公开(公告)号：CN100457749C

公开(公告)日：2009-02-04

申请号：CN200480002268.3

申请日：2004-01-09

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 宫松隆 ,  庭田弘一 ,  江幡敏 ,  王勇

IPC: C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C08L33/06

Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良，且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、-OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等，R2表示(取代)烷基，或者2个以上的R2相互结合形成环状结构，p为0～7，q为0～6，n为0～3，X-表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。

公开(公告)号：CN1276303C

公开(公告)日：2006-09-20

申请号：CN02160643.9

申请日：2002-06-28

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 江幡敏 ,  米田英司 ,  永井智树 ,  舍人达也 ,  王勇 ,  岩泽晴生 ,  西村幸生

IPC: G03F7/004

CPC classification number: C07C309/23 ,  C07C309/17 ,  C07C309/19 ,  C07C381/12 ,  C07C2602/42 ,  C07C2603/86 ,  C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C07D335/02 ,  C07D347/00 ,  G03F7/0045 ,  G03F7/0392 ,  G03F7/0757 ,  Y10S430/114 ,  Y10S430/115

Abstract: 提供了一种含有下式(I)的结构的新的光致酸发生剂，其中R表示具有小于或等于50%的氟含量的一价有机基团、硝基、氰基或氢原子，Z1和Z2各自是氟原子或直链或支链有1-10个碳原子的全氟烷基。当用于化学放大辐射敏感树脂组合物时，光致酸发生剂表现出高透明度、较高的可燃性，和没有生物累积，产生的酸表现出高酸性、高沸点、在树脂涂层中适度的扩散长度以及对掩模图形密度的低依赖性。

公开(公告)号：CN1738813A

公开(公告)日：2006-02-22

申请号：CN200480002268.3

申请日：2004-01-09

Applicant: JSR株式会社

Inventor： 宫松隆 ,  庭田弘一 ,  江幡敏 ,  王勇

IPC: C07D333/46 ,  C07D333/78 ,  C08L33/06

Abstract: 提供一种在波长220nm以下的透明性优良，且作辐射敏感性酸产生剂时其感光度、分辨率、图案形状、LER、保存稳定性等性能优良的锍盐化合物以及以该化合物作为辐射敏感性酸产生剂的正型辐射敏感性树脂组合物。锍盐化合物用通式(1)表示。[R1表示卤素原子、烷基、1价的脂环烃基、烷氧基、－OR3基(R3为1价的脂环烃基。)等，R2表示(取代)烷基，或者2个以上的R2相互结合形成环状结构，p为0～7，q为0～6，n为0～3，X－表示磺酸阴离子。]正型辐射敏感性树脂组合物含有(A)由该锍盐化合物构成的辐射敏感性酸产生剂和(B)含有酸解离性基的树脂。