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公开(公告)号：CN104115234A
公开(公告)日：2014-10-22
申请号：CN201380009217.2
申请日：2013-02-13
Applicant: 高知有限公司
CPC classification number: H05B6/707 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B6/74 , H05B2206/044 , Y10T29/49018
Abstract: 在此披露了一种用于将RF能量施加于空腔中的物体的装置。该装置可以包括多对辐射端口以及多个导电元件。每对辐射端口可以包括两个辐射端口，这两个辐射端口被配置成用于彼此相干地向该空腔中发射RF辐射；并且可以将每个导电元件位于构成一对辐射端口的两个辐射端口之间。这些导电元件可以被安排成使得由该多对辐射端口所发射的RF辐射比不存在这些导电元件时离该空腔的中心更近地聚焦。
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公开(公告)号：CN102484910B
公开(公告)日：2014-07-09
申请号：CN201080040058.9
申请日：2010-09-08
Applicant: 松下电器产业株式会社
Abstract: 本发明的微波加热装置构成为具备：微波振荡部(10a)，其构成为具有晶体振荡器的基准信号振荡器(11)、相位改变部(12a～12b)及相位同步电路(13a～13d)；控制部(22)，其控制微波振荡部(10a)；以及多个辐射部(20、21)，该多个辐射部配置在收纳被加热物的加热室(100)的壁面上，其中，控制对设置在辐射部(20、21)中的多个微波馈电点(20a、20b和21a、21b)分别提供的微波的相位和功率，来控制从辐射部(20、21)辐射的微波的辐射方式。
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公开(公告)号：CN103843456A
公开(公告)日：2014-06-04
申请号：CN201280047184.6
申请日：2012-08-30
Applicant: 高知有限公司
IPC: H05B6/64
CPC classification number: G01N22/00 , G01N27/00 , G01N27/04 , G06F15/00 , H05B6/6441 , H05B6/688 , H05B6/705 , Y02B40/143
Abstract: 一种用于在置于能量施加区域中的物体的加工期间施加RF能量来检测该物体的加工状态的方法可以包括在加工期间将RF能量施加到该物体上。该方法还可以包括接收计算出的RF反馈，该反馈与该物体的一种或多种加工状态相关；以及在该加工期间监测该计算出的RF反馈以检测该物体的一种或多种加工状态。
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公开(公告)号：CN103797895A
公开(公告)日：2014-05-14
申请号：CN201280044554.0
申请日：2012-09-14
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/705 , G01R21/002 , H05B6/686 , H05B6/808 , Y02B40/143
Abstract: 微波处理装置具有：振荡部（12）；功率放大部（13）；加热室（14），其收纳被加热物（18）；供电部（15），其配置于加热室（14）的壁面，被传输有微波产生部的输出，并将该微波放射而提供到加热室（14）内；以及，功率检测部（16），其检测从供电部（15）反射到功率放大部（13）的功率，使用反射功率的极小点频率的上位的数个点来决定多个加热频率，在规定的单位时间内进行频率跳变加热。
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公开(公告)号：CN101897234B
公开(公告)日：2014-05-07
申请号：CN200880120818.X
申请日：2008-12-08
Applicant: 松下电器产业株式会社
Inventor： 内山智美
CPC classification number: H05B6/705 , H05B6/6408 , H05B6/688 , H05B6/725 , Y02B40/146
Abstract: 一种烹饪装置，能够有效加热盛放在盛放台上的待加热物体，所述盛放台既是加热室的底部表面，也是在加热室的加热盘上。该烹饪装置具有：加热室(11)，待加热物体盛放在盛放台(11a)上，盛放台也是加热室的底部表面；加热盘(30)，其适于为可附着和可拆卸的，并且与上述待加热物体不同的待加热物体盛放在其上；用于产生微波的高频波供应装置(40)；用于辐射由高频波供应装置(40)产生的微波的天线(43)；和用于控制待加热物体的加热的控制装置。所述控制装置控制天线(43)以使得天线(43)选择性地辐射不同的微波用于下面的两种情形并在物体的加热完成后停止操作：其中至少一个待加热物体盛放在加热室的盛放台(11a)上的情形；以及其中至少一个待加热物体盛放在盛放台(11a)和加热盘的每一个上的情形。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103533690A
公开(公告)日：2014-01-22
申请号：CN201210232055.6
申请日：2012-07-05
Applicant: NXP股份有限公司
IPC: H05B6/68
CPC classification number: F24C7/02 , H05B6/686 , H05B6/705 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 公开了一种微波炉的微波功率源和工作频率调整方法。微波功率源包括：锁相频率发生器，产生多个工作频率；驻波检测电路，针对每一个工作频率，检测微波炉腔体的驻波并提供驻波信息；以及微控制器，根据驻波信息选择所述多个工作频率之一，并控制锁相频率发生器产生所选的工作频率，使得微波炉工作在所选的工作频率上。利用本发明实施例，能够根据微波炉腔体的驻波比变化自动调整微波炉的工作频率。
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公开(公告)号：CN102474925B
公开(公告)日：2013-11-06
申请号：CN201080030892.X
申请日：2010-06-28
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/686 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明的目的在于提供在加热室内设置多个供电部、并根据来自各个供电部的反射功率信息将被加热物均匀加热至期望状态的微波加热装置以及微波加热控制方法，为了实现该目的，控制部(21)进行如下控制：使微波产生部(10)以对被加热物进行加热的加热频率进行工作而将微波功率从多个供电部(20a、20b、20c、20d)供给到加热室(10)，根据功率检测部(18a、18b、18c、18d)检测到的检测信号的检测电平的每单位时间的增减变化状态来估计被加热物的加热状态，控制从供电部供给到加热室的微波功率和加热频率。
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公开(公告)号：CN102124814B
公开(公告)日：2013-10-23
申请号：CN201080002350.1
申请日：2010-05-31
Applicant: 松下电器产业株式会社
IPC: H05B6/68
CPC classification number: H05B6/686 , H05B6/70 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 本发明的高频加热装置具有：多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)，其放射多种高频功率；以及控制部(150)，其对多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)设定由多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)放射的高频功率的各种频率的组合，多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)中的逆流功率检测部(108a、108b、108c)独立检测反射功率和通过功率，控制部(150)根据检测到的反射功率以及通过功率的相位和振幅，确定在加热被加热物时使多个高频功率产生单元(101a、101b、101c)产生的多种高频功率的组合。
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公开(公告)号：CN102754522A
公开(公告)日：2012-10-24
申请号：CN201180009116.6
申请日：2011-03-22
Applicant: 松下电器产业株式会社
CPC classification number: H05B6/80 , F25D31/005 , F25D2400/02 , H05B6/686 , H05B6/688 , H05B6/705 , H05B6/72 , H05B6/763 , H05B2206/044 , Y02B40/143
Abstract: 为了使电波传送抑制部（19）的功能在整个外周有效地发挥作用，使与开闭门（12）相对的收纳空间（11）的截面形状为椭圆形状，以该收纳空间（11）的内壁面与整个外周大致等间隔的方式配置有电波传送抑制部（19b）。
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公开(公告)号：CN102597792A
公开(公告)日：2012-07-18
申请号：CN201080050438.0
申请日：2010-05-12
Applicant: 高知有限公司
Inventor： 亚历山大·比尔钦斯基 , 艾兰·本-什穆尔 , 平夏斯·艾森格 , 阿米特·拉贝尔
IPC: G01R29/10
CPC classification number: H05B6/705 , H05B1/02 , H05B6/00 , H05B6/6447 , H05B6/6455 , H05B6/68 , H05B6/686 , H05B6/687 , H05B6/688 , H05B6/70 , H05B6/72 , H05B2206/044 , Y02B40/143 , Y02B40/146
Abstract: 用于施加EM能量到负载的设备和方法。该设备和方法包括至少一个处理器，该处理器被配置为接收指示对于多个调制空间元件中的每一个由负载所耗散的能量的信息。该处理器还可以被配置为基于所接收的信息将该多个调制空间元件中的每一个与功率应用的相应的持续时间相关联。该处理器可以进一步被配置为调节施加到负载的能量以便对于该多个调制空间元件而言在功率应用的相应的持续时间施加功率到负载。
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