搬运装置、及电子器件的形成方法

    公开(公告)号:CN104203779B

    公开(公告)日:2016-04-20

    申请号:CN201280072170.X

    申请日:2012-11-01

    Inventor: 铃木智也

    CPC classification number: B65G49/065 B65G2249/04

    Abstract: 一种搬运基板的搬运装置,具有:支承构件,具有支承基板的一方的面的支承面,形成有贯通支承面和所述支承面的背面的多个贯通孔;保持机构,其具有气体吸引部,该气体吸引部与支承构件的背面中的、包含多个孔的第一区域相对配置;和气体供给部,该气体供给部与支承构件的背面中的第二区域相对配置,其中,第二区域是与第一区域不同的区域,所述保持机构通过相对于支承构件的背面进行气体的供给及吸引,以非接触状态保持支承构件的背面,并且经由多个贯通孔使基板吸附在支承面上。

    用于带状片材基板的搬送装置及处理装置

    公开(公告)号:CN102803109B

    公开(公告)日:2015-04-22

    申请号:CN201180008588.X

    申请日:2011-02-10

    Inventor: 铃木智也

    Abstract: 本发明提供一种用于带状片材基板的搬送装置及处理装置,其中,搬运装置包括:第一导引滚筒(G1)及第二导引滚筒(G2)。带状片材基板(FB)即树脂薄膜或箔(膜),是藉由以第一导引滚筒(G1)被斜向弯折并反转,亦藉由第二导引滚筒(G2)被斜向弯折并反转。根据基板(FB)上的对准标记(AM)的对准摄影机(51)进行的检测,调整机构(52、53)是使导引滚筒(G1、G2)位移或倾斜。该位移(平行移动)或倾斜是将第一及第二导引滚筒(G1、G2)之间的基板(FB)往横截方向移动。处理装置(10)是于基板(FB)的面(FP)上形成有机EL元件。替代导引滚筒(G1、G2)可使用圆锥(G3、G4)。可附加第三导引滚筒(G23)或圆锥(G27)。进而可附加第四导引滚筒(G24)或圆锥(G28)。导引滚筒及圆锥并不接触于基板(FB)的被处理面(Fp)。且基板(FB)向横截方向移动时,于基板(FB)并未产生皱折。

    用于带状片材基板的搬送装置及处理装置

    公开(公告)号:CN102803109A

    公开(公告)日:2012-11-28

    申请号:CN201180008588.X

    申请日:2011-02-10

    Inventor: 铃木智也

    Abstract: 本发明提供一种搬送装置,其中,搬运装置包括:第一导引滚筒(G1)及第二导引滚筒(G2)。带状片材基板(FB)即树脂薄膜或箔(膜),是藉由以第一导引滚筒(G1)被斜向弯折并反转,亦藉由第二导引滚筒(G2)被斜向弯折并反转。根据基板(FB)上的对准标记(AM)的对准摄影机(51)进行的检测,调整机构(52、53)是使导引滚筒(G1、G2)位移或倾斜。该位移(平行移动)或倾斜是将第一及第二导引滚筒(G1、G2)之间的基板(FB)往横截方向移动。处理装置(10)是于基板(FB)的面(FP)上形成有机EL元件。替代导引滚筒(G1、G2)可使用圆锥(G3、G4)。可附加第三导引滚筒(G23)或圆锥(G27)。进而可附加第四导引滚筒(G24)或圆锥(G28)。导引滚筒及圆锥并不接触于基板(FB)的被处理面(Fp)。且基板(FB)向横截方向移动时,于基板(FB)并未产生皱折。

    图案曝光装置
    47.
    发明公开
    图案曝光装置 审中-实审

    公开(公告)号:CN116507960A

    公开(公告)日:2023-07-28

    申请号:CN202180073728.5

    申请日:2021-11-02

    Abstract: 图案曝光装置,其具有:第1光分割器,其设置于第1光束的从第1光源装置到在基板上描绘图案的第1描绘单元之间的光路中,将第1光束的一部分分割为第1测量用光束;第2光分割器,其设置于第2光束的从第2光源装置到在基板上描绘图案的第2描绘单元之间的光路中,将第2光束的一部分分割为第2测量用光束;变动检测光学单元,其接受第1测量用光束和第2测量用光束,并检测第1光束与第2光束的相对的位置变动或者相对的倾斜变动;第1导光系统,其形成基于第1测量用光束的光路;以及第2导光系统,其形成基于第2测量用光束的光路。

    图案描绘装置
    48.
    发明授权

    公开(公告)号:CN107957660B

    公开(公告)日:2020-10-23

    申请号:CN201711205151.0

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘出的图案彼此伴随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。控制部预先存储有与通过多个描绘单元分别在基板上形成的描绘线的相互的位置关系有关的校准信息,并且基于该校准信息和从移动测量装置输出的移动信息来调整通过多个描绘单元各自的描绘光束在基板上的形成的图案的描绘位置。

    基板处理装置
    50.
    发明授权

    公开(公告)号:CN106164779B

    公开(公告)日:2019-01-22

    申请号:CN201580018364.5

    申请日:2015-03-31

    Abstract: 基板处理装置以使得通过多个描绘单元的各描绘线在基板上描绘的图案彼此随着基板向长度方向的移动而在基板的宽度方向上接合在一起的方式,沿基板的宽度方向配置有多个描绘单元。测量装置的反射光检测部设于多个描绘单元的每一个上,当检测到因投射光束的点光而从支承构件的支承面或基板反射的反射光时,基于当支承构件的基准标记位于多个描绘单元各自描绘的描绘线上时从反射光检测部输出的信号,来测量多个描绘线的配置关系。

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