公开(公告)号：CN102640058A

公开(公告)日：2012-08-15

申请号：CN201080054737.1

申请日：2010-11-10

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 水村通伸 ,  桥本和重 ,  畑中诚

IPC: G03F7/20 ,  H01L21/027

CPC classification number: G03F7/70275

Abstract: 本发明提供一种曝光装置，其具有：光掩模（10、24），该光掩模形成有与被曝光在TFT用基板（4）的表面上的曝光图案相同形状的掩膜图案，该TFT用基板（4）被保持在载物台（8）上；透镜组装体（11、25），该透镜组装体将多个单元透镜组（15、29）排列在与光掩模（10、24）以及被保持在载物台（80）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内，单元透镜组（15、29）是在光掩模（10、24）的法线方向上配置多个凸透镜（14、28）而构成的，能够将形成在所述光掩模（10、24）上的掩膜图案的等倍正立像成像在TFT用基板(4)表面上；和移动单元（12、26），该移动单元使得该透镜组装体（11、25）在与光掩模（10、24）以及载物台（8）上的TFT用基板（4）的表面平行的面内移动。

公开(公告)号：CN101990651A

公开(公告)日：2011-03-23

申请号：CN200980112848.0

申请日：2009-04-02

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 梶山康一 ,  水村通伸 ,  桥本和重

IPC: G02F1/1337

CPC classification number: G02F1/133788

Abstract: 本发明涉及一种液晶显示装置的制造方法，其在对在TFT基板和相对电极基板之间以矩阵状形成多个像素并密封有液晶的液晶显示用基板的所述各像素施加了电场的状态，对所述液晶显示用基板照射规定波长的光，使得所述液晶的分子定向于规定方向，包括：将所述液晶显示用基板和灯体以相互相对的状态浸入到具有规定值以上的电阻率并对所述光具有充分的高透过率的透明液体中的步骤；和在对所述各像素施加了规定量的电场的状态下点亮所述灯体并对所述液晶显示用基板照射规定光量的所述光的步骤。

公开(公告)号：CN207164464U

公开(公告)日：2018-03-30

申请号：CN201590001086.8

申请日：2015-12-16

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G03F7/20 ,  G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  H01L21/027

CPC classification number: G02F1/13 ,  G02F1/1337 ,  G03F7/20 ,  H01L21/027

Abstract: 本实用新型提供一种曝光装置(1)，该曝光装置(1)的光照射部(10)设置于载置曝光对象物(W)的工作台(21)的上方，且设置为能够装卸棒状的光源(11)，关于该光照射部(10)，在曝光时将光照射部(10)配置为光源(11)的长边方向与曝光对象物(W)的扫描方向正交，且在更换光源(11)时使光照射部(10)从曝光时的位置旋转大致45度以上。由此，能够有效利用曝光装置(1)外的空间。

公开(公告)号：CN204650013U

公开(公告)日：2015-09-16

申请号：CN201520088043.X

申请日：2015-02-06

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成

IPC: G02B5/30 ,  G02B27/28 ,  G02F1/1337

Abstract: 本实用新型提供一种偏振器及偏振光照射装置，在偏振器单体或并列配置多个偏振器的偏振光照射装置中，以高精度进行偏振器的偏光轴方向的调整。所述偏振器具备：基板(10)，在表面形成有线栅(G)；及遮光部(11、11A)，形成于基板(10)上且阻挡透射基板(10)的光，光透射的光透射区域(12A)与遮光部(11、11A)的边界线(L)相对于线栅(G)的延伸方向在设定方向上形成为直线状。

公开(公告)号：CN203720500U

公开(公告)日：2014-07-16

申请号：CN201420086932.8

申请日：2014-02-27

Applicant: 株式会社V技术

Inventor： 桥本和重 ,  新井敏成 ,  富塚吉博

IPC: G02F1/1337 ,  G02B5/30

Abstract: 本实用新型提供一种光取向用偏振照射装置，其即使长期使用也可抑制线栅偏振器或特定波长选择滤波器的性能劣化，且耐久性高。本实用新型的光取向用偏振照射装置(1)，其沿着形成取向膜的基板(W)的宽度方向延伸设置光照射部(2)，一边沿着与基板(W)的宽度方向交叉的扫描方向(S)扫描基板(W)或光照射部(2)，一边向基板(W)上照射特定波长的偏振光，所述光照射部(2)具备光源(20)、特定波长选择滤波器(21)以及线栅偏振器(22)，其中，光照射部(2)具备包覆线栅偏振器(22)的导电体栅格(22B)的防氧化膜(22C)，且具备对线栅偏振器(22)进行冷却的空冷装置(23)。