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公开(公告)号：CN102899701B
公开(公告)日：2016-01-13
申请号：CN201210337502.4
申请日：2012-09-13
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 本发明公开一种Al2O3陶瓷基底上TiO2纳米管有序阵列的制备，该方法包括：（1）使用磁控溅射方法在Al2O3陶瓷片上溅射一层纯钛膜；（2）配置阳极氧化溶液；（3）将溅射有钛膜的Al2O3陶瓷片进行阳极氧化，获得高度有序的TiO2纳米管阵列。该方法克服必须使用钛片或者钛箔制备高度有序纳米管的缺陷，而是使用磁控溅射的方法获得很薄的一层钛膜，并对此进行阳极氧化而获得高度有序的TiO2纳米管阵列。本发明操作简便，反应条件温和，并且磁控溅射方法价格便宜、成膜均匀，可用于大面积制备薄膜，适用于工业化生产。
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公开(公告)号：CN102820461B
公开(公告)日：2014-10-15
申请号：CN201210296983.9
申请日：2012-08-20
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 本发明公开一种EDTA-CA联合络合法制备碳包覆的纳米钛酸锂的方法，通过溶胶凝胶法，并使用EDTA-CA双螯合剂联合络合法制得纯Li4Ti5O12，并进一步进行碳包覆，得到Li4Ti5O12/C负极材料。该方法制备的钛酸锂颗粒分散效果好，颗粒团聚现象得到了显著地改善。制得的Li4Ti5O12/C拥有较高的充放电比容量和较稳定的循环性能，室温条件下，1C倍率时其首次放电容量达到了174.5mAh/g，接近理论容量。10C倍率下其放电容量也达到了140mAh/g以上，并且拥有较稳定的循环性能，在民用便携式电子设备乃至动力设备领域均有广阔的应用前景。
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公开(公告)号：CN103318943A
公开(公告)日：2013-09-25
申请号：CN201310224302.2
申请日：2013-06-05
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 本发明公开一种花状ZnO纳米棒团簇的制备方法，该方法包括：(1)使用磁控溅射技术在Al2O3陶瓷片上溅射一层纯ZnO薄膜；(2)配置生长花状ZnO纳米棒团簇的溶液；(3)将溅射有ZnO薄膜的Al2O3陶瓷片放在所配置溶液中，在烘箱中分两步进行化学溶解，获得花状ZnO纳米棒簇。该制备方法能够成功制得花状的ZnO纳米棒团簇，获得产物具有花状形貌以及高的比表面积和稳定性。本发明操作简便，反应条件温和，可用于大面积制备ZnO纳米棒团簇，适用于工业化生产。
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公开(公告)号：CN102836015A
公开(公告)日：2012-12-26
申请号：CN201210269929.5
申请日：2012-07-31
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 本发明公开一种静电纺丝复合支架及其制备方法，可应用于组织工程。首先采用溶剂挥发沉膜法制备底膜；再利用静电纺丝的先进技术在底膜上喷涂一层纺丝支架层。所述底膜层为实心的膜结构，具有较好机械性能；所述支架层是在该底膜层上利用静电纺丝方法喷涂的一层直径均匀的纳米纤维，具有典型的三维空间结构，利于细胞的粘附和增殖；所述底膜层和支架层均采用可降解的高分子材料制成。与传统的静电纺丝膜相比，本发明的复合膜具有更强的机械性能，同时具有良好的生物相容性。本法制备工艺较简单，制备成本颇低廉，利于推广。
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公开(公告)号：CN102817006A
公开(公告)日：2012-12-12
申请号：CN201210308708.4
申请日：2012-08-28
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 本发明公开一种利用磁控溅射对原子力显微镜探针进行金膜修饰的方法，该方法利用磁控溅射法，室温下在清洗干净的原子力显微镜探针（硅或氮化硅）上依次沉积Cr膜和Au膜；通过改变溅射时间改变Cr膜和Au膜的厚度，最终可得到表面覆有3~20nm铬膜和30~100nm金膜的原子力显微镜探针；可用于微观科学等领域。由于磁控溅射法具有设备简单、成膜均匀、沉积速度快、可用于大面积制膜等优点，该制备方法可在工业化生产中的得到广泛应用。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN101476092B
公开(公告)日：2010-06-23
申请号：CN200910045074.6
申请日：2009-01-08
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 本发明涉及一种金属表面处理技术领域的金属材料变温应力喷丸方法，步骤如下：第一步，首先对材料进行预加拉应力，应力的大小和加载方式：预加拉应力小于材料的屈服强度，加载方式为三点弯曲；第二步，对加载拉应力后的材料进行预热，预热温度及预热方式：材料预热温度在再结晶温度附近，加热方式为整体预热，喷丸过程中不加热；第三步，对加载拉应力并预热后的材料立即实施喷丸处理，喷丸强度和喷丸时间：喷丸强度大于0.1mmA，喷丸时间30～90秒，工件喷丸表面积增大，喷丸时间越长。本发明最大程度的优化了材料表层残余应力分布，材料表面残余压应力、最大残余压应力及其对应层深，和残余压应力总体层深均得到明显提高。
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公开(公告)号：CN101550535A
公开(公告)日：2009-10-07
申请号：CN200910050734.X
申请日：2009-05-07
Applicant: 上海交通大学 , 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司
Abstract: 一种纳米复合薄膜技术领域的复合金属硫化物类金刚石复合薄膜的制备方法，包括：基片抛光洗净烘干；中间层溅射处理；通入乙炔气体；金属硫化物复合靶溅射处理；本发明方法制备获得的复合薄膜具有优异减摩性能以及良好耐磨性能的复合薄膜，制备工艺简单，沉积过程易于控制，薄膜沉积后无需进行热处理，可直接作为机械零部件表面的减摩防护薄膜使用。
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公开(公告)号：CN100387750C
公开(公告)日：2008-05-14
申请号：CN200510030259.1
申请日：2005-09-30
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种固体润滑技术领域的磁控溅射制备减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜的方法。本发明采用IF-WS2靶材与IF-MoS2共溅射，通过调节二者的功率，溅射气压、偏压制备出减摩IF-WS2/IF-MoS2复合薄膜，具体工艺参数为：气压为0.1～1Pa，电源功率为100～300W，基体的偏压为-100V。由于复合薄膜中IF-WS2和IF-MoS2两种固体润滑剂，由于结构相同，晶格常数接近而发生特殊的物理化学作用，使得该减摩复合薄膜在大气和真空环境都具有低的摩擦系数，具有较高的耐潮湿、抗氧化性能和很高的耐磨性能，同时由于溅射有金属Ni中间层，使得薄膜基底有较高的结合力，可用于制造在真空和潮湿空气中交叉使用的轴承、陀螺仪和齿轮等零部件表面的减摩防护薄膜。
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公开(公告)号：CN1727520A
公开(公告)日：2006-02-01
申请号：CN200510050611.8
申请日：2005-07-07
Abstract: 本发明公开的自润多层滑复合涂层是由厚度为10－50nm的金属Mo层与厚度为20－100nm的IF－MoS2层交替形成的多层Mo/IF－MoS2复合涂层，复合涂层的总厚度为1－5μm。该复合涂层的制备是以层状结构的MoS2粉末、纯S粉和金属Mo片为基本原料，采用磁控溅射和多弧离子镀反复交叉溅射沉积金属Mo层与IF－MoS2层而制成。它具有优良的环境稳定性、极低的摩擦系数，较高的耐磨性能，并与金属基底有良好的结合强度，可用于制造在真空和大气等环境中通用的轴承、陀螺仪和齿轮等表面的自润滑耐磨防护涂层。
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公开(公告)号：CN1648646A
公开(公告)日：2005-08-03
申请号：CN200510023778.5
申请日：2005-02-03
Applicant: 上海交通大学
Abstract: 一种用于材料分析测试技术领域的X射线奥氏体测量标定试样的制备方法，本发明具体步骤如下：(1)粉末颗粒尺寸筛选：对奥氏体粉末和铁素体粉末的粒颗进行筛选；(2)混粉：将奥氏体粉末和铁素体粉末放入无水酒精中，按照奥氏体体积分数，利用机械混合方式，将奥氏体粉末与铁素体粉末均匀地混合；(3)热压成型：在高温及真空状态下，将混合粉末热压成型为块体材料；(4)加工处理：利用上述块体材料加工出标定试样，在真空炉中进行退火处理。本发明所制备的X射线奥氏体测量标定试样，用于标定X射线衍射系统。标定试样表面美观，不易生锈，携带方便，奥氏体含量长期保持稳定，可以提高测量结果的可靠性。
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