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公开(公告)号：CN205435230U
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201620226471.9
申请日：2016-03-23
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: B01D46/00
Abstract: 本实用新型提供一种具有内置式气液分离单元的湿法工艺设备，包含：一工艺腔体；一气体处理单元；以及一气液分离单元，连接在所述工艺腔体与所述气体处理单元之间，包含一传输管道和一过滤元件，所述传输管道包括：一进入段，用于将所述工艺腔体内的一化学性气液混合物输入所述气液分离单元内；一反应段，用于容置所述过滤元件，使得通过所述过滤元件的所述化学性气液混合物分离为一化学液体和一废气；以及一排气段，用于将所述废气排入所述气体处理单元，其中所述气液分离单元的所述进入段与所述反应段设置在所述工艺腔体的内部。
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公开(公告)号：CN205435200U
公开(公告)日：2016-08-10
申请号：CN201620226168.9
申请日：2016-03-23
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 本实用新型提供一种用于湿法工艺设备的气液分离装置，包含：一输入通道，与一湿法工艺设备连接，用于将所述湿法工艺设备的一化学性气液混合物输入所述气液分离装置；一螺旋杆，设置在所述气液分离装置的内部，用于将所述化学性气液混合物分离为一废气和一化学液体；一排液通道，位于所述湿法工艺设备的底部，与一用于收集所述化学液体的液体回收装置连接；以及一排气通道，用于将所述废气排出。
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公开(公告)号：CN206293413U
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201621186842.1
申请日：2016-10-28
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型所揭为一种湿式蚀刻装置，所述湿式蚀刻装置包括一腔体、若干蚀刻液喷嘴一承载平台以及一导引装置。所述腔体包括一进气口以及一出气口。所述若干蚀刻液喷嘴设置于所述腔体中以对一基板进行蚀刻。所述承载平台包括一本体以及若干平台喷嘴。所述本体设置于所述基板下方。所述若干平台喷嘴贯穿所述本体，一液体透过所述若干平台喷嘴提供一液体浮力以承载所述基板。所述导引装置包括若干导引口使所述基板移动，进而解决所述基板的移动问题。
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公开(公告)号：CN206225335U
公开(公告)日：2017-06-06
申请号：CN201621185885.8
申请日：2016-11-04
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种湿式制程设备，包含一槽体、多个液浮载板以及多个导轮，所述槽体内形成有一槽室，所述槽室用以容置一基板，所述多个液浮载板设置在所述基板下方并用以对所述基板喷射一处理液，所述多个导轮用以输送所述基板，各导轮包含一轮轴部以及一轮体部，所述轮轴部具有一径向及一轴向，所述径向垂直于所述轴向，所述导轮绕所述轴向旋转，所述轮体部沿所述径向延伸于所述轮轴部，所述轮体部具有一胎面，所述胎面上形成有多个导轮出水孔，所述多个导轮出水孔用以对所述基板喷射所述处理液。
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公开(公告)号：CN206098361U
公开(公告)日：2017-04-12
申请号：CN201621136855.8
申请日：2016-10-19
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型公开了一种湿式制程设备，包含一腔体、一输送机构、一喷洒模块、多个液浮载板以及一盛盘，所述腔体内形成有用以容置一基板的一腔室，所述输送机构对应所述基板的一侧边部并用以输送所述基板，所述喷洒模块设置在所述腔室内并用以对所述基板的一上表面喷洒一处理液，所述多个液浮载板设置在所述喷洒模块下方并用以对所述基板的一下表面喷射所述处理液，所述盛盘设置在所述多个液浮载板周围，所述盛盘盛装所述处理液，使盛装在所述盛盘的所述处理液漫淹所述基板的所述上表面。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN205999280U
公开(公告)日：2017-03-08
申请号：CN201620770786.X
申请日：2016-07-21
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 本实用新型公开了一种湿式制程设备，用以输送一基板，所述湿式制程设备包含一槽体、多个导轮以及多个液浮载板，所述槽体用以容置所述基板，所述多个导轮设置在所述槽体内并用以支撑所述基板的一侧边部，所述多个液浮载板设置在所述基板下方，各液浮载板包含多个直行水流通道以及一斜行水流通道，所述斜行水流通道设置在所述多个直行水流通道与所述液浮载板的一边缘之间，所述斜行水流通道的走向斜交于所述多个直行水流通道，所述斜行水流通道与所述多个直行水流通道共同在所述基板与所述多个液浮载板间形成能液浮支撑所述基板的一薄膜层流。
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公开(公告)号：CN205582894U
公开(公告)日：2016-09-14
申请号：CN201620283668.6
申请日：2016-04-07
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型提供一种具有气体循环装置的湿法工艺设备，包含：一工艺腔体，包含分别位在所述工艺腔体的相对两侧壁的一第一排气孔和一第一进气孔；以及一气体循环装置，包括：一抽气单元，设置在所述工艺腔体之外；以及一传输管路，与所述抽气单元连接，且与所述第一排气孔和所述第一进气孔连通，其中所述抽气单元将所述工艺腔体内的一气体通过所述第一排气孔抽进所述传输管路，并且所述气体通过所述第一进气孔回送至所述工艺腔体内部。
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公开(公告)号：CN206293411U
公开(公告)日：2017-06-30
申请号：CN201621112086.8
申请日：2016-10-11
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H01L21/67
Abstract: 本实用新型涉及一种液位控制系统。本实用新型通过利用一液体移除装置将一液体从一水槽逐渐移除，以达到基板在固定时间内均匀分段浸泡程序，进而避免现有技术中因机械移动基板方式，容易会有微振动而造成液面扰动进而造成基板因处理不均匀而报废的问题。
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公开(公告)号：CN205740751U
公开(公告)日：2016-11-30
申请号：CN201620602647.6
申请日：2016-06-17
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
Abstract: 一种湿式制程设备，包含一槽体、多个导轮、多个液浮载板以及一水路模块，所述槽体用以容置一基板，所述多个导轮设置在所述槽体内并用以支撑所述基板的一侧边部，所述多个液浮载板设置在所述基板下方，所述多个液浮载板用以对所述基板喷射一处理液，以在所述基板与所述多个液浮载板间形成一薄膜层流，所述水路模块耦接于所述多个液浮载板，所述水路模块控制所述多个液浮载板产生沿一输送方向流动或沿相反于所述输送方向的一回复方向的所述薄膜层流。
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公开(公告)号：CN205726686U
公开(公告)日：2016-11-23
申请号：CN201620324302.9
申请日：2016-04-18
Applicant: 盟立自动化股份有限公司
IPC: H05K3/00
Abstract: 本实用新型涉及一种湿式蚀刻装置，包括一腔体以及一蚀刻喷洒模块。该腔体包括一进气口以及一出气口。该蚀刻喷洒模块设置于该腔体中以对一基板进行蚀刻。该蚀刻喷洒模块包括一网板以及若干个喷嘴。该网板包括若干个孔洞。这些喷嘴设置于该网板之上方，这些孔洞之口径小于这些喷嘴之口径。该湿式蚀刻装置能将蚀刻液均匀地喷洒在基板上。
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