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公开(公告)号：CN109425592B
公开(公告)日：2021-06-01
申请号：CN201710775064.2
申请日：2017-08-31
Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
IPC: G01N21/49
Abstract: 本发明涉及一种碳纳米管观测装置，包括：一种一维纳米材料观测装置，包括：一第一光源与一第二光源，分别用于提供第一入射光与第二入射光，所述第一光源与所述第二光源为连续光谱光源；一承载装置，用于承载待测一维纳米材料及耦合液；以及一光学显微镜，用于观测所述待测一维纳米材料。本发明提供的观测装置可以观测任意形态结构及排列方向的一维纳米材料，获取该一维纳米材料的位置、形态及手性信息。
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公开(公告)号：CN107564917B
公开(公告)日：2020-06-09
申请号：CN201610502873.1
申请日：2016-07-01
Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
Abstract: 一种纳米异质结构，包括一第一金属型碳纳米管，一半导体型碳纳米管，一半导体层以及一第二金属型碳纳米管；所述半导体层包括一第一表面以及一相对的第二表面，所述第一金属型碳纳米管和所述半导体型碳纳米管平行间隔设置于第一表面，所述第二金属型碳纳米管设置于第二表面；所述第一金属型碳纳米管和所述半导体型碳纳米管朝第一方向延伸，所述第二金属型碳纳米管朝第二方向延伸，第二方向和第一方向形成一夹角，该夹角大于0度小于等于90度。
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公开(公告)号：CN109425591A
公开(公告)日：2019-03-05
申请号：CN201710773546.4
申请日：2017-08-31
Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
IPC: G01N21/49
Abstract: 本发明涉及一种碳纳米管观测方法，包括：提供一待测一维纳米材料；将所述待测一维纳米材料浸没于耦合液中；提供一第一入射光以及一第二入射光同时照射所述待测一维纳米材料，该待测一维纳米材料在所述第一入射光与所述第二入射光的照射下发生共振瑞利散射，所述第一入射光与所述第二入射光具有连续光谱且入射方向互不平行；以及利用光学显微镜观测发生共振瑞利散射的待测一维纳米材料。本发明提供的观测方法可以观测任意形态结构及排列方向的一维纳米材料，获取该一维纳米材料的位置、形态及手性信息。
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公开(公告)号：CN107564862A
公开(公告)日：2018-01-09
申请号：CN201610502909.6
申请日：2016-07-01
Applicant: 清华大学 , 鸿富锦精密工业(深圳)有限公司
IPC: H01L21/8238 , B82B3/00 , B82B1/00
CPC classification number: H01L51/0562 , H01L51/0012 , H01L51/0017 , H01L51/0026 , H01L51/0029 , H01L51/003 , H01L51/0031 , H01L51/0048 , H01L51/0558 , H01L2251/301
Abstract: 一种纳米异质结构的制备方法，包括：提供一支撑结构，在支撑结构上形成一第一碳纳米管层，该第一碳纳米管层包括多个第一碳纳米管；在所述第一碳纳米管层上形成一半导体层；覆盖一第二碳纳米管层于所述半导体层上，该第二碳纳米管层包括多个第二碳纳米管；在所述第一碳纳米管层中找出平行且间隔设置的一个第一金属性碳纳米管和一个半导体性碳纳米管，标识该第一金属性碳纳米管和半导体性碳纳米管，在第二碳纳米管层中找出一个第二金属性碳纳米管，该第二金属性碳纳米管的延伸方向与所述第一金属性碳纳米管和半导体性碳纳米管的延伸方向交叉，标识该第二金属性碳纳米管，将其余的第一碳纳米管和第二碳纳米管刻蚀去除；以及将上述结构进行退火处理。
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公开(公告)号：CN103441708B
公开(公告)日：2016-05-18
申请号：CN201310406596.0
申请日：2013-09-09
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
Abstract: 一种模块化动铁式六自由度磁浮运动平台，主要应用于半导体光刻设备中。该运动平台包括基座、至少一个磁浮平面电机模块和一个体感控制器；每个磁浮平面电机模块由一个磁浮平面电机动子和一个磁浮平面电机定子组成，可实现微动工作台在水平面内沿X方向、沿Y方向和绕Z轴旋转。本发明与现有技术相比，由于线圈经过优化，不同规格的线圈能够适应一定的推力区间，因此可根据不同的承载力要求进行组合，具有结构简单，高效集成，节约生产成本等特点。
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Patent Agency Ranking
公开(公告)号：CN103715975B
公开(公告)日：2016-04-20
申请号：CN201310750361.3
申请日：2013-12-31
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技股份有限公司
Inventor： 朱煜 , 张鸣 , 刘召 , 刘峰 , 成荣 , 支凡 , 胡金春 , 徐登峰 , 杨开明 , 张利 , 秦慧超 , 赵彦坡 , 胡清平 , 叶伟楠 , 张金 , 尹文生 , 穆海华
IPC: H02P31/00
Abstract: 一种控制平面电机线圈电流快速切换的装置，包含控制区和电子开关阵列区。控制区根据平面电机供电需求给出控制指令，控制电子开关做出相应开关动作。按照行列方式排布控制区的多路输出线路，每个行列交点位置布置一个电子开关，每个电子开关由行、列两个指令控制闭合或者断开，每个开关连接一个或者多个线圈。本发明可以通过实际需求设定开关阵列的大小，结构柔性高，同时能够减少所需控制端口的数量，进而能够适用于不同类型平面电机。
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公开(公告)号：CN103383526B
公开(公告)日：2015-09-30
申请号：CN201310153408.8
申请日：2013-04-27
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种粗精动叠层工作台，主要应用于半导体光刻设备中。本发明含有精动台在水平面内X方向、Y方向和绕Z轴旋转的第一种电磁力驱动模块和精动台沿Z方向、绕X轴旋转和绕Y轴旋转的第二种电磁力驱动模块；第一种电磁力驱动模块和第二种电磁力驱动模块均采用四组，四组第一种电磁力驱动模块和四组第二种电磁力驱动模块相间布置。第一种电磁力驱动模块的永磁体、轭铁和永磁体骨架及四组第二种电磁力驱动模块的永磁体、永磁体骨架共同组成精动台的动子部分；四组第一种电磁力驱动模块和四组第二种电磁力驱动模块的线圈和线圈骨架及微动台基座共同组成精动台的定子部分。本发明具有结构更加简单、紧凑、质心驱动和微动台动子惯量小等特点。
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公开(公告)号：CN103701403A
公开(公告)日：2014-04-02
申请号：CN201310750666.4
申请日：2013-12-31
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
Inventor： 朱煜 , 张鸣 , 刘召 , 刘峰 , 徐登峰 , 支凡 , 胡金春 , 成荣 , 杨开明 , 张利 , 秦慧超 , 赵彦坡 , 胡清平 , 叶伟楠 , 张金 , 尹文生 , 穆海华
Abstract: 一种多通道线圈电流切换的装置，包含控制模块和多路电子开关，控制模块含有多路输出接口，每路接口连接一个电子开关；电子开关通过输出接口的控制信号做出闭合或者断开动作，实现线圈与驱动器之间的导通或者断路。控制模块具有通讯接口，可以与主机进行通讯，根据控制指令给出多路控制信号，控制相应的线圈通电或者断电，从而实现线圈切换。与现有技术相比，该电流切换的装置能够实现多路线圈的切换，每路电子开关相互独立，能够实现任意规律的线圈电流切换。
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公开(公告)号：CN103454864A
公开(公告)日：2013-12-18
申请号：CN201310390450.1
申请日：2013-08-30
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种粗精动一体的磁浮掩膜台系统，主要用于光刻机系统中。该系统包括掩膜台、驱动电机和机架；驱动电机为动铁式磁浮平面电机，驱动电机的永磁体阵列和掩膜台连接在一起，组成了该掩膜台系统的动子部分；驱动电机的线圈阵列和机架连接在一起，组成了该掩膜台系统的定子部分；驱动电机可实现该掩膜台系统的六自由度运动，平面光栅尺则作为该掩膜台系统的测量传感器用于掩膜台的位置反馈测量。粗精动一体磁浮掩膜台在减小了掩模台体积的同时既提高了掩模台的速度、加速度和控制带宽，又满足了高运动精度和定位精度的要求，进而提高了光刻机的生产率、套刻精度和分辨率。
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公开(公告)号：CN103439867A
公开(公告)日：2013-12-11
申请号：CN201310388961.X
申请日：2013-08-30
Applicant: 清华大学 , 北京华卓精科科技有限公司
IPC: G03F7/20
Abstract: 一种用于光刻机工件台的线缆台，主要应用于半导体光刻机中。该线缆台含有从平面电机引出的线缆束、X方向和Y方向直线导轨滑块机构、X方向直线电机和Y方向驱动装置。Y方向直线导轨滑块机构通过L型连接板与X方向直线导轨滑块机构的滑块连接；线缆束与X方向直线导轨滑块机构的滑块连接；Y方向驱动装置含有微型伺服电机、一个沿Y轴方向布置的同步带传动机构和悬臂支撑杆。本发明的线缆束与平面电机之间没有硬连接，线缆台可自由运动；通过线性光栅尺和光电位置探测器跟随的方式控制线缆台和平面电机动子之间的距离，避免了线缆束对平面电机动子运动的干扰，进而降低了线缆束对工作台的响应速度和运动过程中的速度和运动定位精度的影响。
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