。此装置极大地改善了平面电沉积件厚度分布的均匀性。

    一种用于电铸无缝金属薄壁圆管的机构

    公开(公告)号:CN209722330U

    公开(公告)日:2019-12-03

    申请号:CN201920375576.4

    申请日:2019-03-25

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于电铸无缝金属薄壁圆管的机构,它包括芯模本体、止退块、含有中心通孔的脱模块、拉杆、绝缘密封层;所述的芯模本体为圆管体,其内部设有垂直于其轴线的固定筋;所述的止退块设有安装孔;所述的脱模块呈圆台状,其大端直径与芯模本体的外径相同;所述的拉杆呈圆柱体状,设有固定段、安装段、导向段、压紧帽和装夹柄;所述的固定筋设有固定孔;所述的芯模本体、止退块、脱模块从左至右与拉杆可拆卸地配合安装在一起;所述的固定段与所述的固定孔配合安装;所述的安装段与所述的安装孔配合安装;所述的导向段间隙配合地置于中心通孔内。本实用新型能有效降低电铸无缝金属薄壁圆管脱模难度,具有综合成本低,易于实现等优点。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种用于磁力吸附阴极的掩膜电解加工装置

    公开(公告)号:CN207735720U

    公开(公告)日:2018-08-17

    申请号:CN201820028461.3

    申请日:2018-01-09

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于磁力吸附阴极的掩膜电解加工装置,属于电解加工领域。该装置包括永磁块、工件阳极、掩膜、导磁泡沫金属、挂杆、周期换向平动驱动单元、电源、电解槽、电解液和电解液循环过滤单元。基于该装置,永磁块、工件阳极、掩膜和导磁泡沫金属依次紧密叠加在一起组成加工装配体置于电解槽中;工件阳极和导磁泡沫金属分别与电解加工电源的正极和负极连接。在加工的过程中,电解液通过导磁泡沫金属进入加工区域,在内部发生电化学反应,且电解产物从内部的微孔排出加工区域。此装置的压贴、液相传质效果好且电解液流向多样,从而使得加工间隙小、流场分布均匀,有利于提高加工精度。(ESM)同样的发明创造已同日申请发明专利

    一种多功能霍尔槽系统
    48.
    实用新型

    公开(公告)号:CN205653525U

    公开(公告)日:2016-10-19

    申请号:CN201620425565.9

    申请日:2016-05-11

    Abstract: 本实用新型公开了一种多功能霍尔槽系统,该系统包括调节槽、霍尔槽和电沉积槽。所述的电沉积槽设有阴极装夹单元,所述的阴极装夹单元包括设有直槽的装夹杆、定位板、固定件,所述的直槽的轴线平行于阴极壁,所述的调节槽、霍尔槽和电沉积槽共用一个底板,所述的霍尔槽与电沉积槽共用阴极壁,所述的霍尔槽与调节槽共用短侧壁,所述的电沉积槽与调节槽共用侧壁,所述的霍尔槽和电沉积槽的底板上分别设有一排进液孔,所述的调节槽的底板上设有出液孔,所述的霍尔槽的短侧壁和电沉积槽的侧壁均设有溢流口。该系统功能更加完善,除具有现有常规霍尔槽所有功能外,而且还能在接近生产的工艺条件下评测电沉积层的内应力、硬度、厚度等指标的分布特性,且结构简单、成本低廉。

    一种用于掩膜电解加工的导液装置

    公开(公告)号:CN204565360U

    公开(公告)日:2015-08-19

    申请号:CN201520261132.X

    申请日:2015-04-28

    Abstract: 本实用新型公开了一种用于掩膜电解加工的导液装置,包括顶盖、密封垫、阴极、非金属柔性多孔介质、掩膜和工件阳极;阴极的正面平整,其背面含有均匀分布的凹槽和两相邻凹槽之间形成的凸台;凹槽包括位于阴极中心的圆形的汇液槽、位于除汇液槽外其他区域的呈风车状分布的弧状的引流槽以及安设于两相邻引流槽之间的出液槽;引流槽与出液槽不贯通;汇液槽和引流槽内开设有进液孔;出液槽内开设有出液孔;顶盖、密封垫、阴极、多孔介质和掩膜自上而下依次紧密贴合于工件阳极之上从而形成核心加工单元。本实用新型直接通过改造阴极的形状就能使电解产物排出更容易,工件阳极表面流场分布更均匀,进而提高电解加工质量。

    一种电镀挂具
    50.
    实用新型

    公开(公告)号:CN204509499U

    公开(公告)日:2015-07-29

    申请号:CN201520119630.0

    申请日:2015-03-01

    Abstract: 本实用新型提供一种电镀挂具,包括支撑架,其特征在于:还包括一端固定联接于支撑架上的吊杆、压紧螺母、压块和电极安装座;所述的吊杆的另一端设有挡块;所述的压紧螺母与吊杆螺纹副联接;所述的压块套接在吊杆上且置于压紧螺母下方;所述的电极安装座的一端为圆柱体且设有圆环形槽、另一端设有阴极固定座和阳极固定座;所述的圆环形槽的两侧壁各设有具有相同矩形截面和直径的圆环形定位槽;所述的吊杆置于圆环形槽中间;所述的挡块分别与圆环形定位槽滑动配合联接。这种电镀挂具可实现任意角度电极布置方式,且具有结构简单、易于安装调节等优点。

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