一种屏蔽高能电子的封装涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119592164A

    公开(公告)日:2025-03-11

    申请号:CN202411757376.7

    申请日:2024-12-03

    Abstract: 本发明公开了一种屏蔽高能电子的封装涂层及其制备方法和应用,属于抗辐照金属材料技术领域。本发明解决了现有航空航天领域中所面临的电子元器件被高能电子辐照引起故障问题。本发明将多种金属混合通过高能机械合金化技术合成高熵合金粉体材料,利用环氧树脂作为粘结剂,形成高熵合金/环氧树脂复合防护涂层浆料,将其涂敷在电子元器件表面,得到具有屏蔽高能电子的封装涂层,同时解决了涂层材料与器件外壳的粘附性差的问题。本发明通过高熵合金元素的可调节性,通过调节元素种类和畸变度,利用高熵合金的高畸变度减少原子间距,增加电子在晶胞中的碰撞概率,利用多级Z元素共存实现弹性碰撞和非弹性碰撞的最大化,得到优异的电子防护性能。

    一种具有广角吸收的超黑涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN119535656A

    公开(公告)日:2025-02-28

    申请号:CN202411757378.6

    申请日:2024-12-03

    Abstract: 本发明公开了一种具有广角吸收的超黑涂层及其制备方法和应用,属于超黑涂层及其制备技术领域。本发明解决了现有超黑涂层无法在大角度入射光下呈现出极低散射和高的吸收率。本发明使用炭黑为吸收剂,耐高温硅溶胶溶液作为粘结剂,采用一步烧结法形成稳定结构的同时,构建具有森林状光陷阱阵列结构的超黑涂层。利用超黑涂层表面森林状阵列结构显著地改变了涂层表面的折射率,从而降低其表面光学反射;表面类森林状光陷阱结构紧密排列,能够使得各个角度入射的光在其结构内部来回反射,进而最大程度地吸收入射光,实现广角下稳定的高光吸收,使超黑涂层的反射率不随入射光的角度而明显变化,提升空间光学系统深空探测精度。

    一种屏蔽高能电子的高熵合金涂层及其制备方法和应用

    公开(公告)号:CN118291966B

    公开(公告)日:2025-01-24

    申请号:CN202410342505.X

    申请日:2024-03-25

    Abstract: 本发明公开了一种屏蔽高能电子的高熵合金涂层及其制备方法和应用,属于抗辐照金属材料技术领域。本发明解决了现有航空航天及核工业领域中所面临的高能电子辐照引起器件故障问题。本发明利用激光熔覆技术在铁素体/马氏体钢基体表面制备了具有单一BCC相结构的AlCrFeVWx高熵合金防护涂层,在保证总体密度变化不大的前提下,有效提高了基体材料的辐射屏蔽能力,从而保障了电子器件的稳定运行。并且涂层和基体冶金结合良好,涂层组织均匀结构稳定,表面无裂纹,呈现良好的宏观形貌,具有机械性能优异、高温稳定性强,满足在极端环境长期使用条件,具有广阔的发展潜力。

    一种应用于月球表面的防尘黏附自清洁ZnO双层白色涂层及其制备方法

    公开(公告)号:CN118440548B

    公开(公告)日:2024-12-24

    申请号:CN202410684823.4

    申请日:2024-05-30

    Abstract: 本发明公开了一种应用于月球表面的防尘黏附自清洁ZnO双层白色涂层及其制备方法,属于空间特种功能材料领域。本发明将大粒径ZnO粉体材料(粒径为200nm‑600nm)与树脂粘结混合均匀制成白色浆料,最后通过刮涂技术将浆料覆盖在合金基板上,固化后,将低表面能改性剂改性后的小粒径ZnO粉体(20nm‑100nm)分散在乙醇与水的混合溶液中,利用喷涂技术在热控涂层表面形成透明防尘涂层,最终形成防尘黏附自清洁的ZnO双层白色涂层。通过小粒径ZnO改性的工艺条件、浆料的颜基比小粒径、ZnO改性的工艺条件及喷涂的工艺条件,可以控制涂层材料的组分及表面形貌。本发明应适用于航天器的实际任务环境,可用于深空探测等领域。

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