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公开(公告)号:CN103200991A
公开(公告)日:2013-07-10
申请号:CN201180053749.7
申请日:2011-03-10
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: H01J37/304 , A61N5/1048 , A61N5/1071 , A61N5/1077 , A61N2005/1087 , H01J47/02
Abstract: 本发明的粒子射线治疗装置包括:剂量监视装置(26),该剂量监视装置(26)测定粒子射线的剂量;以及小型电离室(38),该小型电离室(38)对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定,且比所述剂量监视装置(26)要小,所述粒子射线治疗装置将粒子射线进行扫描并将粒子射线照射到照射对象的照射位置,由所述剂量监视装置(26)来测定被照射出的粒子射线的剂量,由所述小型电离室(38)来对通过所述剂量监视装置(26)的粒子射线的剂量进行测定,并基于所述小型电离室(38)测定到的粒子射线的剂量,来求得与所述照射位置相对应的、由所述剂量监视装置(26)所测定到的剂量的修正系数。
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公开(公告)号:CN102905761A
公开(公告)日:2013-01-30
申请号:CN201180023612.7
申请日:2011-06-22
Applicant: 三菱电机株式会社
CPC classification number: G21K1/046 , A61N5/1043 , A61N5/1045 , A61N5/1048 , A61N2005/1052 , A61N2005/1054 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095 , G21K1/10 , G21K5/00
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能以简单的结构来检查扫描机构等的动作、从而可靠性更高的粒子射线照射装置。包括:对扫描出的粒子束(4)的一部分进行屏蔽的粒子束屏蔽体(6);对扫描出的粒子束(4)与该粒子束屏蔽体(6)发生碰撞时所产生的即时信号进行检测的即时信号检测器(11);以及信号比较装置(12),该信号比较装置(12)预测并求出由预先决定的扫描图案所产生的即时信号的产生图案,并将其作为比较用信号时间图案来进行存放,该信号比较装置(12)将检测信号时间图案与所存放的比较用信号时间图案进行比较,以对粒子束的扫描或粒子束屏蔽体(6)的异常进行检测,其中,所述检测信号时间图案是根据预先决定的扫描图案来将粒子束进行扫描并对目标照射粒子束时由即时信号检测器(11)所检测出的信号的时间图案。
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公开(公告)号:CN102844820A
公开(公告)日:2012-12-26
申请号:CN201080066259.6
申请日:2010-05-27
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor: 原田久
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1049 , A61N5/1065 , A61N5/1079 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087 , G21K1/093
Abstract: 本发明的目的在于在粒子射线照射系统中,提供更高精度的剂量分布。照射控制部(13)包括设定带电粒子束的能量的能量设定控制器(14)、控制射束扫描器(41)的射束扫描控制器(16)、及控制射束直径变更器(40、60)的射束直径控制器(15),照射控制部(13)利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为第一射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以对照射目标的规定区域照射带电粒子束,之后,利用射束直径控制器(15)将带电粒子束的射束直径设定为与第一射束直径不同的第二射束直径,利用射束扫描控制器(16)使带电粒子束以阶跃状进行扫描,以控制成对与照射目标的所述规定区域的至少一部分重叠的区域照射带电粒子束。
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公开(公告)号:CN102740929A
公开(公告)日:2012-10-17
申请号:CN201080062466.4
申请日:2010-01-28
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1042 , A61N5/1043 , A61N5/1048 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明的目的在于获得可降低扫描电磁铁的磁滞影响且可实现高精度射束照射的粒子射线治疗装置。其包括:照射管理装置(32),该照射管理装置(32)基于带电粒子束(1b)的目标照射位置坐标(Pi)来控制扫描电磁铁(3);及位置监视器(7),该位置监视器(7)测定带电粒子束(1b)的测定位置坐标(Ps),照射管理装置(32)包括指令值生成器(25),该指令值生成器(25)基于校正数据(Ia)和目标照射位置坐标(Pi)来将控制输入(Io(Ir))输出到扫描电磁铁(3),上述校正数据(Ia)是基于测定位置坐标(Ps)及目标照射位置坐标(Pi)而生成的,上述测定位置坐标(Ps)是扫描电磁铁的励磁图案与正式照射的计划相同的预备照射中,由位置监视器(7)测定的。
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公开(公告)号:CN102264436A
公开(公告)日:2011-11-30
申请号:CN200980152870.8
申请日:2009-04-24
Applicant: 三菱电机株式会社
IPC: A61N5/10
CPC classification number: A61N5/1077 , A61N2005/1087 , A61N2005/1095
Abstract: 本发明的目的在于提供一种能够减小射束尺寸的粒子射线治疗装置。包括:加速器(14),该加速器(14)对带电粒子束进行加速;照射装置,该照射装置包含对上述带电粒子束进行扫描的射束扫描装置5a、5b,将上述带电粒子束照射到照射对象;以及射束输送装置(15),该射束输送装置(15)包括管道,该管道确保有从上述加速器(14)连通到配置在上述射束扫描装置5a、5b的下游侧的射束射出窗(7)的真空区域或气体区域,将从上述加速器(14)射出的上述带电粒子束输送到上述照射装置。
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公开(公告)号:CN1980709A
公开(公告)日:2007-06-13
申请号:CN200580022510.8
申请日:2005-02-04
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor: 原田久
CPC classification number: A61N5/10 , A61N5/1043 , A61N2005/1087 , A61N2005/1096 , G21K5/04
Abstract: 在进行深度方向的照射区域扩大和横向的照射区域扩大的粒子射线照射方法及粒子射线照射装置中,力求使照射目标的各照射层的每一层照射剂量实质上为一定,以简化控制。单元深度方向的照射区域扩大为将沿所述粒子射线束的照射方向的射程互不相同的多层照射层进行叠合的主动的照射区域扩大,另外,横向的照射区域扩大为将所述粒子射线束的照射点沿横向进行叠合的主动的照射区域扩大,此外,配置具有沿照射目标深度方向最深部位的形状的物块,使其横着切割粒子射线束。
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公开(公告)号:CN1846809A
公开(公告)日:2006-10-18
申请号:CN200510129402.2
申请日:2005-12-07
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor: 原田久
CPC classification number: A61N5/10 , A61N5/1037 , A61N5/1044 , A61N2005/1074 , A61N2005/1087
Abstract: 本发明揭示一种可通过次数不多地叠合所希望粒子线的照射轨迹确保剂量分布均匀的粒子线治疗装置。该装置使为照射患部而输送来的粒子线偏转到对所述粒子线行进方向垂直的2个正交方向,并以每一周期返回处在该周期始端的照射位置的方式对所述粒子线的照射位置进行扫描,多次叠合1个所述周期间描绘的轨迹,将希望的计划剂量照射到所述患部;其中仅在所述周期结束时,可切断所述粒子线。
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公开(公告)号:CN1540676A
公开(公告)日:2004-10-27
申请号:CN200410035146.6
申请日:2004-04-23
Applicant: 三菱电机株式会社
Inventor: 原田久
CPC classification number: G21K1/046 , A61N5/1045
Abstract: 一种放射线照射装置,包括:进行多次的放射线波束照射的波束遮断装置;为了在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的多个照射区域中能照射到被照射部位整个面的位置控制装置;以及使各照射区域的重叠区域中的线量分布中具有坡度、在包含由多次的放射线波束的照射所形成的重叠区域在内的被照射部位整个面上使线量分布平坦的多叶式准直仪控制装置。采用本发明,在不用强化照射范围扩大装置性能的情况下具有大的照射范围并可确保线量分布的一样性。
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