公开(公告)号：CN103451623B

公开(公告)日：2015-08-26

申请号：CN201310364445.3

申请日：2013-08-20

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 陈蓉 ,  段晨龙 ,  刘潇 ,  曹坤 ,  邓章 ,  单斌 ,  文艳伟

IPC: C23C16/44

Abstract: 本发明公开了一种包覆超细粉体的原子层沉积方法与装置，该方法的特征在于，在前驱体的吸附过程中引入了流化气，利用流化气吹散粉体，实现粉体的充分分散。该装置包括反应腔体，供应系统，真空系统，加热系统，监测系统和控制系统，其特征在于，供应系统包括流化气源，流化气通过流化气输送支路进入反应腔体，用于将粉体吹散到整个反应区域。本发明的方法与装置能有效提高粉体包覆率与沉积均匀性，并使得在每次沉积过程中对大量粉体进行包覆成为可能，提高了粉体包覆的效率。

公开(公告)号：CN204058588U

公开(公告)日：2014-12-31

申请号：CN201420297884.7

申请日：2014-06-06

Applicant: 华中科技大学

Inventor： 陈蓉 ,  段晨龙 ,  刘潇 ,  曹坤 ,  单斌 ,  文艳伟

IPC: C23C16/455 ,  B82Y40/00 ,  B82Y30/00

Abstract: 本实用新型公开了一种用于微纳米颗粒表面修饰的装置，包括：反应腔，其内部形成的空腔用于作为前驱体与微纳米颗粒的反应空间；多个前驱体供应装置，其分别通过管道与所述反应腔相通以提供不同的前驱体；载气输送系统，前驱体通过该载气输送系统输出的载气输送到反应腔中；以及粉体颗粒装载装置，用于承载待修饰的微纳米颗粒；通过多个前驱体供应装置分别向反应腔交替地输送前驱体，并进入旋转的粉体颗粒装载装置中以与微纳米颗粒表面接触进行原子层沉积反应，从而在微纳米颗粒的表面形成包覆薄膜，实现表面修饰。本实用新型还公开了利用上述装置进行微纳米颗粒的表面修饰的方法。本实用新型可以获得颗粒表面高均匀性的包覆层，并提高粉体颗粒的整体包覆率和前驱体的利用率。

公开(公告)号：CN306012252S

公开(公告)日：2020-08-25

申请号：CN202030175345.7

申请日：2020-04-24

Applicant: 华中科技大学无锡研究院

Designer： 陈蓉 ,  闫占奎 ,  刘潇 ,  单斌

Abstract: 1.本外观设计产品的名称：原子层沉积设备。
2.本外观设计产品的用途：用于对纳米粉末颗粒的表面进行原子层沉积，实现纳米粉末材料的修饰和改性。
3.本外观设计产品的设计要点：在于形状。
4.最能表明设计要点的图片或照片：立体图1。
5.本外观设计产品的底面为使用时不容易看到或看不到的部位，省略仰视图。